專利名稱：硬火石位置的不含鉛的光學玻璃的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種光學玻璃、這種玻璃的生產、這種玻璃的用途、光學元件或這些光學元件的預成型件和包含這些光學元件的光學部件或光學組件。
背景技術：
本文主張的光學位置(極硬的火石位置)的常規光學玻璃通常含有PbO，以便實現期望的光學性質，即，優選為1.80≤nd≤1.95的折射率nd，和/或19≤vd≤28的阿貝數vd，但尤其為高折射率。因此，這些玻璃在化學方面不是很穩定。另外As2O3常用作澄清劑。由于近年來已將玻璃組分PbO和As2O3視為對環境有害的，因此光學儀器和產品的大多數制造商傾向于使用不含鉛且不含砷的玻璃。為了在高質量產品(即，具有增加材料等級的產品)中使用，具有增加的化學穩定性的玻璃也一直變得越來越重要。
已知的具有高折射率和低阿貝數的硬火石或鑭硬火石位置的不含鉛的玻璃通常在硅酸鹽基質中含有大量TiO2，這導致了極端的結晶不穩定性，且因此導致常在二次熱壓步驟中不可工作且由于高硬度而很難以機械方式處理的玻璃。
替代迄今為止的塊或錠形式的玻璃的光學組件的常規加工，目前生產方法已越來越重要，其中可在熔化玻璃結束時直接獲得直接壓制，即，與最終輪廓盡可能接近的用于重新壓制的精密模制的光學組件和/或預成型件(所謂“精密料塊”)。“精密料塊”通常意指優選完全火拋光、半自由或自由成型的玻璃部分，其可經由各種生產方法獲得。
出于此原因，在熔化和模制工藝技術的情境中已經越來越多地報告對“短性”玻璃的需要，即，粘度隨溫度劇烈變化的玻璃。此方法在處理期間展示出優點，即可能減少模制次數，且因此減少模具閉合次數，在精密模制工藝中獲得接近最終幾何形狀的產品。因此，一方面增加產量，且另一方面節省模具材料，這對整個生產成本具有極為積極的作用。另外，由于借此獲得的較快凝固，因此與相應的較長玻璃相比，也可能加工更易于結晶的玻璃，且將避免或至少明顯減少可能在稍后二次熱壓中引發問題的預成核(pre-nucleation)。
出于相同原因，可能需要溫度-粘度曲線在絕對項中包含模制范圍中的低溫的玻璃。通過較低的過程溫度，這還有利于增加模具壽命，且通過較快的不含應力的冷卻，還有利于低預成核率。這還提供更大范圍的可能更經濟的模具材料，這在接近最終幾何形狀的精密模制中尤其顯著。
在以下文獻中概述有關本發明的現有技術·DE 2905875 Nippon Kogaku·EP 1 468 974 Hoya·EP 1 493 720 Hoya·JP 09 188 540 Ohara·EP 1 382 582 Ohara由此可能生產具有類似光學位置或具有相當化學成分的玻璃，盡管其在與根據本發明的玻璃直接比較時顯示出顯著的缺點DE 2905875的實例中描述的玻璃具有以重量計等于或小于39％的Nb2O5含量。因此在不使用大量昂貴且高指數組分以及增加量的TiO2的情況下不能實現根據本發明的玻璃所需的光學位置，盡管使得玻璃的結晶穩定性急劇減小，即在Nb2O5-P2O5基質中的溶解度限制。
EP 1 468 974(Prio′03)描述強行含有鉍的鈮磷酸鹽玻璃。由于氧化鉍的固有吸收性，這些玻璃在藍色光譜邊緣具有較差的透射性。與不含鉍的玻璃相比，其還對氧化還原作用更敏感，即，不充分的氧化熔化控制可導致Bi°膠體，其導致玻璃的灰色-紫色著色。用于熔化的過程窗進而顯著減小，這導致增加的生產成本和可能較低的良率。
