本發明屬于液晶顯示技術領域，尤其涉及一種液晶顯示面板。

背景技術：

隨著液晶顯示技術的發展，用戶對液晶顯示產品的要求呈現多元化，例如采用低溫多晶硅工藝(Low Temperature P-Si，LTPS)制作的FFS(Fringe Field Switching)小尺寸液晶顯示器，由于其主要應用于手持的移動設備中，因此在產品技術開發時，一般需求窄邊框以實現更好的用戶體驗。

窄邊框技術所面臨的主要問題是區域的透光率問題。邊框區域需要滿足透光率要求，因為在對基板進行貼合的時候，利用紫外線從基板一側照射框膠材料進行框膠的硬化，如果邊框區域的透光率較低，則對于框膠材料的粘附性以及窄膠寬和固化能力都存在比較大的考驗。而現有液晶顯示器的邊框區域除集成有繁復的驅動線路外，還設置有用于連接測試設備(例如陣列測試機ATS)的測試墊結構，這些結構均會降低邊框區域的透光率。

圖1為現有技術中一測試墊的結構示意圖，測試墊結構主要用于將從ATS接收到的測試信號傳輸至陣列基板顯示區域內的薄膜晶體管陣列，其用于傳輸測試信號的走線主要由金屬形成(如圖1中的12所示)。而金屬是一種不透光材料，因此大量的測試墊結構將導致邊緣電路在設計上沒有足夠的透光率。但若取消ATS測試設計，即無法實現對產線的監控攔檢作用，公司則如同閉門造車，無法及時確認TFT制程狀況，造成的成本損失不可估量。

技術實現要素：

本發明所要解決的技術問題之一是需要提供一種測試墊結構以增加液晶顯示面板邊框區域的透光率。

為了解決上述技術問題，本申請的實施例首先提供了一種液晶顯示面板，其包括的陣列基板被劃分為顯示區域和非顯示區域，在所述非顯示區域內設置有用于連接測試設備的多個測試墊，所述測試墊包括：表面接觸層，用于接收所述測試設備輸出的測試信號；信號傳遞層，用于將所述測試信號傳輸至所述顯示區域；所述信號傳遞層由金屬形成，且被劃分成鏤空區域和非鏤空區域；保護層，設置于所述表面接觸層與所述信號傳遞層之間，所述保護層具有過孔，所述過孔用于使所述表面接觸層與所述信號傳遞層的非鏤空區域相連通，以使所述測試信號被傳輸給所述信號傳遞層。

優選地，所述信號傳遞層的鏤空區域的面積與所述測試墊占據所述非顯示區域的面積的比值大于25％。

優選地，所述信號傳遞層的非鏤空區域對應所述測試墊的中心區域設置；所述過孔的數量為1，并且所述過孔對應所述測試墊的中心區域設置。

優選地，所述非鏤空區域由所述信號傳遞層包括的多個分立的區塊形成；所述過孔的數量等于所述區塊的數量，且所述過孔與所述區塊一一對應。

優選地，所述區塊的數量小于或等于4。

優選地，所述信號傳遞層的金屬形成網格狀結構；在與所述網格狀結構中的非鏤空網格相對應的位置處設置有多個過孔。

優選地，所述網格狀結構中的非鏤空網格的行數/列數小于或等于5。

優選地，所述表面接觸層與所述陣列基板的透明電極層同層設置。

優選地，所述信號傳遞層與所述陣列基板的第二金屬層同層設置。

與現有技術相比，上述方案中的一個或多個實施例可以具有如下優點或有益效果：

通過改變信號傳遞層的面積形態，進而變更測試墊的結構，在滿足陣列測試機扎針訊號順利從測試墊的表面接觸層傳輸至信號傳遞層的同時，提升邊框區域的邊緣透光率，以不影響后段液晶盒成盒工藝制程的框膠的固化。

本發明的其他優點、目標，和特征在某種程度上將在隨后的說明書中進行闡述，并且在某種程度上，基于對下文的考察研究對本領域技術人員而言將是顯而易見的，或者可以從本發明的實踐中得到教導。本發明的目標和其他優點可以通過下面的說明書，權利要求書，以及附圖中所特別指出的結構來實現和獲得。

附圖說明

附圖用來提供對本申請的技術方案或現有技術的進一步理解，并且構成說明書的一部分。其中，表達本申請實施例的附圖與本申請的實施例一起用于解釋本申請的技術方案，但并不構成對本申請技術方案的限制。

