本發明涉及真空鍍膜技術領域，特別是涉及一種鍍膜機。

背景技術：

鍍膜能夠對被鍍膜體起到一定的保護作用，從而有效地提高被鍍膜體的性能，延長使用壽命。現有的鍍膜機多用于對工件或者玻璃等大體積大面積的鍍膜，很少有專用于粉體的鍍膜機；并且即使存在有少量的粉體鍍膜機，但現有的粉體鍍膜機大多數都存在抽真空時易導致粉末飛起、不便于對鍍膜機內進行清理等一系列的問題，導致鍍膜效果差，鍍膜效率不高。

針對上述現有技術中存在的技術問題，而設計以下的鍍膜機，用于解決上述存在的技術問題。

技術實現要素：

本發明的目的是提供一種鍍膜機，以解決上述現有技術存在的問題，該鍍膜機用于真空粉體鍍膜，能夠有效的避免抽真空時引起的粉末飛起，且可根據粉體顆粒的大小進行振動頻率等的調整，改善粉體流動性，從而使得該鍍膜機粉體涂覆效率高，漏粉率低，整體包裹性好，并且工作效率高。

為實現上述目的，本發明提供了如下方案：本發明一種鍍膜機，包括裝料機構、真空爐、傳動輸送機構、濺射靶組、真空抽吸組及控制中心，所述裝料機構設置于所述真空爐頂端靠近邊緣處，所述裝料機構的底部與所述真空爐相連通；所述濺射靶組位于所述真空爐頂端且所述濺射靶組的一側與所述裝料機構相鄰，所述濺射靶組的另一側靠近所述真空爐頂端的另一邊緣處；所述傳動輸送機構設置于所述真空爐內且與所述濺射靶組相對應，所述傳動輸送機構的底端與所述真空爐的底部內側可拆卸的連接；所述真空抽吸組位于所述真空爐的外側并通過管道與所述真空爐相通；所述裝料機構內側壁上設置有一加熱系統；所述傳動輸送機構、濺射靶組、真空抽吸組及加熱系統均與所述控制中心電連接。

可選的，所述裝料機構包括有兩級漏斗及撒粉漏斗，所述兩級漏斗包括第一漏斗與第二漏斗，所述第一漏斗位于所述第二漏斗的頂端，且所述第一漏斗與所述第二漏斗之間間隔有空隙，所述第一漏斗與所述第二漏斗通過螺桿焊接固定，所述螺桿固定在所述裝料機構的內側壁上；所述撒粉漏斗位于所述兩級漏斗的底部，所述撒粉漏斗通過螺桿與所述兩級漏斗固定連接，所述撒粉漏斗的底端位于所述裝料機構與所述真空爐的連通處。

可選的，所述裝料機構的頂部設置有一觀察窗，所述裝料機構的外壁上固定設置有一單獨振源，所述單獨振源中的振動棒伸入所述裝料機構內并與所述撒粉漏斗的相抵接。

可選的，所述傳動輸送機構包括振動輸送器、傳粉板及隔離減震臺，所述隔離減震臺可拆卸的設置于所述真空爐的腔室底部，所述振動輸送器通過螺栓固定在所述隔離減震臺的頂端，所述振動輸送器頂端固定所述傳粉板；所述振動輸送器、傳粉板及隔離減震臺為一體式設置，所述振動輸送器與所述控制中心電連接。

可選的，位于所述傳粉板的末端的下方設置有接粉槽，所述接粉槽的底端固定設置在所述隔離減震臺上。

可選的，所述濺射靶組包括若干濺射靶，相鄰所述濺射靶交錯傾斜設置，且所述濺射靶的濺射口對應所述傳粉板。

可選的，所述真空抽吸組包括手動調節閥、第一預抽管道、第一預抽閥及機械泵，所述第一預抽管道設置于所述真空爐的腔室底端的一側且與所述真空爐的腔室相連通，所述手動調節閥設置于所述第一預抽管道上靠近所述真空爐的一端，所述第一預抽閥設置于所述第一預抽管道上并位于遠離所述真空爐的一端，所述第一預抽管道的末端與所述機械泵相連接；所述機械泵與所述控制中心電連接。

可選的，所述真空抽吸組還包括第二預抽閥及第二預抽管道，所述第二預抽管道設置于所述真空爐的腔室底端并與所述真空爐的腔室相連通，所述第二預抽管道與所述第一預抽管道并排設置，所述第二預抽閥設置于所述第二預抽管道上，所述第二預抽管道的末端與所述第一預抽管道的末端連通后與所述機械泵相連接。

可選的，所述第一預抽管道的管徑小于所述第二預抽管道的管徑。

可選的，所述真空抽吸組還包括前級閥、分子泵及主閥，所述分子泵設置于所述真空爐的腔室的底端中部并與所述真空爐的腔室相連通，所述主閥設置于所述分子泵上靠近所述真空爐的一端，所述分子泵與所述機械泵相連接，所述前級閥設置在所述機械泵與所述分子泵相連接的管道上；所述分子泵與所述控制中心電連接。

