本發明涉及一種用于對半導體基板、液晶顯示用或者有機el(electroluminescence；電致發光)顯示裝置等fpd(flat?panel?display；平面顯示器)用基板、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等各種基板進行規定的處理的基板處理裝置。

背景技術：

1、以往，作為這種裝置，有一種具有批量(batch)式模塊以及單片式模塊的裝置(例如參照專利文獻1)。批量式模塊對復數片基板一并進行規定的處理。單片式模塊一片一片地對基板進行規定的處理。批量式模塊以及單片式模塊分別具有獨自的優點。例如，單片式模塊的干燥處理中的微粒性能比批量式模塊高。因此，作為具有批量式模塊以及單片式模塊的裝置，能考慮下述結構：在批量式模塊中進行液體處理后，在單片式模塊中進行干燥處理。

2、在專利文獻1所記載的裝置中，進行干燥處理的單片式腔室在水平方向上排成一列。在設置有復數個單片式腔室中的任一個單片式腔室中對批量處理后的基板實施干燥處理。即，批量處理后的基板被能夠在單片式腔室的排列方向上移動的搬運機構搬運，并被導入至能夠接收基板的單片式腔室。當結束批量處理時，復數片基板變為等待干燥處理的狀態。單片式腔室僅能一片一片地進行基板的干燥處理。因此，專利文獻1所記載的裝置以提高處理量的目的將復數個單片式腔室搭載于裝置，并同時對不同的基板進行干燥處理。在專利文獻1所記載的裝置中，為了快速地結束對于復數片基板的干燥處理，只要將盡可能多的單片式腔室在水平方向上排列成一列即可。

3、現有技術文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：日本特表2016-502275號公報

技術實現思路

1、發明要解決的課題

2、然而，具有這種結構的以往的裝置存在下述問題。

3、即，在以往的裝置中，若增設單片式腔室，則增設的數量將導致裝置大型化。根據以往的結構，當增設單片式腔室時，由于僅將單片式腔室在水平方向上排列成一列，因此，單片式腔室的數量會導致基板處理裝置的長度延伸。在基板處理裝置中能容許的長度是存在限度的。由于這種限度，根據以往的結構只能限定單片式腔室的數量。根據這種裝置，單片式腔室的處理速度會變成裝置整體的處理速度中的瓶頸，處理整體的處理量低。

4、本發明鑒于這種情況而提出，提供一種基板處理裝置，抑制裝置的尺寸，并使所配置的單片式腔室的個數增加，從而改善處理量。

5、用于解決課題的手段

6、本發明為了實現這種目的，采用下述結構。

7、(1)一種基板處理裝置，用于連續地進行一并處理復數片基板的批量處理以及一片一片地處理基板的單片處理，其特征在于，所述基板處理裝置具有：供給區塊，供給復數片基板；移載區塊，與所述供給區塊鄰接；以及處理區塊，與所述移載區塊鄰接；所述供給區塊具有一并搬運機構，所述一并搬運機構從承載器搬出水平姿勢且在鉛垂方向上以規定間隔排列的復數片基板并送出至所述移載區塊中的去路用基板交接位置，從所述移載區塊中的返路用基板交接位置接取水平姿勢且在鉛垂方向上以所述規定間隔排列的復數片基板并容納于所述承載器；所述移載區塊具有：第一姿勢轉換機構，一并保持在所述去路用基板交接位置待機的復數片基板，并將復數片基板的姿勢一并從水平姿勢轉換成鉛垂姿勢；以及鉛垂基板支撐構件，使成為鉛垂姿勢的復數片基板在所述移載區塊中的鉛垂基板交接位置待機；所述處理區塊具有：批量處理區域，一端側與所述移載區塊鄰接，另一端側向遠離所述移載區塊的方向延伸；單片處理區域，一端側與所述移載區塊鄰接，另一端側向遠離所述移載區塊的方向延伸；單片基板搬運區域，夾設于所述批量處理區域與所述單片處理區域之間，一端側與所述移載區塊鄰接，另一端側向遠離所述移載區塊的方向延伸；以及批量基板搬運區域，沿著所述批量處理區域設置，一端側與所述移載區塊鄰接，另一端側向遠離所述移載區塊的方向延伸；在所述處理區塊中的所述批量處理區域，在所述批量處理區域延伸的方向上排列有一并浸漬處理復數片基板的復數個批量處理槽，而且，在最遠離所述移載區塊的位置具有：第二姿勢轉換機構，將復數片基板的姿勢一并從鉛垂姿勢轉換成水平姿勢；以及水平基板支撐構件，使成為水平姿勢的復數片基板在所述批量處理區域中的水平基板交接位置待機；在所述處理區塊中的所述單片處理區域，在鉛垂方向上排列有進行基板的干燥處理的復數個干燥腔室，而且，在所述處理區塊中的所述單片處理區域具有將干燥處理前的基板搬入至所述干燥腔室的基板搬入機構；在所述處理區塊中的所述單片基板搬運區域具有：單片基板交接機構，從所述水平基板交接位置接取水平姿勢的基板，并將基板移交至所述單片處理區域；以及基板搬出機構，從所述干燥腔室將干燥處理后的基板搬出至所述移載區塊中的所述返路用基板交接位置；在所述處理區塊中的所述批量基板搬運區域具有批量基板搬運機構，所述批量基板搬運機構在設定于所述移載區塊內的所述鉛垂基板交接位置、各所述批量處理槽以及所述第二姿勢轉換基構之間一并搬運復數片基板。

