技術總結
本發明提供一種高精度光刻膠面形控制方法，該方法是將傳統光刻工藝中較高溫度的堅膜過程替換為使用低于光刻膠玻璃化轉變溫度的低溫真空堅膜方法，避免了傳統工藝中因較高堅膜溫度使光刻膠發生塑性變形所導致的面形變化。本發明的方法使光刻膠面形在堅膜前后變化小，同時光刻膠刻蝕比提高或不變，進而滿足了高精度圖形轉移以及對溫度敏感的特殊襯底光刻樣品的制作要求。

技術研發人員：羅先剛;高平;趙澤宇;蒲明博;王彥欽;馬曉亮;李雄
受保護的技術使用者：中國科學院光電技術研究所
文檔號碼：201611135736
技術研發日：2016.12.12
技術公布日：2017.05.31