本發明相對于現有技術取得了以下技術效果：

本發明鍍膜機的直線給料粉體鍍膜系統集除氣、撒粉、傳粉于一體，通過真空加熱除濕除氣克服粉體團聚、真空吸引等問題，兩級漏斗形成的流動排氣比靜態排氣更有利于排除粉體存儲堆積之間雜氣，散粉漏斗振動撒粉使粉體流速控制可調范圍更廣，同時是多面體結構粉體顆粒之間的機械互鎖現象。直線導軌振動送粉，振動頻率和振幅可調，送粉板角度可調，也可根據撒粉流速聯合調整，使粉體鍍膜整體包裹性更好。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明鍍膜機的整體結構示意圖；

圖2為圖1的左視圖；

圖3為本發明鍍膜機的生產過程中的應用圖一；

圖4為本發明鍍膜機的生產過程中的應用圖二；

其中，1為真空爐；2加熱系統；3兩級漏斗；4撒粉漏斗；5振動輸送器；6傳粉板；7隔離減震臺；8接粉槽；9濺射靶組；10第一預抽管道；11第一預抽閥；12第二預抽管道；13第二預抽閥；14機械泵；15前級閥；16分子泵；17主閥；18手動調節閥；19單獨振源。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

本發明的目的是提供一種鍍膜機，以解決上述現有技術存在的問題，該鍍膜機用于真空粉體鍍膜，能夠有效的避免抽真空時引起的粉末飛起，且可根據粉體顆粒的大小進行振動頻率等的調整，改善粉體流動性，從而使得該鍍膜機粉體涂覆效率高，漏粉率低，整體包裹性好，并且工作效率高。

為使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明。

請參考圖1-4，其中，圖1為本發明鍍膜機的整體結構示意圖；圖2為圖1的左視圖；圖3為本發明鍍膜機的生產過程中的應用圖一；圖4為本發明鍍膜機的生產過程中的應用圖二。

實施例一

如圖1-4所示，本實施例提供一種鍍膜機，包括裝料機構、真空爐1、傳動輸送機構、濺射靶組9、真空抽吸組及控制中心，裝料機構設置于真空爐1頂端靠近邊緣處，裝料機構的底部與真空爐1相連通；濺射靶組9位于真空爐1頂端且濺射靶組9的一側與裝料機構相鄰，濺射靶組9的另一側靠近真空爐1頂端的另一邊緣處；傳動輸送機構設置于真空爐1內且與濺射靶組9相對應，傳動輸送機構的底端與真空爐1的底部內側可拆卸的連接；真空抽吸組位于真空爐1的外側并通過管道與真空爐1相通；裝料機構內側壁上設置有一加熱系統2；傳動輸送機構、濺射靶組9、真空抽吸組及加熱系統2均與控制中心電連接。

本實施例中的鍍膜機用于粉體鍍膜，首先裝料，由裝料機構進行裝料及撒粉，真空抽吸組進行抽真空，加熱系統2對粉體進行預加熱處理，以排出粉體中的氣體，對粉體進行前處理后，粉體撒落到傳動輸送機構進行粉體傳輸，在傳輸的過程中濺射靶組9對粉體進行鍍膜進行粉體鍍膜，最后流動鍍膜的粉體流入接粉槽8中。

實施例二

如圖1-4所示，本實施例提供一種鍍膜機，在實施例一的基礎上，本實施例中的鍍膜機還具有以下特點：

裝料機構包括有兩級漏斗3及撒粉漏斗4，兩級漏斗3包括第一漏斗與第二漏斗，第一漏斗位于第二漏斗的頂端，且第一漏斗與第二漏斗之間間隔有空隙，第一漏斗與第二漏斗的底端都設置有擋板，第一漏斗與第二漏斗通過螺桿焊接固定，螺桿固定在裝料機構的內側壁上；撒粉漏斗4位于兩級漏斗3的底部，撒粉漏斗4通過螺桿與兩級漏斗3固定連接，撒粉漏斗4的底端位于裝料機構與真空爐1的連通處，撒粉漏斗4是一普通漏斗，不過漏斗孔徑比較細，可以準備幾個不同直徑和斜率的漏斗，根據粉體粒徑、裝粉量選擇合適漏孔直徑和漏斗斜率。

裝料機構的頂部設置有一觀察窗，裝料機構的外壁上固定設置有一單獨振源19，單獨振源19中的振動棒伸入裝料機構內并與撒粉漏斗4的相抵接，第一漏斗與第二漏斗得外壁也設置有與之相抵接的振動源。

