專利名稱：一種基板玻璃生產(chǎn)過程中成型設(shè)備的溫度控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明專利屬于平板玻璃制造領(lǐng)域，屬于成型設(shè)備中馬弗爐的ー種溫度場方式。
背景技術(shù)：
流下拉法(熔融下拉法)是玻璃制備技術(shù)中生產(chǎn)玻璃板的ー種方法。與其它エ藝相比，例如，浮法和狹縫牽拉エ藝，溢流下拉法生產(chǎn)出具有優(yōu)異平整度和光滑度表面的玻璃板，且不需使用二次成形エ藝(研磨、拋光等)。在一種示例性的熔融下拉エ藝中，玻璃熔體供應(yīng)給形成在耐火材料溢流裝置中的槽。熔融玻璃在溢流裝置兩邊的槽的頂部溢出以形成兩塊半片玻璃板，玻璃板向下流動并隨后沿著溢流裝置的外表面向下流動。兩塊板在溢流裝置的底部或根部匯合，在那里它們?nèi)酆显谝黄鹦纬蓡螇K玻璃板。隨后單塊玻璃板供應(yīng)給拉引設(shè)備。通過由拉制設(shè)備將板牽拉離開根部的速率和控制玻璃的溫度(粘度)來控制玻璃板的厚度、應(yīng)力、表面平整度等相關(guān) 參數(shù)。在下拉エ藝中，最終玻璃板的外面的、面向外的表面將不會與溢流裝置的外表面接觸。更確切地，這些表面只能接觸大氣環(huán)境。形成最終玻璃板的兩塊半片玻璃板的內(nèi)表面確實(shí)接觸溢流裝置，這些內(nèi)表面在溢流裝置的根部熔合，隨后埋入最終玻璃板的主體內(nèi)，并獲得外表面性能優(yōu)異的最終玻璃板。熔融狀態(tài)的玻璃粘度隨溫度不同而不同，在玻璃寬度方向上，要保證溫度分布均勻，否則粘度不同會造成寬度方向的玻璃厚度不均，拉引時造成張カ不同，從而產(chǎn)生局部應(yīng)力不同，造成整個玻璃板應(yīng)カ不良。現(xiàn)在玻璃板制作趨于大型化，在寬度方向可達(dá)到2000mm以上，這就要保證寬度方向的溫度均勻并且可調(diào)，成型設(shè)備的整個溫度場控制就十分重要。溢流下拉法的缺點(diǎn)在于，控制形成玻璃板厚度、應(yīng)力、表面平整度等相關(guān)參數(shù)的手段有限。溢流下拉法的缺點(diǎn)還在干，由于成型設(shè)備內(nèi)為高溫環(huán)境，由于成型裝置本身材料的原因及玻璃板成型的要求，成型裝置上部及下部的溫差必須控制在一定的范圍內(nèi)。溢流下拉法的缺點(diǎn)還在干，由于空氣加熱后上升，造成對溢流裝置底部加熱時，同時導(dǎo)致溢流裝置上部的溫度同步上升，而這種上升對于成型區(qū)域的溫度場具有不良影響。溢流下拉法的缺點(diǎn)還在干，由于空氣加熱后上升，造成對溢流裝置底部加熱時，同時導(dǎo)致溢流裝置上部的溫度同步上升，所時間變化后，早成溢流裝置的上部與下部溫差過大，造成溢流裝置的熱膨脹內(nèi)應(yīng)カ過大，會嚴(yán)重影響溢流裝置的壽命。

發(fā)明內(nèi)容
基板玻璃在成型的過程中，需要均衡的溫度場。此溫度場的要求為隨著玻璃液的向下溢流，溫度逐步下降，保證玻璃液在成型體底部融合時處于ー個合格的溫度，但是在溢流下降的過程中，溫度會過快的下降，造成玻璃液在成型體底部融合過程中的分布不均，進(jìn)而無法保證成型完畢后的玻璃般的厚度，所以在玻璃液的下降過程中需要對玻璃液進(jìn)行加熱保證玻璃液溫度不會過快降低，但是由于空氣受熱上升的原因，即使在馬弗爐的底部加熱，仍然會造成馬弗爐的頂部溫度高于底部，即使將馬弗爐上部的加熱器功率降低，也很難做到馬弗爐上、下部的溫度一致，而降低馬弗爐上部的加熱器功率，會造成馬弗爐上部的溫度不均勻，現(xiàn)有的方法為降低上部的保溫層厚度，但是這樣的調(diào)整幅度小，不夠靈敏，時間延遲明顯，并且溫度過低吋，必須人為添加保溫毯及加熱器功率調(diào)整，造成溫度調(diào)整過于繁瑣，并且會造成能源浪費(fèi)。本發(fā)明提供了ー種基板玻璃成產(chǎn)過程中的方法，設(shè)置用于改變玻璃液流向及分布的溢流裝置；設(shè)置用于承載溢流裝置的殼體；設(shè)置用于溢流裝置殼體降溫的降溫裝置。所述溢流裝置用于溢流下拉法或稱熔融下拉法，其作用是改變玻璃液流向及合格分布。殼體用于作為承載溢流裝置。殼體用于創(chuàng)建合格的溫度場，保證溢流裝置的壽命。殼體用于創(chuàng)建合格的溫度場，保證玻璃液在向下溢流的過程中，處于合格的粘度。降溫裝置用于殼體降溫，保證殼體的機(jī)械強(qiáng)度。所述方法用于溢流裝置殼體降溫及為溢流裝置創(chuàng)建合格的溫度場。所述方法用于溢流下拉法或熔融下拉法生產(chǎn)平板玻璃的過程中。本發(fā)明的重點(diǎn)在于降低溢流裝置上部的溫度，保證溢流裝置的溫度場及溢流裝置的壽命。其方法為在殼體上部及側(cè)上部添加冷卻系統(tǒng)。即在殼體的上部或側(cè)上部或上部及側(cè)上部同時添加冷卻系統(tǒng)，同時結(jié)合溢流裝置的溫度場及外部殼體冷媒進(jìn)入口及流出ロ的溫度、流量等參數(shù)，對其進(jìn)行自動或手工調(diào)整，保證溢流裝置的合格的溫度場及溢流裝置殼體的溫度、強(qiáng)度等參數(shù)。


