技術(shù)特征：

1.一種研磨膜，其特征在于：包括基材、以及積層于其表面?zhèn)鹊难心樱?/p>

所述研磨層包含樹脂粘合劑以及分散于該樹脂粘合劑中的研磨粒子，

相對于所述研磨粒子整體而言的一次粒徑為70nm以上的研磨粒子的含量為10質(zhì)量％以上、50質(zhì)量％以下，

所述研磨層中的所述研磨粒子的含量為84質(zhì)量％以上，并且

所述研磨層的壓入硬度為370N/mm²以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨膜，其中所述研磨粒子為二氧化硅粒子。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨膜，其中所述研磨層的平均厚度為4μm以上、15μm以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨膜，其中所述樹脂粘合劑含有玻璃轉(zhuǎn)移溫度為20℃以下的彈性體，并且

相對于所述樹脂粘合劑而言的所述彈性體的含量為20質(zhì)量％以上。