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一種石墨烯發熱面料及其制備方法與流程

文檔序號:12111298閱讀:490來源:國知局

本發明涉及面料領域,尤其涉及一種石墨烯發熱面料及其制備方法。



背景技術:

面料就是用來制作服裝的材料。作為服裝三要素之一,面料不僅可以詮釋服裝的風格和特性,而且直接左右著服裝的色彩、造型的表現效果。

專利公開號104562715A公開了一種全棉法蘭絨印花面料加工方法,其包括如下工序:織造→坯布下機后前處理→對布面經過煮漂和絲光→通過定型機預定型→上機活性印花烘干→蒸化水洗固色→膨松劑柔軟劑定型→預縮→成品檢驗。該印花面料無發熱的功能。



技術實現要素:

有鑒于此,本發明一方面提供一種石墨烯發熱面料的制備方法,該制備方法解決了制備方法繁瑣和制得面料無發熱功能的問題。

為達此目的,本發明采用以下技術方案:

一種石墨烯發熱面料的制備方法,包括以下步驟:

(1)配置石墨烯印花漿,按質量份計,所述石墨烯印花漿包括以下組分:

(2)所述石墨烯印花漿印制在面料上,按照花型進行印花、烘干、蒸化固色、水洗、擴幅,制得石墨烯發熱面料。

其中,按質量份計,所述石墨烯印花漿包括以下組分:

其中,所述步驟(2)中印花工藝為:將所述面料置于壓花機的上下模之間固定,合模,所述面料經傳動部件輸送至壓板下方,啟動加熱室對所述面料加熱,壓花輥和底輥對加熱后的面料進行壓合。

其中,所述步驟(2)中烘干溫度為135~150℃,例如可以為135℃、138℃、140℃、142℃、144℃、145℃、148℃或150℃,優選142~145℃;烘干時間為15~30s,例如可以為15s、18s、20s、22s、25s、28s或30s等,優選20~25s。

其中,所述步驟(2)中蒸化固色溫度為115~128℃,例如可以為115℃、118℃、120℃、122℃、124℃、125℃、126℃或128℃,優選122~124℃;蒸化固色時間為6~10min,例如可以為6min、7min、8min、9min或10min等,優選7~8min。

其中,所述步驟(2)中水洗溫度為62~68℃,例如可以為62℃、63℃、64℃、65℃、66℃、67℃或68℃,優選64~65℃;水洗速率為8~12m/min,例如可以為8m/min、9m/min、10m/min、11m/min或12m/min等,優選9~10m/min。

其中,所述步驟(2)中擴幅溫度為126~128℃,例如可以為126℃、127℃或128℃,優選126~127℃;擴幅速率為35~40m/min,優選36~38m/min。

本發明另一方面提供一種采用上述制備方法制備的石墨烯發熱面料,該石墨烯發熱面料解決了面料對人體無發熱功能的問題

一種石墨烯發熱面料,采用上述制備方法制得。

與現有技術相比,本發明的有益效果如下:本發明的石墨烯印花漿中含有石墨烯、二甲基甲酰胺、氯化銨、三乙醇胺和增稠劑,將石墨烯印花漿印制在面料上,石墨烯印花漿結合到面料中,經過處理后的石墨烯發熱面料具有良好的發熱功能,遇到人體后產生熱量,溫度升高至2~3℃,使人體感覺到溫暖。

具體實施方式

下面結合實施例來進一步說明本發明的技術方案。

實施例1

本實施中的石墨烯發熱面料的制備方法,包括以下步驟:

配置石墨烯印花漿,按質量份計,石墨烯印花漿包括以下組分:

石墨烯印花漿印制在面料上,按照花型進行印花、烘干、蒸化固色、水洗、擴幅,制得石墨烯發熱面料。

實施例2

本實施中的石墨烯發熱面料的制備方法,包括以下步驟:

配置石墨烯印花漿,按質量份計,石墨烯印花漿包括以下組分:

石墨烯印花漿印制在面料上,所述面料置于壓花機的上下模之間固定,合模,所述面料經傳動部件輸送至壓板下方,啟動加熱室對所述面料加熱,壓花輥和底輥對加熱后的面料進行壓合、在135℃下烘干30s、在120℃下蒸化固色8min、在65℃下按照10m/min速率進行水洗、在126℃下按照36m/min速率進行擴幅,制得石墨烯發熱面料。

實施例3

本實施中的石墨烯發熱面料的制備方法,包括以下步驟:

配置石墨烯印花漿,按質量份計,石墨烯印花漿包括以下組分:

石墨烯印花漿印制在面料上,所述面料置于壓花機的上下模之間固定,合模,所述面料經傳動部件輸送至壓板下方,啟動加熱室對所述面料加熱,壓花輥和底輥對加熱后的面料進行壓合、在142℃下烘干20s、在122℃下蒸化固色7min、在64℃下按照9m/min速率進行水洗、在126℃下按照36m/min速率進行擴幅,制得石墨烯發熱面料。

申請人聲明,本發明通過上述實施例來說明本發明的詳細結構特征以及施工方法,但本發明并不局限于上述詳細結構特征以及施工方法,即不意味著本發明必須依賴上述詳細結構特征以及施工方法才能實施。所屬技術領域的技術人員應該明了,對本發明的任何改進,對本發明所選用部件的等效替換以及輔助部件的增加、具體方式的選擇等,均落在本發明的保護范圍和公開范圍之內。

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