圖I為馬弗爐的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明的溢流裝置側(cè)視圖；圖3為本發(fā)明的溢流裝置主視圖。其中I為水冷盤管；2為馬弗爐。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例參照附圖1-3，在溢流裝置的殼體的頂部加裝水冷盤管，在水冷盤管的入水ロ及出水口添加溫度傳感器及流量傳感器，根據(jù)溢流裝置頂部的溫度，及時調(diào)整，保證溢流裝置的上下部溫度差出在合格的的范圍內(nèi)。同時也保證溢流裝置頂部的溫度在高于底部的同吋，保證溢流裝置處在合格的溫度場，保證玻璃液的成型溫度場為上部高，下部低，同時保持合理的溫度梯度。需要說明的是實(shí)施例中所述為溢流裝置殼體冷卻系統(tǒng)的ー種形式。溢流裝置殼體的冷卻裝置不局限于水冷，可以使用液冷或風(fēng)冷或其他的冷卻介質(zhì)，冷卻系統(tǒng)可以添加在溢流裝置殼體的上部、側(cè)部或側(cè)上部或這三部分的任意結(jié)合使用。只要其冷卻系統(tǒng)的作用時保證溢流裝置的溫度場及保證溢流裝置殼體的強(qiáng)度。就在本專利的保護(hù)范圍內(nèi)。
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人 員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述掲示的方法及技術(shù)內(nèi)容作出些許的更動或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種基板玻璃生產(chǎn)過程中成型設(shè)備的溫度控制方法，其特征在于設(shè)置用于改變玻璃液流向及分布的溢流裝置；設(shè)置用于承載溢流裝置的殼體；設(shè)置用于溢流裝置殼體降溫的降溫裝置。
2.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于所述溢流裝置用于溢流下拉法或稱熔融下拉法，其作用是改變玻璃液流向及合格分布。
3.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于殼體用于作為承載溢流裝置。
4.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在 于殼體用于創(chuàng)建合格的溫度場，保證溢流裝置的壽命。
5.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于殼體用于創(chuàng)建合格的溫度場，保證玻璃液在向下溢流的過程中，處于合格的粘度。
6.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于降溫裝置用于殼體降溫，保證殼體的機(jī)械強(qiáng)度。
7.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于所述方法用于溢流裝置殼體降溫及為溢流裝置創(chuàng)建合格的溫度場。
8.如權(quán)利要求I所述的方法，其特征在于所述方法用于溢流下拉法或熔融下拉法生產(chǎn)平板玻璃的過程中。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種基板玻璃生產(chǎn)過程中成型設(shè)備的溫度控制方法。設(shè)置用于改變玻璃液流向及分布的溢流裝置；設(shè)置用于承載溢流裝置的殼體；設(shè)置用于溢流裝置殼體降溫的降溫裝置。通過對對成型設(shè)備殼體的中部及上部區(qū)域增加冷卻系統(tǒng)，調(diào)整成型過程中溢流裝置的上下溫度差、溢流裝置的中部及上部溫度，達(dá)到提高溢流裝置壽命及提高液晶基板玻璃成型質(zhì)量的目的。
文檔編號C03B17/06GK102659302SQ20121008805
公開日2012年9月12日 申請日期2012年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月29日
發(fā)明者張志軍, 張棟, 張輝 申請人:彩虹顯示器件股份有限公司