專利名稱：一種基因測序設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及生化設(shè)備領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種基因測序設(shè)備。
背景技術(shù)：
基因測序技術(shù)的雛形形成于二十世紀(jì)，現(xiàn)如今該技術(shù)已經(jīng)發(fā)展的如火如荼，即將成為本世紀(jì)推動人類社會進步的一個新的技術(shù)。基因測序技術(shù)是通過基因測序設(shè)備來檢測核酸，通過數(shù)據(jù)處理從而得到核酸的序列。現(xiàn)有技術(shù)中，基因測序設(shè)備包括測序反應(yīng)小室、光源組件、溫控組件、液體傳輸組件、采圖組件和調(diào)平組件。其中，所述光源組件包括明場光源和激發(fā)光源。該技術(shù)方案中， 液體傳輸組件用于存儲與傳輸液體；測序反應(yīng)小室用于固定樣品和進行測序反應(yīng)；溫控組件用于控制測序反應(yīng)小室的溫度；調(diào)平組件用于調(diào)節(jié)測序反應(yīng)小室的位置；采圖組件用于采集測序反應(yīng)的圖像。當(dāng)進行測序反應(yīng)時，液體傳輸組件將試劑傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室內(nèi)，進行測序反應(yīng)，當(dāng)測序反應(yīng)需要升溫時，溫控組件對測序反應(yīng)小室進行加熱控制，當(dāng)需要降溫時，測序反應(yīng)小室自然冷卻到指定的溫度，當(dāng)測序反應(yīng)完成時，調(diào)平組件調(diào)節(jié)測序反應(yīng)小室的位置；然后，利用明場光源照射測序反應(yīng)小室，調(diào)節(jié)焦距，使采圖組件能夠拍攝到清晰的圖像，采圖組件拍攝測序反應(yīng)小室內(nèi)測序反應(yīng)的明場圖；關(guān)閉明場光源，利用激發(fā)光源照射測序反應(yīng)小室，調(diào)節(jié)焦距，使采圖組件能夠拍攝到清晰的圖片，采圖組件拍攝測序反應(yīng)小室內(nèi)測序反應(yīng)的熒光圖。該技術(shù)方案中，因為明場燈和激發(fā)光源分別位于測序反應(yīng)小室的兩側(cè)，所以要求測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域無遮擋物，以便于明場燈和激發(fā)光能夠照射測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域。因此，溫控組件不能對測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域直接進行溫度調(diào)節(jié)。現(xiàn)有技術(shù)中，溫控組件通過緊貼于測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域的邊緣來實現(xiàn)對測序反應(yīng)小室的溫度調(diào)節(jié)，由于用于固定溫控組件的空間有限，同時，溫控組件與測序反應(yīng)小室的接觸面積受限，導(dǎo)致溫控組件只能為體積較小的只具備加熱功能的溫控組件。 同時，由于溫控組件固定于測序反應(yīng)小室的邊緣，使得測序反應(yīng)小室的邊緣不能固定樣品， 導(dǎo)致測序反應(yīng)小室中用于固定樣品的區(qū)域的最大面積為1600mm2。同時，由于光源組件中既有明場光源，又有激發(fā)光源，從而使得基因測序設(shè)備的結(jié)構(gòu)復(fù)雜。上述技術(shù)方案中，基因測序設(shè)備的溫控組件不能同時實現(xiàn)加熱和制冷的功能，并且由于固定位置受限，使得升溫效率低下。同時，由于光源組件的結(jié)構(gòu)，使得基因測序設(shè)備的結(jié)構(gòu)復(fù)雜。另外，由于光源組件和溫控組件的緣故，使得測序反應(yīng)小室用于固定樣品區(qū)域的面積受限，從而使得測序通量不高。因此，需要一種基因測序設(shè)備，能夠同時實現(xiàn)加熱和制冷，且升降溫的效率高的功倉泛。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種基因測序設(shè)備，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)不能同時實現(xiàn)加熱和制冷，且升降溫的效率低等問題。
為了實現(xiàn)發(fā)明目的，所述基因測序設(shè)備包括測序反應(yīng)小室、溫控組件；所述測序反應(yīng)小室，用于固定樣品，并進行測序反應(yīng)；所述溫控組件，固定于測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域，用于對測序反應(yīng)小室進行溫度控制。其中，所述基因測序設(shè)備還包括光源組件，用于提供拍攝明場圖的光源和拍攝熒光圖的激發(fā)光源；所述光源組件還包括光源，位于測序反應(yīng)小室與溫控組件相對的一側(cè)，用于提供拍攝圖像所需的光。其中，所述光源組件還包括反光片和濾光裝置；所述反光片，位于溫控組件和測序反應(yīng)小室之間，用于反射到達反光片上的光，以提供拍攝明場圖所需的光；所述濾光裝置， 位于光源的一側(cè)，用于過濾干擾光。進一步的，所述濾光裝置，還用于改變經(jīng)過所述濾光裝置的光的光路。其中，所述反光片的導(dǎo)熱系數(shù)至少為80W/m. k，其表面由反光率至少為60%的物質(zhì)制成。其中，所述基因測序設(shè)備還包括液體傳輸組件，用于存儲和傳輸試劑。其中，所述液體傳輸組件包括儲液裝置和傳液裝置；所述儲液裝置用于存儲至少一種試劑；所述傳液裝置，位于儲液裝置的一側(cè)，用于將儲液裝置中的試劑傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室。其中，所述溫控組件包括測溫裝置、數(shù)據(jù)處理裝置、制冷片和散熱片。所述測溫裝置具有溫度傳感器，溫度傳感器用來測量溫度。