本技術涉及一種濕式清潔設備，特別是用于清潔例如地板等表面的濕式清潔設備。

背景技術：

1、在清潔領域中，濕式清潔設備由于其強效去污能力變得越來越受歡迎。相比于傳統的真空吸塵器，濕式清潔設備的主要優點在于，可利用清潔流體(例如，水或者包括洗滌劑的水)來進行潤濕，并且利用可旋轉清潔元件(例如，刷或布)來在待清潔表面(例如，地面)上反復旋轉，以去除污漬。經去除的污漬可通過真空抽吸至容器中。利用此類濕式清潔設備，可從地面去除緊緊貼合至地面的頑固污漬，極大地增強了去污能力，能夠實現深度清潔。

2、對于采用清潔流體來進行潤濕，通常包括兩種方式：一種在于將清潔流體直接輸送至地面使得直接潤濕地面；另一種在于將清潔流體輸送至例如刷或布的清潔元件，使得被潤濕的清潔元件間接潤濕地面。相比于直接潤濕的方式，間接潤濕的方式所產生的去污能力相對較弱。

3、在將清潔流體直接輸送至清潔表面的這種方式中，存在的問題在于：當用戶期望結束清潔操作并關停清潔設備時，清潔設備中的已經被抽取但尚未被輸送至清潔表面的清潔流體可能會滴落至已清潔表面。尤其當用戶移動該清潔設備時，清潔流體可能由于重力的作用滴落至已清潔表面。這會在已清潔地面上留下清潔流體痕跡，且最終會變干而在地面上留下斑點，從而導致不利地影響清潔效率和用戶體驗。而且，滴落的清潔流體使地面變滑，對人造成危險，甚至可能導致人滑倒。

4、因此，需要提出能夠解決或緩解上述問題的濕式清潔設備，而不顯著增加其成本或體積。

技術實現思路

1、本實用新型的目的是以成本有效的方式提供一種經改進的濕式清潔設備，使得其能夠實現強效去污能力，而不會導致清潔流體在關停清潔操作時滴落至地面。

2、根據本實用新型的一方面，提供了一種濕式清潔設備，包括清潔機構，該清潔機構被配置來在清潔表面上執行清潔操作。清潔機構包括：儲存容器，該儲存容器被可移除地安裝在該清潔機構內部，并且被配置來存儲待分配至清潔表面的清潔流體；分配組件，該分配組件與儲存容器流體連通，被配置來將清潔流體經由出口分配至清潔表面，并且限定從儲存容器至該出口的分配路徑；泵，該泵被連接至分配組件且被配置為驅動清潔流體沿該分配路徑運動。清潔設備還包括控制器，該控制器被配置來控制清潔機構的操作。控制器包括h橋式集成電路，該h橋式集成電路被配置成控制泵能夠在第一模式和第二模式中操作。在第一模式中，泵沿第一方向驅動清潔流體，以將清潔流體分配至清潔表面。在第二模式中，泵沿與該第一方向相反的第二方向驅動清潔流體，以抽吸分配路徑中的清潔流體。

3、借助于此類濕式清潔設備，在關停后會滴落至地面的清潔流體顯著減少，從而提升清潔效率并極大地改善用戶的使用體驗。此外，以h橋式集成電路的方式實現上述功能，還能減少該清潔設備中的控制部件的數量，并改善控制性能。

4、根據本實用新型的一些示例，在第二模式中，當泵沿第二方向驅動清潔流體時，清潔流體被抽吸回到儲存容器。以此方式，還使得能夠節約清潔流體，從而有助于使得用戶無需頻繁地添加清潔流體。

5、根據本實用新型的一些示例，在第二模式中，當泵沿第二方向驅動清潔流體時，清潔流體被抽吸至污物容器中。

6、根據本實用新型的一些示例，在第二模式中，當泵沿第二方向驅動清潔流體時，清潔流體被抽吸成留在該分配路徑中。以此方式，在下一次清潔操作中，清潔流體可快速地被分配至地面，從而提升清潔速度。

7、根據本實用新型的一些示例，泵是蠕動泵。

8、根據本實用新型的一些示例，h橋式集成電路包括第一mos管、第二mos管、第三mos管和第四mos管。當第一mos管和第四mos管導通時，泵在第一模式中操作。當第二mos管和第三mos管導通時，泵在第二模式中操作。

