本發(fā)明涉及一種光學(xué)生物量測(cè)裝置，特別是涉及一種非侵入式的光學(xué)生物量測(cè)裝置。

背景技術(shù)：

1、近年來(lái)，智能型穿戴裝置(例如，智能型手表等)盛行，并可作為非侵入式的光學(xué)生物量測(cè)裝置以提供使用者各種生理信息(例如：心率、血氧飽和度、血壓、血糖等)。

2、由于穿戴裝置長(zhǎng)期穿戴于身上且存在與人體皮膚表層的汗水接觸，故這些接觸區(qū)域很可能會(huì)變成細(xì)菌的溫床。隨著這些接觸區(qū)域與人體皮膚的長(zhǎng)期摩擦，這些細(xì)菌有可能會(huì)進(jìn)入皮膚引發(fā)膿腫或疼痛的紅疹等感染。

3、有鑒于此，如何提高穿戴裝置的抗菌能力，屬于業(yè)界亟需解決的課題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明目的在于，提高光學(xué)生物量測(cè)裝置的抗菌能力。本發(fā)明通過(guò)改進(jìn)形成的抗菌光學(xué)薄膜的工藝，讓抗菌光學(xué)薄膜具有周期性的納米結(jié)構(gòu)，以增加抗菌光學(xué)薄膜的表面積(即，反應(yīng)面積)來(lái)達(dá)到提高抗菌能力的效果。據(jù)此，相對(duì)于傳統(tǒng)的穿戴裝置，采用本發(fā)明的光學(xué)生物量測(cè)裝置的穿戴裝置可具有較高的抗菌能力。

2、為達(dá)上述目的，本發(fā)明揭示一種光學(xué)生物量測(cè)裝置，包含：一基板；一光源，設(shè)置于該基板上；一光電二極管感測(cè)器，設(shè)置于該基板上，與該光源呈橫向間隔；多個(gè)擋光墻，垂直設(shè)置于該基板上，并橫向位于該光源的兩側(cè)及該光電二極管感測(cè)器的兩側(cè)；一封膠層，覆蓋于該光源、該光電二極管感測(cè)器及該等擋光墻上；一蓋板，膠合于該封膠層上；多個(gè)吸光薄膜，垂直對(duì)準(zhǔn)該等擋光墻，設(shè)置于該蓋板的一上表面的多個(gè)蝕刻區(qū)域中；一濾光薄膜，設(shè)置于該蓋板及該等吸光薄膜上；多個(gè)納米金屬粒子，彼此間隔一距離設(shè)置于該濾光薄膜上；以及一抗菌光學(xué)薄膜，覆蓋于該等納米銀粒子及該濾光薄膜上。

3、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該等納米金屬粒子為多個(gè)納米銀粒子。

4、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該等納米銀粒子的一面積與該濾光薄膜的一面積的比例小于10％。

5、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該等納米銀粒子的一粒徑小于5納米(nm)。

6、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該等納米銀粒子彼此間隔的該距離為50nm～100nm。

7、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該等納米銀粒子是通過(guò)于該濾光薄膜上形成一銀膜后，執(zhí)行一熱退火工藝來(lái)形成。

8、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該熱退火工藝是以300℃～500℃進(jìn)行60分鐘。

9、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該抗菌光學(xué)薄膜的一厚度大于5nm。

10、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該抗菌光學(xué)薄膜的一折射率為1.5～2.5。

11、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該抗菌光學(xué)薄膜由一硫化鋅材料所制成。

12、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該光源為一發(fā)光二極管。

13、于一實(shí)現(xiàn)方式中，該濾光薄膜由多個(gè)二氧化鈦層及多個(gè)二氧化硅層彼此交疊形成。

14、在參閱附圖及隨后描述的實(shí)施方式后，此技術(shù)領(lǐng)域具有普通技術(shù)知識(shí)的人員便可了解本發(fā)明的其他目的，以及本發(fā)明的技術(shù)手段及實(shí)施方式。

技術(shù)特征：

1.一種光學(xué)生物量測(cè)裝置，包含：

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該等納米金屬粒子為多個(gè)納米銀粒子。

3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該等納米銀粒子的一面積與該濾光薄膜的一面積的比例小于10％。

4.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該等納米銀粒子的一粒徑小于5納米。

5.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該等納米銀粒子彼此間隔的該距離為50納米～100納米。

6.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該等納米銀粒子是通過(guò)在該濾光薄膜上形成一銀膜后，執(zhí)行一熱退火工藝來(lái)形成。

7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該熱退火工藝是以300℃～500℃進(jìn)行60分鐘。

8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該抗菌光學(xué)薄膜的一厚度大于5納米。

9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該抗菌光學(xué)薄膜的一折射率為1.5～2.5。

10.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該抗菌光學(xué)薄膜由一硫化鋅材料所制成。

11.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該光源為一發(fā)光二極管。

12.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)生物量測(cè)裝置，其中，該濾光薄膜由多個(gè)二氧化鈦層及多個(gè)二氧化硅層彼此交疊形成。

技術(shù)總結(jié)
一種光學(xué)生物量測(cè)裝置，包含：一基板；一光源，設(shè)置于基板上；一光電二極管感測(cè)器，設(shè)置于基板上，與光源呈橫向間隔；多個(gè)擋光墻，垂直設(shè)置于基板上，并橫向位于光源的兩側(cè)及光電二極管感測(cè)器的兩側(cè)；一封膠層，覆蓋于光源、光電二極管感測(cè)器及該等擋光墻上；一蓋板，膠合于封膠層上；多個(gè)吸光薄膜，垂直對(duì)準(zhǔn)該等擋光墻，設(shè)置于蓋板的一上表面的多個(gè)蝕刻區(qū)域中；一濾光薄膜，設(shè)置于蓋板及該等吸光薄膜上；多個(gè)納米金屬粒子，彼此間隔一距離設(shè)置于濾光薄膜上；以及一抗菌光學(xué)薄膜，覆蓋于該等納米金屬粒子及該濾光薄膜上。

技術(shù)研發(fā)人員：陳君閣,林子卉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：臺(tái)亞半導(dǎo)體股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/4/28