專利名稱：裝飾鍍膜領(lǐng)域用的磁控濺射與離子鍍聯(lián)用鍍膜系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于真空設(shè)備領(lǐng)域，尤其是涉及磁控濺射與離子鍍技術(shù)在裝飾領(lǐng)域中的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
鍍膜技術(shù)已經(jīng)在國民經(jīng)濟(jì)的各個(gè)部門，尤其是裝飾領(lǐng)域，得到廣泛的應(yīng)用，通過在產(chǎn)品上鍍膜可以提高裝飾的效果和品位，增加產(chǎn)品附加值，延長(zhǎng)使用壽命，具有很大的經(jīng)濟(jì) 效益。另外，優(yōu)美的裝飾外觀能滿足人們對(duì)舒適生活的追求，具有良好的社會(huì)效益。目前，建筑裝飾材料在所有裝飾材料中占據(jù)很大一部分比重，并且國內(nèi)建筑裝飾市場(chǎng)對(duì)大型彩色金屬板材(長(zhǎng)寬在1-3米的范圍)的需求量越來越大，對(duì)膜層的要求也越來越高，例如膜層要具有更為豐富的顏色，以提高裝飾效果；生產(chǎn)過程更加環(huán)保、節(jié)能和自動(dòng)化。因此，對(duì)高品質(zhì)大型裝飾板材的連續(xù)鍍膜生產(chǎn)是將來的發(fā)展方向。由于離子鍍膜具有成膜速度快，膜層和基底結(jié)合力好的優(yōu)點(diǎn)，因此被國內(nèi)許多鍍膜相關(guān)的廠家所采用。但是，這種鍍膜方法還存在著一些不足(I)只適合鍍?nèi)埸c(diǎn)低的部分材料由于薄膜的沉積需要先蒸發(fā)，因此一般只有熔點(diǎn)低的材料才適合用此方法進(jìn)行制膜。(2)樣品預(yù)清洗不徹底樣品在鍍膜以前需要進(jìn)行清洗，以便提高薄膜的附著力，目前生產(chǎn)過程中，并沒有嚴(yán)格的清洗程序和標(biāo)準(zhǔn)，導(dǎo)致樣品預(yù)處理不徹底，增加了后續(xù)離子清洗的難度。(3)色度難控制由于在離子鍍膜過程中首先將鍍膜材料蒸發(fā)成蒸氣，是一個(gè)快速不易精確控制的過程，導(dǎo)致膜層的厚度不容易控制，為了得到特定厚度和色系的薄膜，鍍膜時(shí)間需要精確到秒，因此，對(duì)操作人員提出很高的要求，需要操作人員具有豐富的經(jīng)驗(yàn)。(4)產(chǎn)品的重復(fù)性不好由于產(chǎn)品生產(chǎn)過程中需要調(diào)控的參數(shù)比較多，導(dǎo)致樣品重復(fù)性差，殘品的比例較大，造成人力和物力的嚴(yán)重浪費(fèi)。(5)效率低在鍍膜過程中，放樣品和取產(chǎn)品的時(shí)間相對(duì)于鍍膜時(shí)間而言，比較長(zhǎng)，降低了生產(chǎn)效率。(6)能耗大目前，真空室內(nèi)的樣品擺放普遍采用懸掛式的，需要腔體有較大的空間,這也增加了抽真空的時(shí)間，并導(dǎo)致腔體內(nèi)部空間的浪費(fèi),增加了能耗。由于上述問題的存在，使得目前用離子鍍膜設(shè)備生產(chǎn)過程中能耗大，人力物力浪費(fèi)嚴(yán)重，制作的膜，品質(zhì)差，顏色種類少，屬于粗放型的生產(chǎn)模式，越來越無法滿足生產(chǎn)生活的需要。而生產(chǎn)廠家也主要靠拼價(jià)格來為企業(yè)贏得生存空間。因此，亟需開發(fā)新的更節(jié)能的、生產(chǎn)過程更容易控制的新裝備來取代現(xiàn)在普遍應(yīng)用的離子鍍膜設(shè)備。用磁控濺射設(shè)備制作膜材料是在20世紀(jì)40年代發(fā)展起來的，并隨著晶體管和CD等的發(fā)展而得到普及和廣泛應(yīng)用，逐步成為產(chǎn)品制造的一種常用手段。