本技術涉及濕法清洗機臺領域，具體涉及一種濕法清洗機臺的傳送裝置。

背景技術：

1、在濕法刻蝕工藝中，濕法清洗機臺的傳送裝置負責將晶圓載體從一個工藝步驟精確地傳送到下一個步驟，這一過程對于保持晶圓的生產效率和晶圓質量至關重要。

2、長期運作的傳送裝置中的抓取機構可能會因為機械磨損、負載不均、振動、溫度變化等因素發生偏移和傾斜，這種機械硬件運行過程中的機構偏差會導致抓取機構與晶圓載體之間的間隙累積放大，超出設計允許的誤差范圍，此時抓取機構可能無法準確、穩定地抓住晶圓載體，導致抓取失敗，這不僅會降低生產效率，還可能會引起晶圓載體的傾斜或側翻，導致晶圓損壞，增加生產成本和風險。

3、因此，為了提高晶圓制造過程中的效率和可靠性，本申請提供一種濕法清洗機臺的傳送裝置。

技術實現思路

1、鑒于現有技術中濕法清洗機臺的傳送裝置可能會降低生產效率和增加生產成本和風險的問題，本申請提供一種濕法清洗機臺的傳送裝置。該濕法清洗機臺的傳送裝置沿第二方向，在第三方向移動組件的兩側分別設置檢測機構，用于檢測抓取機構中第一抓取件和/或第二抓取件是否沿第二方向偏移和/或傾斜，能夠實時監測并確保抓取機構在第二方向保持在安全基準內，從而杜絕因抓取機構傾斜或偏移導致的晶圓載體側翻的隱患，提高生產安全性和可靠性，提高生產效率。

2、本申請的一實施例，提供一種濕法清洗機臺的傳送裝置，包括：

3、抓取機構，所述抓取機構包括第一抓取件和第二抓取件，所述第一抓取件和所述第二抓取件通過轉軸連接，且所述第一抓取件和所述第二抓取件之間設置有至少一個連接件，所述第一抓取件和所述第二抓取件配合用于抓取目標物；

4、移動機構，所述移動機構包括第一方向移動組件、第二方向移動組件和第三方向移動組件；所述第一方向移動組件包括沿第一方向設置的第一軌道，所述第二方向移動組件沿所述第一軌道移動；所述第二方向移動組件包括沿第二方向設置的第二軌道，所述第三方向移動組件沿所述第二軌道移動；所述第三方向移動組件包括沿第三方向設置的第三軌道，所述抓取機構沿所述第三軌道移動；所述第一方向、所述第二方向以及所述第三方向相互垂直；

5、其中，所述抓取機構中的所述轉軸沿所述第一方向設置，所述抓取機構中的所述第一抓取件和所述第二抓取件沿所述第三方向設置；沿所述第二方向，所述第三方向移動組件的兩側分別設置有檢測機構，所述檢測機構用于檢測所述第一抓取件和/或所述第二抓取件是否沿所述第二方向偏移和/或傾斜。

6、作為一種實施方式，所述檢測機構為激光光束放大器，所述激光光束放大器發射的光束沿所述第一方向，且所述激光光束放大器用于測量所述第一抓取件和/或所述第二抓取件與預設基準線之間的角度偏差。

