專利名稱：一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃及制備方法
一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃及制備方法
技術領域：
本發明涉及一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，本發明還涉及一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃的制備方法。
背景技術：
玻璃是在當代的生產和生活中扮演著重要角色，建筑物的門窗汽車車窗和擋風玻璃等等許多地方都用到玻璃，給生產和生活帶來了很多的方便。玻璃長期置與外界接觸，極其容易被灰塵污染弄臟。玻璃弄臟后透過率就會降低，從而影響透光效果，且現有的鍍膜玻璃的鍍膜層與玻璃基材的結合力弱、鍍膜層疏松、不均勻。

發明內容本發明目的是克服了現有技術的不足，提供一種透過率高，鍍膜層與玻璃基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻，在可見光下具有自清潔功能的具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，本發明還提供一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃的制備方法。本發明是通過以下技術方案實現的一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，其特征在于通過磁控濺射法在玻璃表面鍍有達到在可見光下具有自清潔功能的功能薄膜，所述的功能薄膜為改性納米二氧化鈦薄膜。如上所述的具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，其特征在于所述的玻璃表面和所述的功能薄膜之間設有一層納米氧化錫。如上所述的具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，其特征在于所述的功能薄膜和所述的納米氧化錫層間設有一層納米二氧化硅薄膜。一種權利要求上述的具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃的制備方法，其特征在于包括如下步驟(1)制備濺射二氧化鈦混合靶在二氧化鈦中加入五氧化鎢，混合后采用高溫噴涂；(2)制備錫靶，將錫熔化后用銦綁定澆注在不銹鋼管上制作錫靶；(3)制備硅靶，采用熱噴涂法，按重量比為Si Al (98 2)制備硅靶;(4)烘干玻璃表面，利用去離子水用臥式清洗機清洗并烘干玻璃表面；(5)利用磁控濺射法在玻璃表面濺射二氧化錫薄膜，采用氧分壓控制，采用氬氧摩爾比為1 2反應濺射，生成二氧化錫薄膜；(6)濺射二氧化硅薄膜，利用磁控濺射法，采用氧分壓控制，氬氧摩爾比為1 2.5 反應濺射，生成二氧化硅薄膜；(7)濺射二氧化鈦薄膜，在大面積鍍膜設備上，用兩個旋轉雙陰極濺射步驟(1) 制備好的混合有五氧化鎢的二氧化鈦混合靶，濺射氣氛為氬氣和氧氣，按摩爾比Ar/仏為 25 1，得到滲有五氧化鎢的二氧化鈦薄膜。
如上所述的制備方法，其特征在于步驟(5)中生成的二氧化錫薄膜厚度為18 22nm。如上所述的制備方法，其特征在于步驟(6)中生成的二氧化硅薄膜厚度為13 17nm。如上所述的制備方法，其特征在于步驟(7)中濺射功率為70KW，濺射速度為5m/ min，濺射反應壓強為4X 10_3mbar。如上所述的制備方法，其特征在于步驟(7)中生成的滲有五氧化鎢的二氧化鈦薄膜厚度為30 50nm。與現有技術相比，本發明有如下優點鍍膜層與玻璃基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻等優點。1、本發明采用磁控濺射法將在可見光下具有自清潔功能的改性納米二氧化鈦薄膜濺射在玻璃基材上，在可見光下具有自清潔功能，鍍膜層與玻璃基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻。能夠使構件外邊面自清潔，不易被污染，容易保持清潔。能夠使構件外表面自清潔。2、本本發明玻璃具有較高的可見光透過率。
圖1是本發明工藝流程圖。
具體實施方式一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，通過磁控濺射法在玻璃表面鍍有達到在可見光下具有自清潔功能的功能薄膜，所述的功能薄膜為改性納米二氧化鈦薄膜。所述的玻璃表面和所述的功能薄膜之間設有一層納米氧化錫。所述的功能薄膜和所述的納米氧化錫層間設有一層納米二氧化硅薄膜。一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃的制備方法，其特征在于包括如下步驟(8)制備濺射二氧化鈦混合靶在二氧化鈦中加入五氧化鎢，混合后采用高溫噴涂；(9)制備錫靶，將錫熔化后用銦綁定澆注在不銹鋼管上制作錫靶；(10)制備硅靶，采用熱噴涂法，按重量比為Si Al (98 幻制備硅靶，以提高硅靶的導電性；(11)利用去離子水用臥式清洗機清洗并烘干玻璃表面；(12)利用磁控濺射法在玻璃表面濺射二氧化錫薄膜，采用氧分壓控制，采用氬氧摩爾比為1 2反應濺射，生成二氧化錫薄膜；(1 利用磁控濺射法，采用氧分壓控制，氬氧摩爾比為1 2. 5反應濺射，生成二氧化硅薄膜；通過上述兩層不同折射率的膜薄疊加，提高透過率。(14)在大面積鍍膜設備上，用兩個旋轉雙陰極濺射步驟(1)制備好的混合有五氧化鎢的二氧化鈦混合靶，濺射氣氛為氬氣和氧氣，按摩爾比Ar/化為25 1，得到滲有五氧化鎢的二氧化鈦薄膜。
