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一種彩膜基板、液晶面板、液晶顯示裝置及其制備方法與流程

文檔序號:11152740閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種彩膜基板,其特征在于,包括:

基板;

多個紅色色阻,設置在所述基板上;

其中,所述多個紅色色阻在所述基板的邊緣區域的厚度大于在所述基板的中心區域的厚度。

2.根據權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述基板由中心到邊緣劃分為若干個區域,越靠近所述基板中心的所述區域的紅色色阻的厚度越小。

3.根據權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,還包括設置在所述基板上的多個藍色色阻,所述多個藍色色阻在所述基板的邊緣區域的厚度小于在所述基板的中心區域的厚度。

4.根據權利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述基板由中心到邊緣劃分為若干個區域,越靠近所述基板邊緣的所述區域的藍色色阻的厚度越小。

5.根據權利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,還包括設置在所述基板上的多個綠色色阻,所述多個綠色色阻在所述基板的邊緣區域的厚度等于在所述基板的中心區域的厚度。

6.根據權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述基板為玻璃基板或TFT基板。

7.根據權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板還包括黑矩陣,所述黑矩陣設置在相鄰的兩個色阻之間。

8.一種液晶顯示裝置,其特征在于,包括液晶顯示面板和驅動電路,

所述驅動電路,與所述液晶顯示面板電連接,用于驅動所述液晶顯示面板;

所述液晶顯示面板包含權利要求1至7任意一項所述的彩膜基板。

9.一種彩膜基板的制備方法,其特征在于,在所述彩膜基板的曝光過程中,使用邊緣區域的透光率大于中心區域的透光率的掩膜板對用于形成紅色色阻的色阻材料進行曝光。

10.根據權利要求9所述的制備方法,其特征在于,還包括在所述彩膜基板的曝光過程中,使用邊緣區域的透光率小于中心區域的透光率的掩膜板對用于形成藍色色阻的色阻材料進行曝光。

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