7、作為一種實施方式，所述濕法清洗機臺的傳送裝置還包括警報器，所述檢測機構和所述警報器均與控制器連接。

8、作為一種實施方式，所述檢測機構設置于所述第三方向移動組件靠近所述第二方向移動組件的一端。

9、作為一種實施方式，所述第一抓取件包括第一固定板和設置于所述第一固定板底端的第一抓手，沿所述第二方向和所述第三方向，所述第一抓手的截面呈具有兩個分叉的結構；

10、所述第二抓取件包括第二固定板和設置于所述第二固定板底端的第二抓手，沿所述第二方向和所述第三方向，所述第二抓手的截面呈底端具有尖端結構的長方形。

11、作為一種實施方式，所述檢測機構的底端靠近所述第一固定板與所述第一抓手的連接點和/或靠近所述第二固定板與所述第二抓手的連接點。

12、作為一種實施方式，位于所述第三方向移動組件兩側的所述檢測機構在所述第三方向移動組件的高度相同或者不相同。

13、作為一種實施方式，沿第二方向，所述第一固定板的寬度和/或所述第二固定板的寬度與所述第三方向移動組件的寬度相等。

14、作為一種實施方式，所述第一固定板和/或所述第二固定板的頂端上方設置有彈簧接近感應器。

15、作為一種實施方式，所述第一固定板的頂端與所述第二固定板的頂端通過所述轉軸轉動連接；

16、所述連接件設置于所述第一固定板的轉軸與所述第一抓手之間、以及設置于所述第二固定板的轉軸與所述第二抓手之間。

17、作為一種實施方式，所述連接件為連接桿。

18、如上所述，本申請的濕法清洗機臺的傳送裝置，具有以下有益效果：

19、本申請的濕法清洗機臺的傳送裝置沿第二方向，通過在第三方向移動組件的兩側分別設置檢測機構，可以實時監測并確保第一抓取件和/或第二抓取件是否在第二方向上保持在安全基準內，杜絕因第一抓取件和/或第二抓取件傾斜或偏移導致的晶圓載體的側翻隱患，有效避免晶圓載體側翻和晶圓損壞，顯著降低因生產事故導致的晶圓報廢成本，減少經濟損失；確保第一抓取件和第二抓取件的穩定性和準確性，減少因傳送錯誤導致的晶圓損失，確保更高的出貨率；提高整個傳送裝置的可靠性，延長傳送裝置的使用壽命。

技術特征：

1.一種濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，包括：

2.根據權利要求1所述的濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，所述檢測機構為激光光束放大器，所述激光光束放大器發射的光束沿所述第一方向，且所述激光光束放大器用于測量所述第一抓取件和/或所述第二抓取件與預設基準線之間的角度偏差。

3.根據權利要求1或2所述的濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，還包括警報器，所述檢測機構和所述警報器均與控制器連接。

4.根據權利要求3所述的濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，所述檢測機構設置于所述第三方向移動組件靠近所述第二方向移動組件的一端。

5.根據權利要求4所述的濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，所述第一抓取件包括第一固定板和設置于所述第一固定板底端的第一抓手，沿所述第二方向和所述第三方向，所述第一抓手的截面呈具有兩個分叉的結構；

6.根據權利要求5所述的濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，所述檢測機構的底端靠近所述第一固定板與所述第一抓手的連接點和/或靠近所述第二固定板與所述第二抓手的連接點。

7.根據權利要求5所述的濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，沿第二方向，所述第一固定板的寬度和/或所述第二固定板的寬度與所述第三方向移動組件的寬度相等。

8.根據權利要求5所述的濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，所述第一固定板和/或所述第二固定板的頂端上方設置有彈簧接近感應器。

9.根據權利要求5所述的濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，所述第一固定板的頂端與所述第二固定板的頂端通過所述轉軸轉動連接；

10.根據權利要求9所述的濕法清洗機臺的傳送裝置，其特征在于，所述連接件為連接桿。

技術總結
本申請提供一種濕法清洗機臺的傳送裝置，包括抓取機構和移動機構，抓取機構包括第一抓取件和第二抓取件，第一抓取件和第二抓取件配合用于抓取目標物；移動機構包括第一方向移動組件、第二方向移動組件和第三方向移動組件，用于帶動抓取機構沿第一方向、第二方向以及第三方向移動；沿第二方向，第三方向移動組件的兩側分別設置有檢測機構，檢測機構用于檢測第一抓取件和/或第二抓取件是否沿第二方向偏移和/或傾斜。該濕法清洗機臺的傳送裝置能夠實時監測并確保抓取機構在第二方向保持在安全基準內，從而杜絕因抓取機構傾斜或偏移導致的晶圓載體側翻的隱患，提高生產安全性和可靠性，提高生產效率。

技術研發人員：楊衛鋼,嚴峰,王憲乾
受保護的技術使用者：上海積塔半導體有限公司
技術研發日：20240627
技術公布日：2025/4/28