所述測溫裝置與測序反應(yīng)小室連接，用于通過溫度傳感器測量測序反應(yīng)小室的溫度，并將測量的溫度發(fā)送給數(shù)據(jù)處理裝置；所述數(shù)據(jù)處理裝置與測溫裝置連接，用于接收并處理測溫裝置發(fā)送的溫度，產(chǎn)生控制指令；所述制冷片，與數(shù)據(jù)處理裝置和測序反應(yīng)小室分別連接，用于根據(jù)控制指令進行工作，以提供測序反應(yīng)小室加熱或制冷所需的能量；所述散熱片，與制冷片連接，用于傳遞制冷片一側(cè)的能量。其中，所述溫控組件包括測溫裝置、數(shù)據(jù)處理裝置、加熱片和制冷裝置。所述測溫裝置包括溫度傳感器。所述測溫裝置與測序反應(yīng)小室連接，用于通過溫度傳感器測量測序反應(yīng)小室的溫度，并將測量的溫度發(fā)送給數(shù)據(jù)處理裝置；所述數(shù)據(jù)處理裝置與測溫裝置連接，用于接收并處理測溫裝置發(fā)送的溫度，產(chǎn)生控制指令；所述加熱片與測序反應(yīng)小室和數(shù)據(jù)處理裝置分別連接，用于根據(jù)控制指令進行工作，以提供測序反應(yīng)小室加熱所需的能量; 所述制冷裝置，位于液體傳輸組件下方，用于對液體傳輸組件內(nèi)的試劑進行制冷，制冷的試劑通過液體傳輸組件傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室，以對測序反應(yīng)小室進行制冷。其中，所述測序反應(yīng)小室中用于固定樣品的區(qū)域的面積為S ;優(yōu)選的， 150mm2 彡 S 彡 2100mm2。其中，所述測序反應(yīng)小室為多通道或單通道測序反應(yīng)小室。由上可知，本發(fā)明的基因測序設(shè)備中，溫控組件既能對測序反應(yīng)小室進行加熱又能進行制冷。同時，溫控組件與測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域充分接觸，使得它們之間的能量傳遞更為迅速，從而提高了升降溫速度，進而提高了測序的效率。另外，測序反應(yīng)小室內(nèi)任意位置均可固定樣品，避免了測序反應(yīng)小室邊緣用于固定溫控組件而不能固定樣品，該方案使得測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域更大，從而提高了測序通量。并且，本發(fā)明的基因測序儀還可通過同一個光源來提供拍攝圖像所需的光，使得基因測序設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單。


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I是本發(fā)明一個實施例中基因測序設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意2是本發(fā)明一實施例中測序反應(yīng)小室的結(jié)構(gòu)示意3是本發(fā)明另一實施例中測序反應(yīng)小室的結(jié)構(gòu)示意4是本發(fā)明另一個實施例中基因測序設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意5是本發(fā)明另一個實施例中溫控組件的結(jié)構(gòu)示意6是本發(fā)明一個實施例中光源組件的結(jié)構(gòu)示意7是本發(fā)明另一個實施例中光源組件的結(jié)構(gòu)示意8是本發(fā)明一個實施例中濾光器的結(jié)構(gòu)示意9是本發(fā)明一個實施例中濾光器的結(jié)構(gòu)示意10是本發(fā)明另一個實施例中基因測序設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖； 11是本發(fā)明一個實施例中溫控組件的爆炸12是本發(fā)明一個實施例中液體傳輸組件結(jié)構(gòu)示意13是本發(fā)明另一個實施例中基因測序設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細(xì)說明。本發(fā)明中的測序反應(yīng)小室內(nèi)固定的樣品與試劑發(fā)生反應(yīng)，使樣品攜帶標(biāo)記物，而形成攜帶標(biāo)記物的樣品，該攜帶標(biāo)記物的樣品經(jīng)過激發(fā)光激發(fā)后可以發(fā)光。本發(fā)明中的樣品通過小珠或直接固定在測序反應(yīng)小室上，所述樣品固定在測序反應(yīng)小室上(該過程叫點樣)，固定后的樣品所形成的一個一個的點稱為陣列點。當(dāng)測序反應(yīng)小室內(nèi)陣列點的密度一定時，測序反應(yīng)小室內(nèi)用于固定樣品的區(qū)域越大，固定的陣列點的數(shù)量越多，也即測序通量越高。針對基因測序設(shè)備，本發(fā)明提出一實施例，如圖I所述，基因測序設(shè)備包括測序反應(yīng)小室和溫控組件。其中(I)測序反應(yīng)小室1，用于固定樣品10，并進行測序反應(yīng)。所述測序反應(yīng)小室用于固定樣品，樣品與試劑在溫控組件的控制下發(fā)生測序反應(yīng)。所述測序反應(yīng)小室無具體限制。優(yōu)選的，測序反應(yīng)小室為三層結(jié)構(gòu)的測序反應(yīng)小室，第一層用來固定樣品，第二層用來形成中空的槽，第三層用來與第一層和第二層一起形成密封的中空的槽，密封的中控的槽的兩端開孔，用來供試劑流入和流出。優(yōu)選的，測序反應(yīng)小室為雙層結(jié)構(gòu)，第一層用來固定樣品，第二層用來與第一層形成密封的中空的槽，所述測序反應(yīng)小室的兩側(cè)開孔，從而與中空的槽連通，形成試劑入口與出口。(2)溫控組件2，固定于測序反應(yīng)小室I固定樣品10的區(qū)域，用于對測序反應(yīng)小室 I進行溫度控制。所述溫控組件為具有可進行溫度測量，并能實現(xiàn)加熱和制冷的裝置，從而實現(xiàn)對測序反應(yīng)小室精確控溫。也即該溫控組件具有溫度測量裝置和用來加熱和制冷的裝置，通過溫度測量的裝置測量溫度，然后通過加熱和制冷的裝置來對測序反應(yīng)小室進行加熱或制冷。