EP 1 493 720(Prio′03)中描述的玻璃同樣得自鈮磷酸鹽玻璃系統，盡管其強行含有具有上述缺點的氧化鉍(以重量計高達37％)或大量氧化鋰(以重量計高達15％)。氧化鋰含量的增加導致熔化物相對于難熔材料的增強的侵蝕性。除了較短的設備壽命，這還導致難熔材料較強地進入玻璃。在鉑的情況下，這導致藍色光譜邊緣處的透射損耗，且在陶瓷材料的情況下導致在熔化物中結晶的傾向增強，以及在一次和二次熱壓(例如，重新壓制)的情況下導致異質結晶核的進入。
JP 09 188 540(Prio 95)中揭示的玻璃具有以重量計20％的最大總堿土金屬氧化物含量。這限制了調節充分“陡峭”的粘度-溫度曲線的可能，且因此限制接近最終幾何形狀的模制過程(例如“精密模制”)的可處理性。
盡管鈮磷酸鹽玻璃對氧化還原作用具有敏感性，但EP 1 382 582(Prio′02)中描述的玻璃僅具有極低含量的穩定氧化銻(最大以重量計高達0.03％)。這使得熔化過程更容易經受不可避免的波動，且由于增加的監視工作和可能較低的良率而增加加工成本。

發明內容
因此，本發明的目的是提供避免上述現有技術的所述問題和促進期望的光學性質的光學玻璃。這些玻璃應優選可通過精密壓制方法而加工，且具有低轉變溫度。另外，其應可容易熔化和加工，且對于二級熱壓步驟具有充分的結晶穩定性和/或在連續運行的工廠中生產。而且需要一種粘度范圍為107.6到1013dPas的盡可能短性的玻璃。
通過權利要求書中所描述的本發明的實施例實現以上目的。
明確地說，提供一種光學玻璃，其包含以下成分(以氧化物計算的重量％)

根據本發明的玻璃具有優選為1.80≤nd≤1.95，更優選為1.81≤nd≤1.94的折射率(nd)，和/或優選為19≤vd≤28，更優選為20≤vd≤27的阿貝數(vd)。


無
具體實施例方式
除非在相應處另外指示，否則表示法“不含X”或“不含組份X”意味著玻璃實質上不含有此組份X，即，此組份最多作為雜質而存在于玻璃中，然而不將其作為單個組份而添加到玻璃成分中。X表示任意組份，例如Li2O。
術語“光學位置”期望意指玻璃在阿貝圖中的位置，其由玻璃的nd和vd值界定。
基本的玻璃系統是鈮磷酸鹽玻璃，磷酸鹽用作用于調節期望的光學位置所需的氧化鈮的溶劑。
玻璃含有磷酸鹽或P2O5的比例以重量計最少為14％，優選地以重量計最少為17％，更優選地以重量計最少為21％。P2O5的比例限于以重量計最多為35％，優選地以重量計最多為30％，尤其優選地以重量計最多為26％。在高于以重量計約35％的磷酸鹽含量下，對處在足以獲得高折射率的含量下的玻璃不能添加更多高指數組分。
而且，所述玻璃含有至少三種用于增加折射率的組分；特定來說，所述玻璃含有至少Nb2O5、BaO和TiO2。
作為用于實現期望的光學位置且尤其是高折射率的主要或一級組分，玻璃含有的Nb2O5的比例以重量計最少為45％，優選地以重量計最少為46％，且以重量計最多為50％。以重量計高于50％的Nb2O5含量將有使Nb2O5在基質中不再完全溶解的問題，且可能因此導致熔化物結晶。
為了確保Nb2O5在玻璃基質中的溶解度，Nb2O5與P2O5的比率還應位于特定范圍中。Nb2O5/P2O5比率(以重量％計)優選為最大3.5，更優選為最大3.0，最優選為最大2.5。Nb2O5/P2O5比率高于3.5時，玻璃變得不穩定；可能由于分層和/或結晶而發生“失透明(devitrification)”。Nb2O5/P2O5比率(以重量％計)優選為最小約1.2，更優選為最小1.5，尤其優選為最小1.7。考慮到失透明穩定性，極低的Nb2O5/P2O5比率(以重量％計)實際上是所期望的，但將需要高得多的絕對磷酸鹽含量，使得將可能引入足夠的高指數組分(例如，TiO2、ZrO2和BaO)以便實現此處期望的折射率位置和/或網絡改良劑，尤其為二價金屬氧化物，即，此處為堿土金屬氧化物MgO、CaO、BaO，以便調節期望的材料短性。