步驟(5)中生成的二氧化錫薄膜厚度為18 22nm，二氧化錫薄膜厚度優選20nm。步驟(6)中生成的二氧化硅薄膜厚度為13 17nm。二氧化硅薄膜厚度為優選 15nm。步驟(7)中濺射功率為70KW，濺射速度為5m/min，濺射反應壓強為4X 10_3mbar。步驟(7)中生成的滲有五氧化鎢的二氧化鈦薄膜厚度為30 50nm。本發明采用磁控濺射法將在可見光下具有自清潔功能的改性納米二氧化鈦薄膜濺射在玻璃基材上，在可見光下具有自清潔功能，鍍膜層與玻璃基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻。能夠使構件外邊面自清潔，不易被污染，容易保持清潔。能夠使構件外表面自清潔。本本發明玻璃具有較高的可見光透過率。
權利要求
1.一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，其特征在于通過磁控濺射法在玻璃表面鍍有達到在可見光下具有自清潔功能的功能薄膜，所述的功能薄膜為改性納米二氧化鈦薄膜。
2.根據權利要求1所述的具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，其特征在于所述的玻璃表面和所述的功能薄膜之間設有一層納米氧化錫。
3.根據權利要求2所述的具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，其特征在于所述的功能薄膜和所述的納米氧化錫層間設有一層納米二氧化硅薄膜。
4.一種權利要求3所述的具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃的制備方法，其特征在于包括如下步驟(1)制備濺射二氧化鈦混合靶在二氧化鈦中加入五氧化鎢，混合后采用高溫噴涂；(2)制備錫靶，將錫熔化后用銦綁定澆注在不銹鋼管上制作錫靶；(3)制備硅靶，采用熱噴涂法，按重量比為Si Al (98 2)制備硅靶；(4)烘干玻璃表面，利用去離子水用臥式清洗機清洗并烘干玻璃表面；(5)利用磁控濺射法在玻璃表面濺射二氧化錫薄膜，采用氧分壓控制，采用氬氧摩爾比為1 2反應濺射，生成二氧化錫薄膜；(6)濺射二氧化硅薄膜，利用磁控濺射法，采用氧分壓控制，氬氧摩爾比為1 2. 5反應濺射，生成二氧化硅薄膜；(7)濺射二氧化鈦薄膜，在大面積鍍膜設備上，用兩個旋轉雙陰極濺射步驟(1)制備好的混合有五氧化鎢的二氧化鈦混合靶，濺射氣氛為氬氣和氧氣，按摩爾比Ar/化為25 1， 得到滲有五氧化鎢的二氧化鈦薄膜。
5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于步驟(5)中生成的二氧化錫薄膜厚度為18 2&im。
6.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于步驟(6)中生成的二氧化硅薄膜厚度為13 17nm。
7.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于步驟(7)中濺射功率為70KW，濺射速度為5m/min，濺射反應壓強為4X10_3mbar。
8.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于步驟(7)中生成的滲有五氧化鎢的二氧化鈦薄膜厚度為30 50nm。
全文摘要
本發明公開了一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，其特征在于通過磁控濺射法在玻璃表面鍍有達到在可見光下具有自清潔功能的功能薄膜，所述的功能薄膜為改性納米二氧化鈦薄膜。本發明目的是克服了現有技術的不足，提供一種透過率高，鍍膜層與玻璃基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻，在可見光下具有自清潔功能的具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃，本發明還提供一種具有可見光響應的磁控濺射自清潔玻璃的制備方法。
文檔編號C03C17/34GK102515566SQ20111034849
公開日2012年6月27日 申請日期2011年11月7日 優先權日2011年11月7日
發明者林改 申請人:中山市格蘭特實業有限公司火炬分公司