本實施例中，樣品10固定在測序反應(yīng)小室I內(nèi)，溫控組件2固定在測序反應(yīng)小室 I固定樣品10的區(qū)域。當(dāng)測序反應(yīng)小室I需要加熱或制冷時，溫控組件2對測序反應(yīng)小室加熱或制冷。本實施例中，測序反應(yīng)小室I與溫控組件2的接觸面的面積大小不限。優(yōu)選的，溫控組件2用于加熱或制冷的部件的區(qū)域至少與測序反應(yīng)小室固定樣品10的區(qū)域大小一樣。進一步優(yōu)選的，溫控組件2用于加熱或制冷的部件的面積與測序反應(yīng)小室I和溫控組件2接觸的面的面積相同，也即測序反應(yīng)小室I和溫控組件2剛好可重合。本實施例中，固定樣品的區(qū)域固定有樣品10，溫控組件2與測序反應(yīng)小室I固定樣品的區(qū)域直接或間接接觸，使得基因測序設(shè)備的升降溫速度更快，從而提高了測序的效率。 同時，由于溫控組件2的大小不受空間限制，所以該溫控組件2可以有足夠的空間來放置既能加熱也能制冷的溫控組件2，防止了溫控組件2與測序反應(yīng)小室某側(cè)邊緣連接，而導(dǎo)致測序反應(yīng)小室兩側(cè)重力不平衡而使測序反應(yīng)小室失衡從而使得測序反應(yīng)小室在采圖過程中調(diào)焦出現(xiàn)誤差。另外，溫控組件與測序反應(yīng)小室接觸的面的面積與測序反應(yīng)小室的該面的面積一致，也即溫控組件與測序反應(yīng)小室的接觸面的大小完全一致，溫控組件2用于加熱或制冷的區(qū)域面積大，從而使得測序反應(yīng)小室2升降溫速度更快。加之，相對現(xiàn)有技術(shù)，測序反應(yīng)小室I的原用于固定溫控組件的區(qū)域在本技術(shù)方案中也可用于固定樣品，測序反應(yīng)小室內(nèi)固定樣品的區(qū)域增大，從而使得基因測序設(shè)備的測序通量更高。基于上一實施例，本發(fā)明提出另一實施例，如圖I所示。所述基因測序設(shè)備包括測序反應(yīng)小室、溫控組件、光源組件。其中(I)測序反應(yīng)小室1，用于固定樣品10，并進行測序反應(yīng)。(2)溫控組件2，固定于測序反應(yīng)小室I固定樣品10的區(qū)域，用于對測序反應(yīng)進行溫度控制。(3)光源組件3，用于提供拍攝明場圖的光源和拍攝熒光圖的激發(fā)光源。所述光源組件包括光源，位于測序反應(yīng)小室與溫控組件相對的一側(cè)，用于提供拍攝圖像所需的光。本技術(shù)方案中的基因測序設(shè)備的測序反應(yīng)小室I內(nèi)固定樣品10，溫控組件2對測序反應(yīng)小室I進行溫度控制，使測序反應(yīng)能夠順利進行。當(dāng)需要拍攝測序反應(yīng)小室I內(nèi)的圖像時，光源組件3提供拍攝圖像所需的光，光線到達測序反應(yīng)小室1，以供拍攝圖像。本基因測序設(shè)備的光源組件3的位置不具體限制，使得溫控組件2可與測序反應(yīng)小室I固定樣品的接觸面積更大，從而大大提高了加熱或制冷的效率。同時，由于傳統(tǒng)基因測序設(shè)備中用于固定溫控組件2的區(qū)域大小受限，所能固定的區(qū)域只能承載具有加熱功能的溫控組件2， 而本發(fā)明的技術(shù)方案中固定溫控組件2的區(qū)域不受限，從而使得本發(fā)明的溫控組件2既能實現(xiàn)加熱又能實現(xiàn)制冷。另外，由于本發(fā)明的技術(shù)方案光源組件結(jié)構(gòu)簡單，使得基因測序設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單。本發(fā)明中的測序反應(yīng)小室中用于固定樣品的區(qū)域的面積為S，S任意。優(yōu)選的， 150mm2 ^ S ^ 2100mm2。其中，測序反應(yīng)小室的面積大小的選擇根據(jù)所需要固定的樣品的多少來選擇，需固定的樣品多，則選擇面積大的測序反應(yīng)小室，需固定的樣品少，則選擇面積小的測序反應(yīng)小室。本發(fā)明的測序反應(yīng)小室，可根據(jù)需要更換，在保證測序通量的同時，節(jié)約了測序的試劑，也即節(jié)約了測序的成本。在陣列點密度相同的情況下，本發(fā)明的測序反應(yīng)小室可以固定樣品區(qū)域最大面積為2100mm2，從而提高了基因測序設(shè)備的測序通量。
針對測序通量，本發(fā)明提出一實施例，當(dāng)測序反應(yīng)小室中用于固定樣品區(qū)域的面積為2000mm2,陣列點的密度為IX IO5個/mm2。則該測序反應(yīng)小室中可固定的陣列點的個數(shù)可達2X108，也即基因測序設(shè)備的測序通道達2X108。本實施例中的基因測序設(shè)備實現(xiàn)了高通量基因測序。其中，陣列點的密度是根據(jù)測序的通量來設(shè)定陣列點的密度，需要通量高且對后續(xù)拍圖的圖像的質(zhì)量要求不是很高，則陣列點的密度可以高，甚至可達到1父106個/ _2。反之，則可以減小陣列點的密度。針對測序反應(yīng)小室，本發(fā)明提出一實施例，如圖2所示，測序反應(yīng)小室為單通道測序反應(yīng)小室。樣品固定在測序反應(yīng)小室I的反應(yīng)通道11內(nèi)，反應(yīng)時，試劑從反應(yīng)通道11的一端流入，淹沒樣品，然后從另一端流出，使得樣品與試劑接觸充分，反應(yīng)更為完全，并且使得測序反應(yīng)在沒有擴散勢壘的試劑中進行。該區(qū)域?qū)崿F(xiàn)單個樣品的高通量測序。針對測序反應(yīng)小室，本發(fā)明提出另一實施例，如圖3所示，測序反應(yīng)小室為多通道測序反應(yīng)小室。樣品固定在測序反應(yīng)小室I的反應(yīng)通道11內(nèi)，反應(yīng)時，試劑從反應(yīng)通道11 的一端流入，從另一端流出，試劑流過反應(yīng)通道11時，試劑淹沒樣品，使得樣品與試劑充分發(fā)生反應(yīng)。同時，試劑從反應(yīng)通道11的一端流向另一端，使得測序反應(yīng)在沒有擴散勢壘的試劑中進行。其中，反應(yīng)通道11的個數(shù)優(yōu)選在2 16之間，比如4個反應(yīng)通道、8個反應(yīng)通道等。可根據(jù)樣品的個數(shù)來選擇反應(yīng)通道11的個數(shù)，也即需要測的樣品越多(包括種類越多、單個樣品數(shù)量越多)，選擇的測序反應(yīng)小室I的反應(yīng)通道11越多。