作為用于實現期望的折射率位置的第二主要組分或二級組分，除了Nb2O5之外，根據本發明的玻璃還含有高指數堿土金屬氧化物BaO的比例以重量計最少為17％，優選地以重量計最少為18％，尤其優選地以重量計最少為22％，且以重量計最多為23％，優選為以重量計最多為22％。BaO含量以重量計低于17％時，將不可能實現期望的高折射率。
盡管Nb2O5在以重量計高于50％的比例下在基質中不再完全溶解且可能導致熔化物結晶，但令人驚奇的是以重量計高達50％的Nb2O5與以重量計高達23％的BaO的混合物即使在這種高含量下仍然良好地溶解。
除了BaO，其它這些高指數組分(例如TiO2和/或ZrO2)的較高比例也將導致光學位置移向進一步增加的色散。然而，這些組分的高含量極度需要光學設計中的色差校正，這使得這些玻璃尤其在用于消費部分的光學元件領域中不可行。
少量地添加的TiO2和ZrO2(盡管還有Nb2O5和BaO)也證實有利于作為用于根據本發明的玻璃的進一步第三高指數組分。然而優選地，根據本發明的多數實施例，這兩個組分TiO2和ZrO2的總含量限制在以重量計最多7％。限制這些組分也是期望的，以便不增加玻璃的結晶傾向性。
根據本發明的玻璃含有TiO2的比例為以重量計1％到小于5％，優選為以重量計最少2％，更優選為以重量計最少3％。另外，根據本發明的玻璃可含有的ZrO2的比例為以重量計最多6％，優選為最多高達以重量計最多4％。然而根據本發明的一個實施例，玻璃不含ZrO2。
出于減小根據本發明的玻璃的結晶敏感度的目的，必須添加含量為以重量計0.1到5％，優選為以重量計小于4％，尤其優選為以重量計最多1％的少量但明顯的ZnO，這防止或阻礙晶格的形成。然而以重量計大于5％的ZnO含量減小了折射率，使得不能實現期望的光學位置。
需要以重量計0.5％到5％的K2O用于光學位置與溫度-粘度曲線的靈活精細調節。較低含量將不會給出期望的效果，而較高含量導致較低折射率和/或“長性”玻璃。
可將較低的堿金屬氧化物Li2O和Na2O添加到根據本發明的玻璃以用于特定的專用調適，例如為使玻璃適合于離子交換或溫度-粘度曲線的精細調適。堿金屬氧化物的總比例優選為以重量計最多8％，更優選為以重量計最多6％，尤其優選為以重量計最多5％。以重量計高于8％的含量導致較低折射率和/或“較長性玻璃”方向上的不可接受的劇烈影響。
可含有Na2O的比例為以重量計最多4％，優選為以重量計最多3％，尤其優選為以重量計最多0.5％。
可含有Li2O的比例為以重量計最多4％，優選為以重量計最多3％。然而根據本發明的玻璃的某些實施例不含Li2O。以重量計高于4％的鋰含量導致熔化物對難熔材料的提高的侵蝕性。這導致難熔材料較多地進入玻璃和縮短設備壽命。如果鉑用作難熔材料，這導致藍色光譜邊緣處的投射損耗，且當使用陶瓷材料時導致熔化物中結晶敏感度增加，以及一級和二級熱壓時異質結晶核的進入。
根據本發明的玻璃還優選不含B2O3。B2O3對玻璃有不良影響，尤其與鉑熔化設備組合時。B2O3本質上導致玻璃中離子遷移率的增加，這導致失透明敏感度增加。與在鉑坩堝中熔化組合時此效應增加，因為通過其對坩堝材料的侵蝕，B2O3增加了異質鉑核的進入。另外，增加的鉑金入還劣化了尤其在藍色光譜范圍中的透射。
為精細調節粘度-溫度曲線，根據本發明的玻璃可具有總含量以重量計最多為5％的一方面的二價金屬氧化物群組MO(即，MgO、CaO和/或SrO)另一方面的F。超過此上限將對粘度-溫度曲線(過度短性的玻璃)有不良影響，且通過顯著減小折射率和增加阿貝數而偏離期望的光學位置。
