1.一種用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：包括陽極座（1）、水冷靶座（3）、磁鐵組件（4）、靶材（6）和靶背板（5），所述陽極座（1）設有矩形安裝槽（11），所述水冷靶座（3）安裝于矩形安裝槽（11）內，所述磁鐵組件（4）安裝于水冷靶座（3）內并通過靶背板（5）密封，所述靶材（6）裝設于靶背板（5）上，所述磁鐵組件（4）包括中心磁鐵（43）、兩個端部磁鐵（42）和多個側部磁鐵（41），所述兩個端部磁鐵（42）和多個側部磁鐵（41）構成矩形磁鐵框，所述中心磁鐵（43）沿矩形磁鐵框長度方向固定于矩形磁鐵框內部，每個側部磁鐵（41）固設一固定塊（44），所述水冷靶座（3）內設有多個安裝凸塊（31），所述固定塊（44）與安裝凸塊（31）一一對應，所述固定塊（44）可移動的與安裝凸塊（31）連接。
2.根據權利要求1所述的用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：所述固定塊（44）上設有沿矩形磁鐵框的寬度方向設置的腰型孔（441），所述安裝凸塊（31）上設有用于固定所述固定塊（44）的安裝孔（311）。
3.根據權利要求1所述的用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：所述中心磁鐵（43）、兩個端部磁鐵（42）和多個側部磁鐵（41）的外表面均包裹用于隔離冷卻水的塑料層。
4.根據權利要求1至3任意一項所述的用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：所述用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶還包括靶扣板（7），所述靶扣板（7）將靶材（6）壓緊于靶背板（5）上。
5.根據權利要求1至3任意一項所述的用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：所述水冷靶座（3）與矩形安裝槽（11）之間設有絕緣件（2），且水冷靶座（3）與矩形安裝槽（11）的四周側壁之間具有一定間隙。
6.根據權利要求1至3任意一項所述的用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：所述矩形安裝槽（11）上的槽口端裝設有方框形的陽極板（8），所述陽極板（8）與靶扣板（7）之間具有一定間隙。
7.根據權利要求6所述的用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：所述矩形安裝槽（11）上的槽口端設有用于安裝陽極板（8）的第一螺紋孔（111），所述矩形安裝槽（11）的側壁上設有可與所述第一螺紋孔（111）連通的排氣孔（9）。
8.根據權利要求1至3任意一項所述的用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：所述水冷靶座（3）上設有用于安裝靶背板（5）的第二螺紋孔（32），所述水冷靶座（3）的側壁設有可與所述第二螺紋孔（32）連通的排氣孔（9）。
9.根據權利要求1至3任意一項所述的用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：所述矩形安裝槽（11）的底部設有可供冷卻進水管、冷卻出水管穿過的進口和出口，以及可供電極線穿過的電極引入孔，所述冷卻進水管和冷卻出水管均與水冷靶座（3）連通，所述電極線穿過電極引入孔與水冷靶座（3）連接。
10.根據權利要求1至3任意一項所述的用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，其特征在于：所述端部磁鐵（42）的內側面為圓弧面。