圖1為現有技術中的測試墊結構的示意圖；

圖2為根據第一實施例的測試墊結構的示意圖；

圖3為根據第二實施例的測試墊結構的示意圖；

圖4為根據第三實施例的測試墊結構的示意圖。

具體實施方式

以下將結合附圖及實施例來詳細說明本發明的實施方式，借此對本發明如何應用技術手段來解決技術問題，并達成相應技術效果的實現過程能充分理解并據以實施。本申請實施例以及實施例中的各個特征，在不相沖突前提下可以相互結合，所形成的技術方案均在本發明的保護范圍之內。

現有技術中的測試墊的典型結構如圖1所示，圖中11為表面接觸層，主要用于接收測試設備輸出的測試信號，12為信號傳遞層，主要用于將從表面接觸層11接收到的測試信號傳輸至顯示區域內的薄膜晶體管陣列。13為保護層，其上開設有過孔結構，表面接觸層11與信號傳遞層12通過保護層13上的過孔相互連通，使得測試信號得以傳輸。

如圖1所示，由于信號傳遞層一般由不透光的金屬材料制成，因而將嚴重降低邊框區域的透光率。在本發明中，通過對信號傳遞層的結構進行改進，以解決上述問題，下面結合具體的實施例進行說明。

需要說明的是，下面各實施例中均以方形測試墊進行說明，但本領域的技術人員容易理解，測試墊的形狀并不對本申請構成限定，實施時可以根據實際情況選擇測試墊的形狀，例如圓形、多邊形或其他不規則的形狀等。

另外，各附圖中的結構并未按照真實的比例進行繪制。

第一實施例：

圖2為根據第一實施例的測試墊結構的截面圖和俯視圖，如圖2所示，21為表面接觸層，22為信號傳遞層，23為保護層。在本實施例中，信號傳遞層22被劃分成非鏤空區域221和鏤空區域222。其中非鏤空區域221位于整個測試墊的中心區域，鏤空區域222設置在非鏤空區域221的四周。

在保護層23上僅設置有1個過孔，該過孔對應測試墊的中心區域，在非鏤空區域221的正上方設置。信號傳遞層21與該非鏤空區域221通過過孔進行連通以實現測試信號的傳遞。

為提高邊框區域的透光率，在本實施例中，需要保證信號傳遞層22的鏤空區域222的面積與測試墊所占據的非顯示區域的總面積的比值大于25％。

如圖2所示，測試墊所占據的非顯示區域的總面積為圖中最大的正方形所表示的區域的面積。假設在本實施例中測試墊所占據的非顯示區域的總面積為D*D＝100*100(μm)。

優選地，本實施例中，D0＝80μm，D1＝D2＝10μm，非鏤空區域221的面積為D0*D0＝80*80，鏤空區域222的面積為3600。則信號傳遞層22的鏤空區域222的面積與測試墊所占據的非顯示區域的總面積的比值為36％，大于25％，符合設計要求。

進一步地，本發明實施例中的表面接觸層21可以與陣列基板的透明電極層同層設置。本發明實施例中的信號傳遞層22可以與陣列基板的第二金屬層同層設置。且上述表面接觸層21與信號傳遞層22分別與透明電極及第二金屬層在同一工藝制程中進行制作，不會增加新工藝步驟，進而不會顯著增加陣列基板的生成成本。

本發明實施例的測試墊的結構可以在滿足陣列測試機扎針訊號順利從測試墊的表面接觸層傳輸至信號傳遞層的同時，提升邊框區域的邊緣透光率，以不影響后段液晶盒成盒工藝制程的框膠的固化。

第二實施例：

圖3為根據第二實施例的測試墊結構的截面圖和俯視圖，如圖3所示，31為表面接觸層，32為信號傳遞層，33為保護層。在本實施例中，信號傳遞層32被劃分成非鏤空區域321和鏤空區域322。其中非鏤空區域321為多個分立的區塊的形式，分散于整個測試墊的區域內，鏤空區域322形成于各分立區塊之間的區域。

在保護層33上設置有與區塊的數量相等的過孔，每個過孔分別對應各區塊設置。結合圖3中的截面圖和俯視圖可以看出，各過孔分別設置在各區塊的正上方。

優選地，為平衡區域透光率的要求以及加工難度而導致的成本的上升，本實施例中的區塊小于或等于4個。

信號傳遞層31與非鏤空區域321通過過孔進行連通以實現測試信號的傳遞。在本實施例中，每組區塊與過孔的組合均可以作為一個獨立的測試信號的輸入端。即各組區塊與過孔的組合相當于并聯的等價輸入端。利用本實施例的測試墊連接ATS等測試設備時，扎針時探針可以任意置于上述等價輸入端，即使其中某個測試墊存在接觸不良的問題，也可以通過其他接觸良好的測試墊來進行測試信號的順利導入，滿足扎針訊號順利從測試墊的表面接觸層透過過孔導通至信號傳遞層上，并最終傳遞至待測試的顯示區域的需求。