優(yōu)選的，每個反應(yīng)通道11內(nèi)固定一種樣品，也即測序反應(yīng)小室I的反應(yīng)通道上都固定有樣品，無空的反應(yīng)通道 11，每個反應(yīng)通道11內(nèi)固定的樣品可以相同，也可以不同，比如12個反應(yīng)通道11固定八種不同的樣品，6個反應(yīng)通道固定六種不同的樣品，16個反應(yīng)通道11固定一種樣品。測序反應(yīng)小室I中用于固定樣品的區(qū)域的面積S優(yōu)選為150mm2 IlOOmm2,每個反應(yīng)通道11的面積SO優(yōu)選為IOOmm2 1000mm2。所述反應(yīng)通道11的面積根據(jù)固定樣品的多少來選擇。基于上述實施例，本發(fā)明提出另一實施例，如圖4所示，該基因測序設(shè)備包括液體傳輸組件、測序反應(yīng)小室、溫控組件、光源組件、采圖組件。其中(I)測序反應(yīng)小室1，用于固定樣品，并進行測序反應(yīng)。(2)溫控組件2，固定于測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域，用于對測序反應(yīng)小室進行溫度控制。(3)光源組件3，用于提供拍攝明場圖的光源和拍攝熒光圖的激發(fā)光源。(4)液體傳輸組件4,用于存儲、傳輸試劑。所述液體傳輸組件包括用于傳輸試劑的裝置，該裝置可以為機械手、泵、泵和閥的組合等中的任意一種，液體傳輸組件的具體結(jié)構(gòu)根據(jù)液體傳輸?shù)乃俣取⒕鹊葋磉M行組合， 本實施例中的液體傳輸組件無具體限制。其中該液體傳輸組件還可包括試劑臺用來存儲液體。(5)采圖組件5，用于拍攝圖像。所述采圖組件包括拍圖裝置的圖像傳感器。優(yōu)選的，該采圖組件包括電荷耦合元件(Charge-coupled Device, CO))、CM0S攝像機。其中采圖組件還可包括位移裝置,用于圖像傳感器與測序反應(yīng)小室的位置關(guān)系，以保證能拍攝到清晰的圖像。本技術(shù)方案中，基因測序設(shè)備的測序反應(yīng)小室I固定樣品,液體傳輸組件4將液體傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室1，溫控組件2對測序反應(yīng)小室I進行溫度控制，樣品與試劑在測序反應(yīng)小室I內(nèi)進行測序反應(yīng)，當(dāng)需要拍攝圖像時，光源組件3提供拍攝圖像所需的光，光到達測序反應(yīng)小室1，采圖組件5拍攝測序反應(yīng)小室內(nèi)的測序圖像。本實施例的技術(shù)方案中，基因測序設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，并且溫控組件2與測序反應(yīng)小室I充分接觸，使得溫控效率更高。針對液體傳輸組件,本發(fā)明提出一實施例,如圖5所示。液體傳輸組件包括儲液裝置和傳液裝置。其中(I)儲液裝置41，用于存儲至少一種試劑。(2)傳液裝置42，位于儲液裝置41的一側(cè)，用于將儲液裝置41中的試劑傳輸?shù)綔y
序反應(yīng)小室。本實施例中的儲液裝置41，可以儲存不同的試劑，該儲液裝置41可以根據(jù)盛放試劑的種類和劑量來更換。傳液裝置42將儲液裝置41中的試劑傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室，傳液裝置42可以為泵、閥、機械手三者中的至少一個。傳液裝置42可根據(jù)抽取液體的速度、傳輸液體的快慢、傳輸液體的量的多少來選取。本實施例中的技術(shù)方案，可根據(jù)不同的需求更換儲液裝置和傳液裝置，使得液體傳輸組件的適用性好。圖6示出了本發(fā)明一實施例中光源組件的結(jié)構(gòu)。光源組件包括光源和反光片。其中(I)光源31，位于測序反應(yīng)小室I與溫控組件2相對的一側(cè)，用于提供拍攝圖像所需的光。(2)反光片32，位于溫控組2和測序反應(yīng)小室I之間，用于反射到達反光片上的光，以提供拍攝明場圖所需的光。(3)濾光裝置33,位于光源31的一側(cè),用于過濾干擾光。本實施例中，光源31為任意可以激發(fā)攜帶標(biāo)記物樣品發(fā)光的光源。優(yōu)選為汞燈或能夠發(fā)出激光的激光設(shè)備。該光源組件至少有一個光源31，均位于測序反應(yīng)小室的同一側(cè)。 當(dāng)光源31為多個時，每個光源31可發(fā)出特定波長的光，不同波長的光能夠激發(fā)測序反應(yīng)小室I中攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)出不同的顏色的光，采集熒光圖時，打開某個光源31，移動該光源31，使得光源發(fā)出的光能夠到達測序反應(yīng)小室，該特定波長的光激發(fā)攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)光，同時，特定波長的光被反光片32反射，攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)出的光和反射光經(jīng)過濾光裝置33，濾光裝置33過濾反射光，通過濾光裝置33的光到達采圖組件，采圖組件拍攝圖像。當(dāng)需要另外一種特定波長的光時，打開另外一種可以發(fā)出該特定波長的光的光源31，調(diào)整該光源31的位置，使得光源發(fā)出的光能夠到達測序反應(yīng)小室，該特定波長的光激發(fā)攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)光，同時，特定波長的光被反光片32反射，攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)出的光和反射光經(jīng)過濾光裝置33，濾光裝置33過濾反射光，通過濾光裝置33的光到達采圖組件，采圖組件拍攝圖像。根據(jù)需要切換并打開能夠發(fā)出不同波長的光的光源31，直到拍攝到所需的所有的熒光圖為止。當(dāng)采集明場圖時，同時打開多個光源31，使得光到達反光片32，而后經(jīng)反光片32反射后，經(jīng)過濾光裝置33過濾干擾光(根據(jù)拍圖的需要，濾光裝置33允許該混合光中的某段波長的光通過，其他光被濾除)，移動采圖組件，使過濾后的光到達采圖組件，采圖組件采集圖像。