由于根據本發明的玻璃對氧化還原反應敏感，因此使條件轉向熔化時的還原條件可導致玻璃由于所得的膠體微粒而引起強烈著色。為抵消此效應和避免存在還原條件的熔化物，根據本發明的玻璃含有的Sb2O3的比例為以重量計最少0.1％，優選為以重量計最少0.2％，且以重量計最多2％，優選為以重量計最多0.8％。因此，此組分僅次要地用作澄清劑，且主要用以確保氧化性熔化條件。然而，由于Sb2O3具有固有的吸收性，所以不應超過以重量計2％的含量。Sb2O3含量越高，藍色光譜范圍的吸收邊緣向較高波長的移位越強，使得使視覺范圍成像的色差可能隨著Sb2O3量的增加而發生。
除了Sb2O3，根據本發明的玻璃可含有少量其它的常規澄清劑。這些另外添加的澄清劑的總量優選為以重量計最多1.0％，添加到剩余玻璃成分的組分的這些量作為以重量計100％。以下組分可用作其它澄清劑(以另外對剩余玻璃成分的重量％計)As2O30-1和/或SnO 0-1和/或SO42-0-1和/或NaCI 0-1和/或F-0-1為在可實現的光學位置范圍內更靈活地調節特定光學位置，根據本發明的玻璃還可含有群組La2O3、Y2O3、Bi2O3、Gd2O3、GeO2、Ta2O5、Yb2O5、WO3中的一種或一種以上氧化物，其總比例為以重量計最多5％，優選為以重量計最多2％。此群組La2O3、Y2O3、Bi2O3、Gd2O3、GeO2、Ta2O5、Yb2O5、WO3中組分的總含量以重量計超過5％將導致透射損耗(由于Y2O3、La2O3、Bi2O3、Gd2O3、Yb2O5、WO3)、失透明敏感度增加(由于GeO2、La2O3、Bi2O3)和/或不期望的玻璃“長度”(由于GeO2)。
根據光學玻璃的多數實施例，根據本發明的玻璃優選不含著色和/或光學激活(例如激光激活)組件。根據本發明的另一實施例，當用作用于光學過濾器或固態激光器的基底玻璃時，根據本發明的玻璃可仍然含有的著色和/或光學激活(例如激光激活)組分的比例為以重量計最多5％，進一步添加到剩余玻璃成分的組分的這些量作為以重量計100％。
根據多數實施例，根據本發明的玻璃優選不含氧化鋁。然而根據本發明的特定實施例，玻璃也適用于離子交換過程。根據此實施例，玻璃優選含有Al2O3。以重量計最多6％的低Al2O3比例促進材料中結構的形成，這另外通過增加離子遷移率而增強了離子交換。然而使Al2O3含量增加超過以重量計6％將導致失透明敏感度增加和不期望的玻璃“長度”，因此不是優選的。根據本發明的玻璃也可含有的氧化銀的比例為以重量計5％，優選為以重量計2％。然而，使氧化銀含量增加超過以重量計5％將導致玻璃透射的損耗。
根據本發明的一個實施例，玻璃不含對環境有害的組分，例如鉛和/或砷。
根據本發明的另一實施例，根據本發明的玻璃還優選不含權利要求書和/或此說明中未提到的其它組分，即，根據此實施例，玻璃本質上由所述組分組成。在此情況下，表示法“本質上由…組成”意指其它組分最多作為雜質存在，但不會作為單獨組分有意添加到玻璃成分。根據本發明的一個實施例，根據本發明的玻璃的以重量計優選從90％到95％由所述組分組成。
根據一個實施例，根據本發明的玻璃“不含污染物”，即，其本質上不含通過熔化過程作為雜質而引入的化合物。特定來說，玻璃不含有關SiO2的污染物，且不含有關金屬坩堝材料(尤其為Pt0/1、Au、Ir或這些金屬的合金)的殘余物污染物。表示法“不含污染物”意指這些組分并不作為組分添加到玻璃批量中，或通過熔化玻璃時的坩堝腐蝕而作為雜質引入玻璃中。表示法“不含有關SiO2的污染物”意指玻璃含有以重量計最多0.1％SiO2，優選為最多500ppm。