技術總結
本發明公開了一種用于金屬鍍膜的矩形磁控濺射靶，包括陽極座、水冷靶座、磁鐵組件、靶材和靶背板，陽極座設有矩形安裝槽，水冷靶座安裝于矩形安裝槽內，磁鐵組件安裝于水冷靶座內并通過靶背板密封，靶材裝設于靶背板上，磁鐵組件包括中心磁鐵、兩個端部磁鐵和多個側部磁鐵，兩個端部磁鐵和多個側部磁鐵構成矩形磁鐵框，中心磁鐵沿矩形磁鐵框長度方向固定于矩形磁鐵框內部，每個側部磁鐵固設一固定塊，水冷靶座內設有多個安裝凸塊，所述固定塊與安裝凸塊一一對應，固定塊可移動的與安裝凸塊連接。本發明可改變靶材表面磁場強度分布，提高矩形磁控濺射靶的沉膜均勻性，增大濺射靶有效沉膜區域，提高靶材的利用率。

技術研發人員：佘鵬程;彭立波;陳長平;張賽;龔俊
受保護的技術使用者：中國電子科技集團公司第四十八研究所
文檔號碼：201610360061
技術研發日：2016.05.27
技術公布日：2017.02.15