同樣的，為提高邊框區域的透光率，在本實施例中，需要保證信號傳遞層32的鏤空區域322的面積與測試墊所占據的非顯示區域的總面積的比值大于25％。

優選地，如圖3所示，D＝100μm，因此本實施例中測試墊所占據的非顯示區域的總面積為D*D＝100*100。D0＝40μm，D1＝D2＝10μm，D3＝D4＝5μm。

非鏤空區域321的面積為D0*D0＝40*40*4，鏤空區域322的面積為3600。信號傳遞層32的鏤空區域322的面積與測試墊所占據的非顯示區域的總面積的比值為36％，大于25％，符合設計要求。

進一步地，本發明實施例中的表面接觸層21可以與陣列基板的透明電極層同層設置。本發明實施例中的信號傳遞層22可以與陣列基板的第二金屬層同層設置。且上述表面接觸層21與信號傳遞層22分別與透明電極及第二金屬層在同一工藝制程中進行制作，不會增加新工藝步驟，進而不會顯著增加陣列基板的生成成本。

本發明實施例的測試墊的結構可以在滿足陣列測試機扎針訊號順利從測試墊的表面接觸層傳輸至信號傳遞層的同時，提升邊框區域的邊緣透光率，以不影響后段液晶盒成盒工藝制程的框膠的固化。

第三實施例：

圖4為根據第三實施例的測試墊結構的截面圖和俯視圖，如圖4所示，41為表面接觸層，42為信號傳遞層，43為保護層。在本實施例中，信號傳遞層42被劃分成非鏤空區域421和鏤空區域422。具體的，信號傳遞層42為一金屬形成的網格狀結構，在其上，非鏤空區域421與鏤空區域422彼此間隔分布。

在保護層33上設置有多個過孔，過孔的位置對應于網格狀結構的非鏤空部分。

本實施例中，對于所開設的過孔的數量不做限定，理論上，在平衡加工難度與加工成本的前提下，可以盡可能開設較多數量的過孔。

同樣的，在本實施例中，每組區塊與過孔對應形成的組合均可以作為一個獨立的測試信號的輸入端，且各組區塊與過孔的組合相當于并聯的等價輸入端。利用本實施例的測試墊連接ATS等測試設備時，扎針時探針可以任意置于上述等價輸入端，即使其中某個測試墊存在接觸不良的問題，也可以通過其他接觸良好的測試墊來進行測試信號的順利導入，滿足扎針訊號順利從測試墊的表面接觸層透過過孔導通至信號傳遞層上，并最終傳遞至待測試的顯示區域的需求。

優選地，為平衡區域透光率的要求以及加工難度而導致的成本的上升，本實施例中網格狀結構中的非鏤空網格(非鏤空部分)的行數/列數小于或等于5。

同樣的，為提高邊框區域的透光率，在本實施例中，需要保證信號傳遞層42的鏤空區域422的面積與測試墊所占據的非顯示區域的總面積的比值大于25％。

優選地，如圖4所示，D＝100μm，因此本實施例中測試墊所占據的非顯示區域的總面積為D*D＝100*100。D3表示網格狀結構的線寬，且D3＝8μm，D1和D2分別鏤空區域的長和寬，且D1＝D2＝15μm。D0表示過孔的孔徑，其取值范圍一般為3μm≤D0≤5μm。

鏤空區域421的面積為D1*D2＝15*15*16＝3600。信號傳遞層42的鏤空區域422的面積與測試墊所占據的非顯示區域的總面積的比值為36％，大于25％，符合設計要求。

進一步地，本發明實施例中的表面接觸層41可以與陣列基板的透明電極層同層設置。本發明實施例中的信號傳遞層42可以與陣列基板的第二金屬層同層設置。具體可以參考第二實施例中的相關內容，不再贅述。

本發明實施例通過變更現有測試墊的設計結構，改變信號傳遞層的面積形態，從而提升邊框區域的邊緣透光率，同時不影響后段液晶盒成盒工藝中框膠的固化。隨著邊框區域的進一步縮小，相應測試墊周圍需要更小，更密集的線路，該方式也適用。

本發明實施例還有利于提高ATS等測試設備的扎針精度及準確性，避免因結構制程難度造成的測試錯誤，保證測試的準確性。

雖然本發明所揭露的實施方式如上，但所述的內容只是為了便于理解本發明而采用的實施方式，并非用以限定本發明。任何本發明所屬技術領域內的技術人員，在不脫離本發明所揭露的精神和范圍的前提下，可以在實施的形式上及細節上作任何的修改與變化，但本發明的專利保護范圍，仍須以所附的權利要求書所界定的范圍為準。