表示法“不含有關金屬坩堝材料的殘余物污染物”意指玻璃含有最多100ppm，優選為最多60ppm的這種金屬坩堝材料殘余物。根據此實施例的玻璃具有顯著增加的透射以及大程度增加的結晶穩定性。在此情況下，增加的結晶穩定性在此情況下是基于缺少異質SiO2和/或金屬結晶核，其通常通過進入個別選擇的坩堝材料而進入熔化物。通過缺乏散射膠體Pt°微粒和散射硅酸鹽微粒以及基于上述物質的微結晶，避免了整個頻帶范圍內的透射減少。同樣，吸收其整個頻帶光譜的Pt′或類似金屬離子的缺乏將導致改進的透射。可通過合適的過程控制獲得根據此實施例的玻璃。特定來說，熔化坩堝或熔化槽必須充分冷卻以使得玻璃的涂層形成于熔化槽的表面上，且玻璃熔化物本身在本質上不會與坩堝或槽的表面接觸，且涂層用以保護坩堝或槽不受雜質影響。
根據本發明的所有玻璃都具有最多715℃的Tg、都是結晶穩定的，且可良好地加工。
根據本發明的所有玻璃都具有在以約7K/h的冷卻速率冷卻的測量樣本上大于或等于130×10-4的不規則相對部分色散ΔPg，F，即，其高度適用于彩色成像系統中的光學彩色校正。
根據本發明的所有玻璃都具有最多4.2g/cm3的特定密度p。由于其在相對項中的低承載質量，由其制成的光學元件和/或光學組件因此尤其適用于移動/便攜式單元。
根據本發明的所有玻璃都具有在20到300℃范圍內最多8.2×10-7/K的熱膨脹系數。因此，其與已知的磷酸鹽玻璃顯著不同，已知的磷酸鹽玻璃由于其在約14×10-7/K區域中的極高的熱膨脹，因而在再加工和組裝技術中有熱應力的問題。
而且，根據本發明的所有玻璃分別具有良好的化學穩定性和針對結晶的穩定性，以及結晶穩定性。而且，其以接近最終幾何形狀的良好可熔性和靈活可加工性、由于加工成本減少獲得的低生產成本、良好的離子交換性質和良好的環境友好性而著稱。
通過使用根據本發明的玻璃，實現了光學位置、粘度-溫度曲線和加工溫度的調節，使得即使用敏感的精密機器也能確保接近最終幾何形狀的高度指定的模制。另外，實現了結晶穩定性和粘度-溫度曲線的校正，使得可能容易對玻璃進行進一步熱處理，例如壓制或重新壓制或離子交換過程。
另外，本發明涉及一種用于生產光學玻璃的方法，其包含在熔化物中建立氧化條件的步驟。
根據根據本發明的方法的一個實施例，將至少有效比例的組分(特定來說以重量計最少為0.2％)作為硝酸鹽添加到將要熔化的批量中。舉例來說，在硝酸鹽情況下，“以重量計0.2％”意指以重量計0.2％的相應金屬氧化物轉換為相同摩爾比例的相應硝酸鹽，且此比例作為硝酸鹽添加到熔化物批量中。硝酸鹽在氧化還原澄清系統中氧化澄清劑本身，因此當用AS2O3和/或Sb2O3澄清時是優選使用的。
可同樣將氧化氣體引入熔化物以便設定熔化物中的氧化條件，含有氧的氣體是優選的，例如空氣或純氧氣。
另外，熔化坩堝或熔化槽可另外充分冷卻以使得玻璃的涂層形成于熔化槽的表面上，且玻璃熔化物本身在本質上不會與坩堝或槽的表面接觸，且玻璃涂層用以保護坩堝或槽不受雜質影響。
磷酸鹽比例優選作為復合磷酸鹽添加到批量中，即，不是以自由P2O5的形式而是作為具有其它組分的化合物(例如作為例如Ba(H2PO4)2的磷酸衍生物)來添加磷酸鹽。
此外，本發明涉及根據本發明的玻璃在成像、傳感器、顯微術、醫療技術、數字保護、電信、光學通信工程/信息傳輸、汽車行業中的光學元件/照明、光刻、步進器、激態分子激光器、晶片、計算機芯片以及集成電路和含有所述電路和芯片的電子裝置的應用領域的用途。
此外，本發明涉及包含根據本發明的玻璃的光學元件。在此情況下，光學元件可特定為透鏡、棱鏡、光導桿、陣列、光纖、梯度組件、光學窗和緊湊組件。根據本發明，術語“光學元件”也包括此光學元件的預成型件，例如料塊、精密料塊和類似物。