磁控濺射技術(shù)得以廣泛的應(yīng)用，是由該技術(shù)有別于其它鍍膜方法的特點(diǎn)所決定的。其優(yōu)點(diǎn)可歸納為(I)靶材選擇范圍廣包括各種金屬、半導(dǎo)體、鐵磁材料，以及絕緣的氧化物、陶瓷、聚合物等物質(zhì)，尤其適合高熔點(diǎn)和低蒸汽壓的材料沉積鍍膜。(2)可沉積多層膜和化合物膜多元靶材共濺射方式，可沉積所需組分的混合物、化合物薄膜以及多層膜；在濺射的放電氣氛中加入氧、氮或其它活性氣體，可沉積形成靶材物質(zhì)與氣體分子的化合物薄膜。(3)膜厚容易控制控制真空室中的氣壓、濺射功率，基本上可獲得穩(wěn)定的沉積速率，通過精確地控制濺射鍍膜時(shí)間，容易獲得均勻的高精度的膜厚。(4)適合做超薄膜薄膜形成初期成核密度高，故可生產(chǎn)厚度IOnm以下的極薄連續(xù)膜。(5)重復(fù)性好對(duì)同一臺(tái)設(shè)備，只要?dú)鈮骸R射功率和時(shí)間等基本參數(shù)不變，薄膜的品質(zhì)就可以很好的重現(xiàn)。然而，如此性能優(yōu)良的膜層制備技術(shù)和設(shè)備并沒有在我國的板材裝飾品行業(yè)的生 產(chǎn)中廣泛應(yīng)用。這既有客觀方面的原因，更有主觀方面的原因。一方面，磁控濺射膜層生長(zhǎng)速度相對(duì)于離子鍍膜而言比較慢，并且連續(xù)鍍膜系統(tǒng)還沒有應(yīng)用，生產(chǎn)效率低；另一方面，從事此類裝飾品生產(chǎn)的廠家安于現(xiàn)狀，沒有促成行業(yè)升級(jí)換代的意識(shí)和危機(jī)感。
發(fā)明內(nèi)容為解決上述問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種裝飾鍍膜領(lǐng)域用的磁控濺射與離子鍍聯(lián)用鍍膜系統(tǒng)，將這兩種技術(shù)聯(lián)合應(yīng)用在同一臺(tái)設(shè)備上，揚(yáng)長(zhǎng)避短，實(shí)現(xiàn)大型裝飾板材的連續(xù)化生產(chǎn)，提高鍍膜的生產(chǎn)效率和產(chǎn)品的品質(zhì)。本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的一種裝飾鍍膜領(lǐng)域用的磁控濺射與離子鍍聯(lián)用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于按生產(chǎn)制程方向，包括依次設(shè)置的過渡室、離子鍍膜室和磁控濺射室。所述的離子鍍膜室的腔室個(gè)數(shù)為1-4個(gè)，包括離子清洗腔室和離子鍍膜腔室，當(dāng)腔室數(shù)為I時(shí)，離子清洗腔室和離子鍍膜腔室為同一腔室，當(dāng)腔室數(shù)大于I時(shí)，離子清洗腔室位于第一個(gè)腔室。所述的磁控濺射室的腔室個(gè)數(shù)為1-4個(gè)，每個(gè)腔室的靶材數(shù)為1-3個(gè)。本實(shí)用新型的鍍膜系統(tǒng)為整套裝備的關(guān)鍵部分，離子鍍膜具有良好的離子清洗功能和快速成膜能力，且膜層和基底附著力強(qiáng)，而磁控濺射技術(shù)則具有成膜速度容易控制，膜層顏色容易調(diào)節(jié)等優(yōu)點(diǎn)，將兩者的優(yōu)勢(shì)互補(bǔ)是本實(shí)用新型的核心指導(dǎo)思想，同時(shí)本實(shí)用新型具備連續(xù)鍍膜功能，大大提高了生產(chǎn)效率。