當(dāng)光源組件只有一個光源31時，光源31可以發(fā)不同波長的光。當(dāng)需要拍攝明場圖時，光線射入測序反應(yīng)小室I到達反光片32上，反光片32反射到達反光片32的光，該光經(jīng)過濾光裝置33，濾光裝置33過濾干擾光(根據(jù)拍圖的要求，濾光裝置允許某段特定波長的光通過)；當(dāng)需要拍攝熒光圖時，光線經(jīng)過濾光裝置33，特定波長的光通過濾光裝置33， 到達測序反應(yīng)小室1，激發(fā)測序反應(yīng)小室I內(nèi)攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)光，同時特定波長的光被反光片反射，該反射光和攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)光經(jīng)過濾光裝置33，該反射光被濾除，攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)光經(jīng)過濾光裝置33到達采圖組件，采圖組件拍攝熒光圖。本技術(shù)方案中，光源位于測序反應(yīng)小室的同一側(cè)，使得該基因測序設(shè)備的結(jié)構(gòu)簡單。同時，避免了現(xiàn)有技術(shù)方案中光源位于兩側(cè)而使得測序反應(yīng)小室固定樣品區(qū)域無遮擋物，從而導(dǎo)致溫控組件位于測序反應(yīng)小室的邊緣上，而使溫控效率低下，本技術(shù)方案測序反應(yīng)小室可固定樣品的區(qū)域更大，所以通量更高，且溫控組件固定于測序反應(yīng)小室固定樣品所在的區(qū)域，從而提高了加熱或制冷的效率。本發(fā)明中，反光片優(yōu)選的導(dǎo)熱系數(shù)至少為80W/m. k，其表面為反光率至少為60% 的物質(zhì)制成。該物質(zhì)可為固體或液體。當(dāng)為液體時，該液體通過一邊透明的固體夾層封裝得片狀物。當(dāng)為固體時，可以用該固體物質(zhì)直接做成表面光滑的片，當(dāng)為粉末狀固體時，可以將該粉末狀固體涂抹在片狀物表面，經(jīng)過處理使其具有光滑的表面。優(yōu)選的，該反光片為表面鍍鉻的金、銀、銅、鋁或鐵制成的片，或者為表面鍍鉻的金、銀、銅、鋁或鐵與任意金屬的合金制成的片，或者為表面鍍銀的金、銅、鋁或鐵制成的片， 或者為表面鍍鉻的金、銅、鋁或鐵與任意金屬的合金制成的片，或者不銹鋼制成的片。本發(fā)明中的反光片位于測序反應(yīng)小室和溫控組件之間，該反光片具有良好的反光效果和導(dǎo)熱效果，從而使得溫控組件通過反光片將熱量均勻且快速的傳遞給測序反應(yīng)小室，從而大大提高溫控組件的加熱或制冷的速度。同時該反光片良好的反光效率，使得到達反光片的光能大部分反射到用于采圖組件中，從而使采圖組件拍攝到清晰的圖像。本發(fā)明中的反光片的大小至少與測序反應(yīng)小室內(nèi)固定樣品的區(qū)域的大小相同。保證到達測序反應(yīng)小室的光，經(jīng)反光片反射后，能夠照亮測序反應(yīng)小室固定樣品的所有區(qū)域， 從而使得采圖組件能夠清晰拍攝到測序反應(yīng)小室固定樣品的所有區(qū)域。針對光源組件，本發(fā)明提出另一實施例，如圖7所示。所示的光源組件包括光源、 濾光裝置和反光片。其中(I)光源31，位于測序反應(yīng)小室與溫控組件相對的一側(cè)，用于提供拍攝圖像所需的光。(2)反光片32，位于溫控組件和測序反應(yīng)小室之間，用于反射到達反光片上的光， 以提供拍攝明場圖所需的光。(3)濾光裝置33，位于光源的一側(cè)，用于過濾干擾光，并且用于改變經(jīng)過所述濾光裝置的光的光路。本實施例中，每個濾光裝置33包括多組濾光器330，每組濾光器330允許光源31 發(fā)出的光中的特定波長的光通過。當(dāng)需要不同波長的光時，轉(zhuǎn)動濾光裝置33到對應(yīng)的濾光器330上即可。本實施中的濾光裝置33用于改變經(jīng)過濾光裝置的光的光路，使得足夠的光線到達用于拍攝圖像的采圖組件。也即如圖8中所示，光源發(fā)出的光和從濾光裝置33中出來的光不在同一直線或平面上。本實施例中，光源為任意可以激發(fā)攜帶標(biāo)記物樣品發(fā)光的光源。優(yōu)選為萊燈或能夠發(fā)出激光的激光設(shè)備。本實施例中，當(dāng)拍攝明場圖時，光源31發(fā)出的光，經(jīng)過濾光裝置33后，濾光裝置33改變光的光路，光經(jīng)過測序反應(yīng)小室I到達反光片32，該光也激發(fā)攜帶標(biāo)記物樣品發(fā)光，反光片32反射光，攜帶標(biāo)記物樣品發(fā)光和反射光經(jīng)濾光裝置33濾光并改變光路，使得光線到達某需要光的位置(也即到達用于拍攝圖像的采圖組件中)。當(dāng)拍攝熒光圖時，光源31發(fā)出的光，經(jīng)過濾光裝置33后，濾光裝置33過濾干擾光，過濾后的光被反射到測序反應(yīng)小室I 內(nèi)，測序反應(yīng)小室I內(nèi)攜帶標(biāo)記物的樣品被過濾后的光所激發(fā)，發(fā)出熒光，熒光經(jīng)過濾光裝置33，濾光裝置33過濾干擾光，并改變光路，使得過濾后的光到達用于拍攝圖像的采圖組件，從而實現(xiàn)了光源31提供拍圖所需的光源，濾光裝置33過濾干擾光和改變光路，反光片 32反射到達反光片上的光。本實施例的技術(shù)方案，光源既提供了拍攝明場圖的光源也提供了拍攝熒光圖的光源，使得基因測序設(shè)備的結(jié)構(gòu)更加簡單，同時，該濾光裝置不僅能夠過濾干擾光，而且可以改變光路，從而使得所需的充足的光線到達采圖組件中，最終保證采圖組件拍攝到清晰的圖像。針對濾光器，本發(fā)明提出一實施例，如圖8所示。該濾光器包括兩個濾光片，分別為濾光片3301和濾光片3302。濾光片3301允許光源發(fā)出的光中的特定波長的光通過，特定波長的光經(jīng)過濾光片3301后，濾光片3302反射該特定波長的光，也即濾光片3301過濾干擾光，濾光片3302改變光源發(fā)出的光的光路。所述濾光片3302反射特定波長的長光，允許其他波長的光通過。