此外，本發明涉及一種用于生產光學元件或光學組件的方法，其包含以下步驟壓制根據本發明的光學玻璃。
玻璃的壓制優選為精密壓制過程。
根據一個實施例，通過重新壓制將玻璃加工為光學組件。
根據本發明使用的術語“精密壓制”意指一種壓制方法，其中所生產的光學組件的表面在精密壓制之后不再需要研磨或拋光，而是具有基本足夠的表面質量。
在常規壓制方法中，表面在壓制之后沒有足夠的光學質量，且受壓件必須(例如)在進一步使用之前進行拋光。
作為開始材料，可從熔化物直接加工用于壓制方法的玻璃。在精密壓制的情況下，便使用術語精密模制。
作為從玻璃熔化物的替代性直接壓制，可重新加熱凝固的玻璃料塊；在此情況下壓制過程是二次熱壓過程，其也稱為重新壓制。對玻璃的這種重新壓制的要求非常高。這些玻璃必須比從熔化物直接處理的玻璃具有高得多的結晶穩定性，且不能二次加熱到加工溫度。
對于重新壓制，可使用料塊或鋸成的預成型件。所謂的精密料塊也優選用于精密壓制，即，凝固的玻璃料塊，其重量已相當于將生產的光學組件的最終重量，且其形狀也優選類似于將生產的光學組件的最終形狀。在這些精密料塊的情況下，重新壓制不會留下在進一步加工步驟中必須去除的多余材料的突出毛口。
此外，本發明涉及使用這種光學元件來生產光學部件，例如傳感器、顯微術、醫療技術、數字保護、電信、光學通信工程/信息傳輸、汽車行業中的光學元件/照明、光刻、步進器、激態分子激光器、晶片、計算機芯片以及集成電路和含有所述電路和芯片的電子裝置。
此外，本發明涉及例如用于成像傳感器、顯微術、醫療技術、數字保護、電信、光學通信工程/信息傳輸、汽車行業中的光學元件/照明、光刻、步進器、激態分子激光器、晶片、計算機芯片以及集成電路和含有所述電路和芯片的電子裝置的光學部件。
以下通過一系列實例更詳細解釋本發明。然而本發明不限于所述實例。
實例表2含有在優選成分范圍內的8個示范性實施例，以及兩個比較性實例。如下制成實例中描述的玻璃稱出氧化物的原材料(優選為相應的碳酸鹽)和磷酸鹽比例(優選為復合磷酸鹽)，添加一種或一種以上澄清劑(例如Sb2O3)，且隨后將其良好地混合。玻璃批量在約1200℃下在不連續的批量熔化設備中熔化，隨后被精煉(1250℃)并均質化。在約1000℃的鑄造溫度下，玻璃可被鑄造并加工成期望的尺寸。經驗顯示，在大容量的連續設備中，溫度可降低至少約100K，且可通過壓制方法(例如，精密壓制)將材料加工成接近最終幾何形狀。
表1計算出的100kg玻璃的熔化實例(根據實例2、表2)

表2中在實例2中指定以此方式獲得的玻璃的性質。
表2熔化實例(以重量％計)

續表2熔化實例(以重量％計)


比較性實例1是不會由于缺乏ZnO而獲得透明玻璃的成分；相反，當冷卻所述成分以便產生玻璃陶瓷時發生較強的失透明。因此，不能確定光學數據。
比較性實例2是不含任何氧化銻的成分。因此，所述成分的氧化電勢過低且導致熔化物氧化還原狀態的移動，且因此導致深暗紅色視覺色彩效果，這對于光學玻璃來說是不可接受的。
實例1到8的所有玻璃都具有含量以重量計低于0.1％的SiO2和含量低于100ppm的金屬坩堝材料殘余物。其以高結晶穩定性和優良的透明度著稱。
實例9的成分是根據某些實施例較不優選的成分，因為其含有少量但以重量計高于0.1％的SiO2。通過此玻璃可觀察到增加的結晶傾向性。在790℃下，此比較性實例的LDL比作為最與其接近的實例(LDL～840℃)的實例4的情況低50K。“LDL”在此情況下期望意指所謂的較低失透明限度。這是在上升溫度控制下材料開始失透明的溫度。LDL越低，任何二次熱壓過程的過程窗越小。50K的差異在二次熱壓部分中已經較明顯，因為“短性”玻璃優選用于精密模制。
