1.一種高精度光刻膠面形控制方法，其特征在于，將傳統光刻工藝中較高溫度的堅膜過程替換為使用低于光刻膠玻璃化轉變溫度的低溫真空堅膜方法，所述低溫真空堅膜方法的工藝參數為：堅膜溫度為30-80℃，堅膜時間為30min-120min，真空度為0.02-10Pa。
2.根據權利要求1所述的高精度光刻膠面形控制方法，其特征在于，不同光刻膠因其玻璃化轉變溫度不同，所述真空堅膜溫度也不同，具體工藝中可根據光刻膠的玻璃化轉變溫度選擇低于該溫度的合適堅膜溫度。
3.根據權利要求1所述的高精度光刻膠面形控制方法，其特征在于，通過所述低溫真空堅膜方法，堅膜前后面形變化小于5％，刻蝕前后面形的變化小于5％，光刻膠刻蝕比與同等刻蝕條件下的傳統光刻工藝相同或有所提高。