本實施例的技術(shù)方案中，濾光器成功實現(xiàn)了特定波長的光到達測序反應(yīng)小室，從而特定波長的光激發(fā)攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)光，攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)光，從而使得采圖組件中的拍圖裝置能夠拍攝到測序反應(yīng)小室中的圖像。其中，所述的采圖組件中用來拍攝測序反應(yīng)小室內(nèi)的突光圖和明場圖的拍圖裝置不限，該裝置優(yōu)選為(XD (Charge-coupled Device,電荷稱合元件)或CID (charge injection device,電荷注入檢測器)或者CMOS攝像機。針對濾光器，本發(fā)明提出另一實施例，如圖9所示。該濾光器包括三個濾光片，分別為濾光片3301、濾光片3302和濾光片3303。濾光片3301允許光源發(fā)出的光中的特定波長的光通過，特定波長的光經(jīng)過濾光片3301后，濾光片3302改變該特定波長的光的光路， 特定波長的光經(jīng)過濾光片3303到達測序反應(yīng)小室，也即濾光片3301過濾干擾光，濾光片 3302改變光源發(fā)出的光的光路。所述濾光片3302反射特定波長的光，允許其他波長的光通過，所述濾光片3303允許某段波長的光通過。本實施例中，濾光片能夠過濾干擾光，允許特定波長的光通過，該特定波長的光可以為一段波長或者某個具體的波長的光。當(dāng)特定波長的光到達測序反應(yīng)小室后，特定波長的光激發(fā)測序反應(yīng)小室內(nèi)攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)光，攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)出的光經(jīng)過濾光片，濾光片再次過濾干擾光，使得需要的光到達采圖組件。本實施例中的采圖組件中的拍圖裝置為任意光學(xué)信號轉(zhuǎn)換為模擬電流信號，電流信號經(jīng)過放大和模數(shù)轉(zhuǎn)換，實現(xiàn)圖像的獲取、存儲、傳輸、處理和復(fù)現(xiàn)的拍圖裝置。優(yōu)選為C⑶或CID。本實施例的技術(shù)方案中，濾光器過濾光源發(fā)出的光中的干擾光，成功實現(xiàn)了特定波長的光到達測序反應(yīng)小室，光經(jīng)過反射或激發(fā)后，到達采圖組件，以便采圖組件拍攝到清晰的圖像。并且，該濾光器能夠改變光路，使得拍圖組件的安裝位置比較自由，只要和光源組件位于同一側(cè)即可。圖10示出了基因測序設(shè)備的結(jié)構(gòu)。反光片32位于溫控組件2和測序反應(yīng)小室I之間。光源31發(fā)出的光經(jīng)過濾光裝置33，濾光裝置33過濾干擾光，改變光路，使光照射入測序反應(yīng)小室I，光線經(jīng)過測序反應(yīng)小室到達反光片32，反光片32反射光，使光線通過濾光裝置33，濾光裝置33過濾反射光中的干擾光，剩下的光線到達采圖組件5，采圖組件5拍攝測序反應(yīng)小室內(nèi)的圖像。本實施例中，經(jīng)過濾光裝置33改變光路的光垂直射入測序反應(yīng)小室I的固定有樣品的區(qū)域。反光片32位于測序反應(yīng)小室I和溫控組件3之間。反光片32 的最小尺寸為與固定有樣品的區(qū)域的大小相同。優(yōu)選的，反光片32的大小和測序反應(yīng)小室 I大小一樣。本實施例中，反光片32具有良好的導(dǎo)熱性。反光片32的厚度h不限，優(yōu)選的， h ^ O. Imnin本實施例中的技術(shù)方案，光源發(fā)出的光，經(jīng)過濾光裝置過濾后，既留下需要的特定波長的激發(fā)光到達測序反應(yīng)小室，以激發(fā)測序反應(yīng)小室內(nèi)攜帶標(biāo)記物的樣品發(fā)光，經(jīng)過濾光裝置后到達采圖組件，從而使得采圖組件拍攝到熒光圖，又能使到達測序反應(yīng)小室的經(jīng)反光片反射，將光線反射到采圖組件，使采圖組件拍攝到清晰的明場圖。本實施例的技術(shù)方案，利用一個光源實現(xiàn)明場圖和熒光圖的拍攝，不僅方便，也避免了測序反應(yīng)小室在拍攝明場圖和熒光圖時分別調(diào)焦，導(dǎo)致明場圖和熒光圖調(diào)焦不一致，進而使得后續(xù)數(shù)據(jù)處理得到的核酸序列的數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確的現(xiàn)象。針對本發(fā)明中的溫控組件，提出一實施例，如圖11所示。溫控組件包括制冷片、散熱片和測溫裝置。其中(I)測溫裝置21，與測序反應(yīng)小室I連接，用于通過溫度傳感器測量測序反應(yīng)小室 I的溫度，并將測量的溫度發(fā)送給數(shù)據(jù)處理裝置20。所述溫度傳感器為市場上出售的任意的能感受溫度并轉(zhuǎn)換成可用輸出信號的溫度傳感器。優(yōu)選為接觸式溫度傳感器。(2)數(shù)據(jù)處理裝置20與測溫裝置21連接，用于接收并處理測溫裝置發(fā)送的溫度， 廣生控制指令。所述數(shù)據(jù)處理裝置為能夠處理數(shù)據(jù)，產(chǎn)生指令的裝置。優(yōu)選為芯片、單片機中的任意一種與外圍電路組成的數(shù)據(jù)處理裝置。進一步優(yōu)選為個人計算機。(3)制冷片22，與數(shù)據(jù)處理組件20和測序反應(yīng)小室I分別連接，用于根據(jù)控制指令進行工作，以提供測序反應(yīng)小室I加熱或制冷所需的能量。所述制冷片為市場上銷售的任意的制冷片。制冷片22的個數(shù)不限，優(yōu)選為I 5 個。(4)散熱片23，與制冷片22連接，用于傳遞制冷片22 —側(cè)的能量。所述散熱片在制冷片與散熱片接觸面涂上一層導(dǎo)熱硅脂，使制冷片發(fā)出的熱量更有效的傳導(dǎo)到散熱片上，再經(jīng)散熱片散發(fā)到周圍空氣中去。該散熱片為鋁合金，黃銅或青銅做成板狀，片狀，多片狀等的裝置。在此無特殊限制，市場上銷售的散熱片均可用在本發(fā)明中。本實施例中，測溫裝置21緊貼測序反應(yīng)小室I。其中測序反應(yīng)小室I的一側(cè)為測溫裝置21和制冷片22，散熱片23位于制冷片22與測序反應(yīng)小室I相對的一側(cè)。