根據實例10的玻璃也屬于較不優選的實施例，其黃色視覺色彩效果歸因于存在明顯的B2O3份額，同時使用了鉑熔化坩堝。
根據本發明的玻璃與已知的此位置的光學玻璃具有共同的光學數據。然而其以較好的化學穩定性和可處理性、由于減少的原材料和加工成本而獲得的較低生產成本、由于其短性而獲得的充分的結晶穩定性以及環境友好性而著稱。借助由實例(表2)支持的根據本發明的玻璃，實現對結晶穩定性和粘度-溫度曲線的調節，使得可能容易地對玻璃進行進一步熱處理(壓制或重新壓制)。
權利要求
1.一種光學玻璃，其特征在于其包含以下成分(以氧化物計算的重量％)
2.根據權利要求1所述的玻璃，其中所述玻璃不含B2O3，且/或不含有關SiO2的污染物和/或不含有關金屬坩堝材料的殘余物污染物。
3.根據權利要求1所述的玻璃，其特征在于TiO2+ZrO2的總含量以重量計不超過7％，和/或其堿金屬氧化物含量(Li2O+Na2O+K2O)以重量計不超過8％。
4.根據權利要求1所述的玻璃，其特征在于其含有含量以重量計最多6％的氧化鋁。
5.根據權利要求1所述的玻璃，其特征在于其含有含量以重量計最多5％的Ag2O。
6.根據權利要求1所述的玻璃，其特征在于其含有以重量計總共最多5％的從La2O3、Y2O3、Bi2O3、Gd2O3、GeO2、Ta2O5、Yb2O5和WO3中選擇的金屬氧化物。
7.根據權利要求1所述的玻璃，其特征在于其含有含量以重量計最多5％的從由MgO、CaO、SrO、F組成的群組中選擇的一者或一者以上的組分。
8.根據權利要求1所述的玻璃，其特征在于其不含Pt和SiO2。
9.根據權利要求1所述的玻璃，其特征在于其含有以下組分中的一者或一者以上作為澄清劑(以重量％計)As2O30 -1 和/或SnO 0 -1 和/或NaCl 0 -1 和/或SO42-0 -1 和/或F-0 -1
10.根據權利要求1所述的玻璃，其特征在于其折射率nd為1.80≤nd≤1.95且/或阿貝數vd為19≤vd≤28。
11.一種用于生產根據權利要求1所述的玻璃的方法，其包含在熔化物中設定氧化條件的步驟。
12.一種根據權利要求1所述的玻璃的用途，所述玻璃用于例如透鏡、棱鏡、光導桿、陣列、光纖、梯度組件和光學窗等光學元件。
13.一種根據權利要求1所述的玻璃的用途，所述玻璃用于生產用于傳感器、顯微術、醫療技術、數字保護、電信、光學通信工程/信息傳輸、汽車行業中的光學元件/照明、光刻、步進器、激態分子激光器、晶片、計算機芯片以及集成電路和含有所述電路和芯片的電子裝置的光學部件或光學組件。
14.一種光學元件，例如透鏡、棱鏡、光導桿、陣列、光纖、梯度組件和光學窗，其包含根據權利要求1所述的玻璃。
15.一種用于生產光學元件的方法，其包含壓制根據權利要求1所述的玻璃的步驟。
16.一種用于成像、傳感器、顯微術、醫療技術、數字保護、電信、光學通信工程/信息傳輸、汽車行業中的光學元件/照明、光刻、步進器、激態分子激光器、晶片、計算機芯片以及集成電路和含有所述電路和芯片的電子裝置的光學部件或光學組件，其含有根據權利要求1所述的玻璃。
全文摘要
本發明涉及用于成像、傳感器、顯微術、醫療技術、數字保護、光刻、激光技術、晶片/芯片技術以及電信、光學通信工程和汽車行業中的光學元件/照明等應用領域的光學玻璃，其折射率為1.80≤n
文檔編號C03C3/21GK101041553SQ20071008827
公開日2007年9月26日 申請日期2007年3月22日 優先權日2006年3月22日
發明者西爾克·沃爾夫, 斯特凡尼婭·漢森, 烏特·韋爾費爾 申請人:史考特公司