8、[作用效果]根據上述的(1)的發明，從以水平姿勢容納復數片基板的承載器一并取出基板，并通過第一姿勢轉換機構將基板的姿勢一并從水平姿勢轉換成鉛垂姿勢。接著，在保持著鉛垂姿勢的狀態下，復數片基板被批量處理區域實施批量處理。在實施了批量處理后，通過第二姿勢轉換機構將基板的姿勢一并從鉛垂姿勢轉換成水平姿勢。之后，在保持著水平姿勢的狀態下，基板被單片處理區域實施單片處理。具體而言，單片處理包含基板干燥處理。在本發明的單片處理區域具有將干燥處理對象的濕漉的基板搬運至干燥腔室的基板搬入機構，而且，具有從干燥腔室搬出干燥處理后的干燥的基板的基板搬出機構。通過這種構成，由于能以不同的機構來實現基板相對于干燥腔室的搬入以及搬出，因此，基板的搬運不會在干燥腔室的周邊停滯。根據本發明，由于干燥腔室在鉛垂方向上層疊，而且，以干燥腔室周邊的基板搬運變得順暢的方式構成，因此，能提供在與以往的裝置相同的地面面積搭載更多的干燥腔室的基板處理裝置。

9、本發明還具有下述特征。

10、(2)在(1)所述的基板處理裝置中，其特征在于，所述基板搬入機構從所述單片基板交接機構接取基板。

11、[作用效果]根據上述的(2)的發明，用于將基板搬入至干燥腔室的基板搬入機構從位于批量處理區域的單片基板交接機構接取基板。根據這種結構，能將基板搬入機構配置于遠離批量處理區域的位置。因此，根據(2)的發明，能在基板搬入機構的周圍設置復數個干燥腔室的層疊體，從而能提供處理量高的基板處理裝置。

12、(3)在(1)所述的基板處理裝置中，其特征在于，在所述單片處理區域具有進行干燥處理的前處理的基板干燥前處理腔室；所述單片基板交接機構將基板送出至所述基板干燥前處理腔室；所述基板搬入機構從所述基板干燥前處理腔室接取基板。

13、[作用效果]根據上述的(3)的發明，單片基板交接機構將基板送出至基板干燥前處理腔室；基板搬入機構從基板干燥前處理腔室接取基板。根據這種結構，由于無需在基板搬入機構與單片基板交接機構之間進行基板的交接，因此，能提供一種能更可靠地搬運基板且可靠地進行干燥處理對象的基板的前處理的基板處理裝置。

14、(4)在(2)所述的基板處理裝置中，其特征在于，所述單片基板交接機構由兼用作所述基板搬出機構的機械手構成；所述單片基板交接機構具有支撐干燥處理前的基板的交接臂；所述基板搬出機構具有支撐干燥處理后的基板的搬出臂；所述搬出臂設置于所述交接臂的上部。

15、[作用效果]根據上述的(4)的發明，單片基板交接機構由兼用作基板搬出機構的機械手構成；支撐干燥處理后的基板的搬出臂設置于支撐干燥處理前的基板的交接臂的上部。根據這種結構，液體不會從用于搬運濕漉的基板的交接臂滴落至用于搬運干燥后的基板的搬出臂而對基板造成不良影響。

16、(5)在(1)所述的基板處理裝置中，其特征在于，所述干燥腔室通過超臨界流體使基板干燥。

17、[作用效果]根據上述的(5)的發明，由于在表面張力為零的狀態下進行基板的干燥，因此，不會發生設置于基板表面的電路的圖案倒塌。

18、(6)在(3)所述的基板處理裝置中，其特征在于，所述基板干燥前處理腔室通過異丙醇使基板預備干燥。

19、[作用效果]根據上述的(6)的發明，能通過異丙醇可靠地執行基板干燥的預處理。

20、(7)在(1)所述的基板處理裝置中，其特征在于，在所述處理區塊中的所述單片處理區域，在所述基板搬入機構的兩側設置有所述干燥腔室的層疊體。

21、[作用效果]根據上述的(7)的發明，在單片處理區域，在基板搬入機構的兩側設置有干燥腔室的層疊體。根據這種結構，能增加面向基板搬入機構的干燥處理腔室的個數，因此，能對更多的基板并行地進行干燥處理。根據這種結構，能提供處理量高的基板處理裝置。

22、(8)在(1)所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述處理區塊中的所述批量基板搬運區域具有：第一基板搬出機構，在所述干燥腔室的層疊體的上層中搬出基板；以及第二基板搬出機構，在所述干燥腔室的層疊體的下層中搬出基板；在所述移載區塊設定有所述第一基板搬運機構搬出基板的第一返路用基板交接位置，并設定有所述第二基板搬運機構搬出基板的第二返路用基板交接位置。

23、[作用效果]根據上述的(8)的發明，存在有供干燥處理完畢的基板返回至承載器的復數個路徑。而且，第一基板搬出機構以及第二基板搬出機構分別與彼此不同的路徑對應，與第一路徑相關的基板搬運由第一基板搬出機構來進行，與第二路徑相關的基板搬運由第二基板搬出機構來進行。根據這種結構，能提供處理量高的基板處理裝置。

24、發明效果

25、根據本發明，能提供一種基板處理裝置，抑制裝置的尺寸并使所配置的單片式腔室的數量增加，從而改善處理量。在以往的結構中，當想要增設單片式腔室時，由于僅將單片式腔室在水平方向上排列成一列，因此，單片式腔室的數量會導致基板處理裝置的長度延伸。與此相比，根據本發明，由于能將單片式腔室在鉛垂方向上層疊，因此，能提供一種基板處理裝置，即使地面面積與以往的裝置相同，也能搭載更多的單片式腔室。而且，若構成為獨立地設置用于將基板搬入至單片式腔室(基板干燥處理腔室)的機構以及用于從基板干燥處理腔室搬出基板的機構，則能構成為干燥腔室的周邊的基板搬運變得順暢。根據本發明，能提供小型且處理量高的基板處理裝置。