圖I是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖I所示，本實(shí)用新型是一種裝飾鍍膜領(lǐng)域用的磁控濺射與離子鍍聯(lián)用鍍膜系統(tǒng)，按生產(chǎn)制程方向，包括依次連接設(shè)置的過渡室I、離子鍍膜室2、磁控濺射室3、過渡室4。過渡室I用于進(jìn)行預(yù)抽真空、加熱等，板材經(jīng)過預(yù)處理后輸出至離子鍍膜室2。離子鍍膜室2的作用是對(duì)板材進(jìn)行離子清洗、離子鍍膜，打底，保證厚度。離子鍍膜室2的腔室個(gè)數(shù)可以為1-4個(gè)，包括離子清洗腔室和離子鍍膜腔室。當(dāng)腔室數(shù)為I時(shí)，離子清洗腔室和離子鍍膜腔室為同一腔室，當(dāng)腔室數(shù)大于I時(shí)，則離子清洗腔室位于第一個(gè)腔室，離子鍍膜腔室位于隨后的腔室。經(jīng)離子鍍膜后的板材進(jìn)入磁控濺射室3，磁控濺射室3對(duì)板材進(jìn)行磁控濺射，實(shí)現(xiàn)調(diào)色，其腔室個(gè)數(shù)可以為1-4個(gè)，每個(gè)腔室的靶材數(shù)為1-3個(gè)。 產(chǎn)品最后由過渡室4輸出。
權(quán)利要求1.一種裝飾鍍膜領(lǐng)域用的磁控濺射與離子鍍聯(lián)用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于按生產(chǎn)制程方向，包括依次設(shè)置的過渡室、離子鍍膜室和磁控濺射室。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝飾鍍膜領(lǐng)域用的磁控濺射與離子鍍聯(lián)用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于所述的離子鍍膜室的腔室個(gè)數(shù)為1-4個(gè)，包括離子清洗腔室和離子鍍膜腔室，當(dāng)腔室數(shù)為I時(shí)，離子清洗腔室和離子鍍膜腔室為同一腔室，當(dāng)腔室數(shù)大于I時(shí)，離子清洗腔室位于第一個(gè)腔室。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的裝飾鍍膜領(lǐng)域用的磁控濺射與離子鍍聯(lián)用鍍膜系統(tǒng)，其特征在于所述的磁控濺射室的腔室個(gè)數(shù)為1-4個(gè)，每個(gè)腔室的靶材數(shù)為1-3個(gè)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種裝飾鍍膜領(lǐng)域用的磁控濺射與離子鍍聯(lián)用鍍膜系統(tǒng)，其按生產(chǎn)制程方向，包括依次設(shè)置的過渡室、離子鍍膜室和磁控濺射室。本實(shí)用新型的鍍膜系統(tǒng)為整套裝備的關(guān)鍵部分，離子鍍膜具有良好的離子清洗功能和快速成膜能力，且膜層和基底附著力強(qiáng)，而磁控濺射技術(shù)則具有成膜速度容易控制，膜層顏色容易調(diào)節(jié)等優(yōu)點(diǎn)，將兩者的優(yōu)勢(shì)互補(bǔ)是本實(shí)用新型的核心指導(dǎo)思想，同時(shí)本實(shí)用新型具備連續(xù)鍍膜功能，大大提高了生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)C23C14/22GK202595248SQ201220244730
公開日2012年12月12日 申請(qǐng)日期2012年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月28日
發(fā)明者朱元義 申請(qǐng)人:廣州市番禺雙石鈦金廠