1.一種雙工位曝光裝置，其特征在于，包括并排設置的第一曝光工位和第二曝光工位、用于分別檢測所述第一曝光工位和所述第二曝光工位是否為空位狀態的第一傳感器和第二傳感器、與所述第一曝光工位和所述第二曝光工位配合的用于添加待曝光電路板的第一吸盤和用于移動已曝光電路板的第二吸盤、分別連接所述第一吸盤和所述第二吸盤的第一傳輸裝置和第二傳輸裝置、以及連接控制所述第一傳感器、所述第二傳感器、所述第一吸盤、所述第二吸盤、所述第一傳輸裝置和所述第二傳輸裝置的控制器，且所述第一曝光工位的中心與所述第二曝光工位的中心之間的連線垂直于電路板生產流水線方向。
2.根據權利要求1所述的雙工位曝光裝置，其特征在于，所述第一吸盤包括第一支架、均勻分布于所述第一支架上的多個第一負壓產生器和多個第一吸頭，所述第一負壓產生器和所述第一吸頭一一對應設置，且二者之間相互連通。
3.根據權利要求1所述的雙工位曝光裝置，其特征在于，所述第二吸盤包括第二支架、均勻分布于所述第二支架上的多個第二負壓產生器和多個第二吸頭，所述第二負壓產生器和所述第二吸頭一一對應設置，且二者之間相互連通。
4.根據權利要求1所述的雙工位曝光裝置，其特征在于，所述第一傳輸裝置包括豎直設置的第一導軌，所述第一吸盤與所述第一導軌相連接。
5.根據權利要求1所述的雙工位曝光裝置，其特征在于，所述第二傳輸裝置包括豎直設置的第二導軌，所述第二吸盤與所述第二導軌相連接。