9、根據本實用新型的一些示例，h橋式集成電路還包括：耦接至該第一mos管的第一寄生二極管；耦接至該第二mos管的第二寄生二極管；耦接至該第三mos管的第三寄生二極管；以及耦接至該第四mos管(q4)的第四寄生二極管。

10、根據本實用新型的一些示例，h橋式集成電路還包括接地的限流電阻。

11、根據本實用新型的一些示例，控制器還配置成使得泵能夠在第三模式中操作，在第三模式中，泵的操作被暫停。

12、根據本實用新型的一些示例，控制器還配置成使得在清潔設備的正常清潔操作期間，泵以第一模式操作。在用戶停止清潔設備的清潔操作后，泵開始以第三模式操作；在第三模式持續第一時間周期之后，泵開始以第二模式操作；在第二模式持續第二時間周期之后，泵被關停。

13、根據本實用新型的一些示例，第一時間周期是1秒。根據一些示例，第二時間周期是3秒。

14、根據本實用新型的一些示例，清潔機構還包括污物容器，該污物容器被可移除地安裝在清潔機構內部，并且被配置成容納污物。清潔機構還包括從抽吸入口延伸至污物容器的抽吸通道。此外，清潔機構還可以包括抽吸源，該抽吸源被配置為提供負壓，以將污物經由抽吸入口抽吸至抽吸通道中并進入污物容器中。

15、根據本實用新型的一些示例，清潔機構還包括至少一個刷，該刷能夠圍繞旋轉軸線旋轉并且被配置為與清潔表面相互作用。

16、根據本實用新型的一些示例，清潔設備還包括用于與用戶進行交互的用戶接口。

技術特征：

1.一種濕式清潔設備(100)，其特征在于，包括：

2.根據權利要求1所述的清潔設備(100)，其特征在于，在所述第二模式中，當所述泵(230)沿所述第二方向驅動所述清潔流體時，所述清潔流體被抽吸回到所述儲存容器(210)。

3.根據權利要求1所述的清潔設備(100)，其特征在于，在所述第二模式中，當所述泵(230)沿所述第二方向驅動所述清潔流體時，所述清潔流體被抽吸至污物容器(240)中。

4.根據權利要求1所述的清潔設備(100)，其特征在于，在所述第二模式中，當所述泵(230)沿所述第二方向驅動所述清潔流體時，所述清潔流體被抽吸成留在所述分配路徑中。

5.根據權利要求1所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述泵(230)是蠕動泵。

6.根據權利要求1所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述h橋式集成電路(310)包括第一mos管(q1)、第二mos管(q2)、第三mos管(q3)和第四mos管(q4)，其中：

7.根據權利要求6所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述h橋式集成電路(310)還包括：

8.根據權利要求6所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述h橋式集成電路(310)還包括接地的限流電阻(r)。

9.根據權利要求1-8中任一項所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述控制器(300)還配置成使得所述泵(230)能夠在第三模式中操作，在所述第三模式中，所述泵(230)的操作被暫停。

10.根據權利要求9所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述控制器(300)還配置成使得：

11.根據權利要求10所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述第一時間周期是1秒；和/或所述第二時間周期是3秒。

12.根據權利要求1-8中任一項所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述清潔機構(200)還包括：

13.根據權利要求12所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述清潔機構(200)還包括至少一個刷(270)，所述刷(270)能夠圍繞旋轉軸線旋轉并且被配置為與所述清潔表面(10)相互作用。

14.根據權利要求12所述的清潔設備(100)，其特征在于，所述清潔設備(100)還包括用于與用戶進行交互的用戶接口(400)。

技術總結
本技術涉及一種濕式清潔設備，包括用于在清潔表面上執行清潔操作的清潔機構和控制器。清潔機構包括儲存容器、分配組件以及泵。泵被連接至分配組件且被配置為驅動清潔流體沿分配路徑運動。控制器被配置來控制清潔機構的操作，其中，控制器包括H橋式集成電路，該H橋式集成電路被配置成控制泵能夠在第一模式和第二模式中操作，在第一模式中，泵沿第一方向驅動清潔流體，以將清潔流體分配至清潔表面，以及在第二模式中，泵沿與第一方向相反的第二方向驅動清潔流體，以抽吸分配路徑中的清潔流體。

技術研發人員：劉暢,施巨松
受保護的技術使用者：范頌尼控股有限公司
技術研發日：20240531
技術公布日：2025/4/28