當(dāng)制冷片22通入電流后，制冷片22對測序反應(yīng)小室I加熱(或制冷)，制冷片22與散熱片23連接的一側(cè)的能量通過散熱片23將制冷片22該側(cè)的能量傳遞到周圍的空氣中，從而使得制冷片22與散熱片23連接的一側(cè)的溫度迅速下降(或上升)，從而使制冷片22另一側(cè)的溫度迅速上升(或下降)，從而達到對測序反應(yīng)小室I快速加熱(或制冷)的目的。測溫裝置 21測量測序反應(yīng)小室I的溫度，并將測得的溫度實時發(fā)送給數(shù)據(jù)處理裝置20，數(shù)據(jù)處理裝置根據(jù)接收到的溫度，產(chǎn)生控制指令；使得制冷片22根據(jù)控制指令進行工作，從而實現(xiàn)對測序反應(yīng)小室I的加熱(或制冷)。其中，制冷片22和測溫裝置21通過導(dǎo)線與數(shù)據(jù)處理裝置20連接。本實施例中的測溫裝置的個數(shù)根據(jù)需要選擇，當(dāng)需要精確反饋溫度時，可以有多個測溫裝置。本實施例中溫度傳感器不限。本實施例中的技術(shù)方案，溫控組件實現(xiàn)了對測序反應(yīng)小室的快速加熱或制冷，提高了測序反應(yīng)的效率，同時使得溫度控制更精確，提高了測序反應(yīng)的質(zhì)量。針對溫控組件，本發(fā)明提出另一實施例，如圖12所示。溫控組件包括加熱片、測溫裝置和制冷裝置。其中(I)測溫裝置21與測序反應(yīng)小室I連接，用于通過溫度傳感器測量測序反應(yīng)小室的溫度，并將測量的溫度發(fā)送給數(shù)據(jù)處理裝置20。所述溫度傳感器為市場上出售的任意的能感受溫度并轉(zhuǎn)換成可用輸出信號的溫度傳感器。優(yōu)選為接觸式溫度傳感器。(2)數(shù)據(jù)處理裝置20與測溫裝置21連接，用于接收并處理測溫裝置發(fā)送的溫度， 廣生控制指令。所述數(shù)據(jù)處理裝置為能夠處理數(shù)據(jù)，產(chǎn)生指令的裝置。優(yōu)選為芯片、單片機中的任意一種與外圍電路組成的數(shù)據(jù)處理裝置。進一步優(yōu)選為個人計算機。(3)加熱片24，與測序反應(yīng)小室和數(shù)據(jù)處理裝置分別連接，用于根據(jù)控制指令進行工作，以提供測序反應(yīng)小室加熱所需的能量。所述加熱片無特殊限制，優(yōu)選為電加熱片或硅膠加熱片，其在通電情況下，能夠發(fā)出熱量，從而實現(xiàn)對測序反應(yīng)小室的加熱。(4)制冷裝置25，位于液體傳輸組件下方，用于對液體傳輸組件內(nèi)的試劑進行制冷，制冷的試劑通過液體傳輸組件傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室，以對測序反應(yīng)小室進行制冷。所述制冷裝置為能夠?qū)囟冉档偷?0攝氏度以下的裝置，其他無特殊限制。優(yōu)選為制冷片、散熱片的組合。進一步優(yōu)選的為制冷片、散熱片和排風(fēng)扇的組合。本實施例中，加熱片24可以直接與測序反應(yīng)小室連接，用于對測序反應(yīng)小室直接加熱；也可以通過反光片與測序反應(yīng)小室連接，加熱片24的能量通過反光片傳遞給測序反應(yīng)小室,實現(xiàn)測序反應(yīng)小室加熱。當(dāng)測序反應(yīng)小室需要加熱時,加熱片24對測序反應(yīng)小室進行加熱，測溫裝置21測量測序反應(yīng)小室的溫度，并將測量的溫度反饋給數(shù)據(jù)處理裝置 20，數(shù)據(jù)處理裝置根據(jù)接收到的溫度，產(chǎn)生控制指令；使得加熱片24根據(jù)控制指令進行工作,從而實現(xiàn)對測序反應(yīng)小室I的加熱。加熱片24持續(xù)對測序反應(yīng)小室進行加熱，直到達到指定的溫度，加熱片停止加熱。其中，加熱片24和測溫裝置21通過導(dǎo)線與數(shù)據(jù)處理裝置 20連接。本實施例中的制冷裝置25與液體傳輸組件4連接，用于對液體傳輸組件4中的試劑進行制冷，能夠延長試劑的保鮮時間，同時，避免用戶頻繁更換試劑。制冷的試劑被傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室，可實現(xiàn)對測序反應(yīng)小室降溫。基于上述實施例，本發(fā)明提出一實施例，如圖13所示。該基因測序設(shè)備包括液體傳輸組件、測序反應(yīng)小室、溫控組件、光源組件、采圖組件和數(shù)據(jù)處理組件。其中(I)液體傳輸組件4,用于存儲和傳輸試劑。
(2)測序反應(yīng)小室1，用于固定樣品，并進行測序反應(yīng)。(3)溫控組件2，固定于測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域，用于對測序反應(yīng)小室進行溫度控制。(4)光源組件3，位于測序反應(yīng)小室與溫控組件相對的一側(cè)，用于提供拍攝圖像所需的光。(5)采圖組件5，用于拍攝圖像。(6)數(shù)據(jù)處理組件6，用于處理采圖組件拍攝的圖像。本實施例中，溫控組件2位于測序反應(yīng)小室I的一側(cè)，光源組件3位于測序反應(yīng)小室I與溫控組件相對的另一側(cè)。測序反應(yīng)小室I可以有多個。數(shù)據(jù)處理組件6可同時與多個采圖組件連接，并行處理多個采圖組件中采集的圖像。本技術(shù)方案中的基因測序設(shè)備的測序反應(yīng)小室I固定樣品，液體傳輸組件4將液體傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室1，溫控組件2對測序反應(yīng)小室I進行溫度控制，樣品與試劑在測序反應(yīng)小室I內(nèi)進行測序反應(yīng)，當(dāng)反應(yīng)完成時，光源組件3提供拍攝圖像所需的光線，光線到達測序反應(yīng)小室2，采圖組件5拍攝測序反應(yīng)后的測序反應(yīng)小室內(nèi)的圖像，采圖組件5將拍攝的圖像傳輸給數(shù)據(jù)處理組件6，數(shù)據(jù)處理組件6處理采圖組件5拍攝的圖像。本實施例的技術(shù)方案中，基因測序設(shè)備克服了傳統(tǒng)拍攝明場圖和拍攝熒光圖的光源分別位于測序反應(yīng)小室2的兩側(cè)，使得基因測序設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單；同時溫控組件2與測序反應(yīng)小室I充分接觸，使得溫控效率更高；另外，測序反應(yīng)小室中用于固定樣品的區(qū)域更大， 從而使得測序的通量更高。此外，該基因測序設(shè)備實現(xiàn)了自動化測序。需要說明的是，本發(fā)明的基因測序設(shè)備采用堿基互補配對的原則進行核酸測序， 上述實施例中的基因測序設(shè)備的各個組件僅是較佳的實施例，凡基于同樣原理的基因測序設(shè)備均適合與本發(fā)明，也即都在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。應(yīng)當(dāng)說明的是，本發(fā)明典型的應(yīng)用但不限于基因測序設(shè)備本身，在其他類似的在測序技術(shù)中也可以應(yīng)用本發(fā)明所闡述的裝置或結(jié)構(gòu)。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種基因測序設(shè)備，其特征在于，包括測序反應(yīng)小室、溫控組件；所述測序反應(yīng)小室，用于固定樣品，并進行測序反應(yīng)；所述溫控組件，固定于測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域，用于對測序反應(yīng)小室進行溫度控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述基因測序設(shè)備還包括光源組件，用于提供拍攝明場圖的光源和拍攝熒光圖的激發(fā)光源；所述光源組件包括光源，位于測序反應(yīng)小室與溫控組件相對的一側(cè)，用于提供拍攝圖像所需的光。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述光源組件還包括反光片和濾光裝置；所述反光片，位于溫控組件和測序反應(yīng)小室之間，用于反射到達反光片上的光，以提供拍攝明場圖所需的光；所述濾光裝置，位于光源的一側(cè)，用于過濾干擾光。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述濾光裝置，還用于改變經(jīng)過所述濾光裝置的光的光路。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述反光片的導(dǎo)熱系數(shù)至少為 80ff/m. k，其表面由反光率至少為60%的物質(zhì)制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述基因測序設(shè)備還包括液體傳輸組件，用于存儲和傳輸試劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述液體傳輸組件包括儲液裝置和傳液裝置；所述儲液裝置，用于存儲至少一種試劑；所述傳液裝置，位于儲液裝置的一側(cè)，用于將儲液裝置中的試劑傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室。
8.根據(jù)權(quán)利要求I至7任一項所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述溫控組件包括測溫裝置、數(shù)據(jù)處理裝置、制冷片和散熱片；所述測溫裝置與測序反應(yīng)小室連接，用于通過溫度傳感器測量測序反應(yīng)小室的溫度， 并將測量的溫度發(fā)送給數(shù)據(jù)處理裝置；所述數(shù)據(jù)處理裝置與測溫裝置連接，用于接收并處理測溫裝置發(fā)送的溫度，產(chǎn)生控制指令；所述制冷片，與數(shù)據(jù)處理裝置和測序反應(yīng)小室分別連接，用于根據(jù)控制指令進行工作， 以提供測序反應(yīng)小室加熱或制冷所需的能量；所述散熱片，與制冷片連接，用于傳遞制冷片一側(cè)的能量。
9.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述溫控組件包括測溫裝置、數(shù)據(jù)處理裝置、加熱片和制冷裝置；所述測溫裝置與測序反應(yīng)小室連接，用于通過溫度傳感器測量測序反應(yīng)小室的溫度， 并將測量的溫度發(fā)送給數(shù)據(jù)處理裝置；所述數(shù)據(jù)處理裝置與測溫裝置連接，用于接收并處理測溫裝置發(fā)送的溫度，產(chǎn)生控制指令；所述加熱片與測序反應(yīng)小室和數(shù)據(jù)處理裝置分別連接，用于根據(jù)控制指令進行工作，以提供測序反應(yīng)小室加熱所需的能量；所述制冷裝置，位于液體傳輸組件下方，用于對液體傳輸組件內(nèi)的試劑進行制冷，制冷的試劑通過液體傳輸組件傳輸?shù)綔y序反應(yīng)小室，以對測序反應(yīng)小室進行制冷。
10.根據(jù)權(quán)利要求I至7任一項所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述測序反應(yīng)小室中用于固定樣品的區(qū)域的面積為s, 150mm2 ^ S ^ 2100mm2。
11.根據(jù)權(quán)利要求I至7任一項所述的基因測序設(shè)備，其特征在于，所述測序反應(yīng)小室為多通道或單通道測序反應(yīng)小室。
全文摘要
本發(fā)明涉及生化設(shè)備領(lǐng)域，提供了一種基因測序設(shè)備。所述基因測序設(shè)備包括測序反應(yīng)小室、溫控組件；所述測序反應(yīng)小室，用于固定樣品，并進行測序反應(yīng)；所述溫控組件，固定于測序反應(yīng)小室固定樣品的區(qū)域，用于對測序反應(yīng)小室進行溫度控制。本發(fā)明的溫控組件實現(xiàn)了對測序反應(yīng)小室的快速升降溫，從而提高了測序反應(yīng)的效率。
文檔編號C12M1/34GK102604826SQ20121007116
公開日2012年7月25日 申請日期2012年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月16日
發(fā)明者盛司潼 申請人:盛司潼