傳動輸送機構包括振動輸送器5、傳粉板6及隔離減震臺7，隔離減震臺7可拆卸的設置于真空爐1的腔室底部，振動輸送器5通過螺栓固定在隔離減震臺7的頂端，振動輸送器5頂端固定傳粉板6；振動輸送器5、傳粉板6及隔離減震臺7為一體式設置，振動輸送器5與控制中心電連接；振動輸送器5與真空爐1非剛性連接會導致振動器自己位移，與真空爐1剛性連接會將振動傳至真空爐1，損耗振能同時不利于真空密封，要做好隔離減震，在振動輸送器5與真空室間加一重物支撐座保證振動時該支撐座不位移，而重物支撐座與真空爐1之間采用橡膠等柔性材料減震，如此便將振動與真空室隔離開。

位于傳粉板6的末端的下方設置有接粉槽8，接粉槽8的底端固定設置在隔離減震臺7上。

濺射靶組9包括若干濺射靶，相鄰濺射靶交錯傾斜設置，且濺射靶的濺射口對應傳粉板6；濺射靶組9中的濺射靶為磁控靶，靶接中頻電源陰極，陽極接腔室，磁控濺射鍍膜，其原理是：腔室通氬氣，形成一定工作氣壓，打開中頻電源，電子在電場的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜。

真空抽吸組包括手動調節閥18、第一預抽管道10、第一預抽閥11及機械泵14，第一預抽管道10設置于真空爐1的腔室底端的一側且與真空爐1的腔室相連通，手動調節閥18設置于第一預抽管道10上靠近真空爐1的一端，第一預抽閥11設置于第一預抽管道10上并位于遠離真空爐1的一端，第一預抽管道10的末端與機械泵14相連接；機械泵14與控制中心電連接。

真空抽吸組還包括第二預抽閥13及第二預抽管道12，第二預抽管道12設置于真空爐1的腔室底端并與真空爐1的腔室相連通，第二預抽管道12與第一預抽管道10并排設置，第二預抽閥13設置于第二預抽管道12上，第二預抽管道12的末端與第一預抽管道10的末端連通后與機械泵14相連接。

第一預抽管道10的管徑小于第二預抽管道12的管徑。

真空抽吸組還包括前級閥15、分子泵16及主閥17，分子泵16設置于真空爐1的腔室的底端中部并與真空爐1的腔室相連通，主閥17設置于分子泵16上靠近真空爐1的一端，分子泵16與機械泵14相連接，前級閥15設置在機械泵14與分子泵16相連接的管道上；分子泵16與控制中心電連接。

抽真空時，打開機械泵14，打開第一預抽閥11，通過第一預抽管道10進行初抽空，待抽到100帕以下，關閉第一預抽閥11，打開第二預抽閥13，通過第二預抽管道12抽空，待抽到5帕以下，關閉第二預抽閥13，打開前級閥15，開分子泵16，開主閥17，進行精抽空，待抽至0.02帕，打開加熱系統2加熱，使兩級漏斗3均處于加熱環境內，輻射加熱漏斗傳遞至粉體，待真空優于10^-3Pa時，打開擋板撒粉至第二漏斗，再進行撒粉。

本發明中的鍍膜機的具體工作過程如下：

首先裝料，由裝料機構中的第一漏斗底端的檔板進行存粉，然后抽真空，打開機械泵14，打開第一預抽閥11，通過第一預抽管道10進行初抽空，待抽到100帕以下，關閉第一預抽閥11，打開第二預抽閥13，通過第二預抽管道12抽空，待抽到5帕以下，關閉第二預抽閥13，打開前級閥15，開分子泵16，開主閥17，進行精抽空，待抽至0.02帕，打開加熱系統2加熱，使兩級漏斗3均處于加熱環境內，輻射加熱漏斗傳遞至粉體，待真空優于10^-3Pa時，打開擋板撒粉至第二漏斗，裝料機構中第二漏斗底端的擋板繼續存粉；在此撒落轉移過程中，粉體完成流動狀態下的分離排氣。當粉體前處理完畢后，由兩級漏斗3中的第二漏斗將粉體撒向撒粉漏斗4，撒粉漏斗4是一普通漏斗，不過漏斗孔徑比較細，可以準備幾個不同直徑和斜率的漏斗，根據粉體粒徑、裝粉量選擇合適漏孔直徑和漏斗斜率，在撒粉漏斗4上布置單獨振源19，在腔室外連接振源控制器，通過在控制器上設置不同參數，可調式振源頻率和參數，布置單獨振源19，可通過調試振幅和頻率，來控制粉體流速。濺射靶組9中的濺射靶為磁控靶，調節通氬氣量和腔壓、靶電流、電壓和功率，選擇合適參數，開靶，調整合適鍍膜參數，進入撒粉、傳粉步驟。傳粉步驟粉體以合適流速撒入傳粉板6，打開傳粉板6振動輸送器5，調整振幅和頻率，使粉體在軌道上以散開、鋪平、連續滾動狀態流動經過濺射靶組9，進行粉體鍍膜，最后流動鍍膜的粉體流入接粉槽8中。

本發明中應用了具體個例對本發明的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發明的方法及其核心思想；同時，對于本領域的一般技術人員，依據本發明的思想，在具體實施方式及應用范圍上均會有改變之處。綜上所述，本說明書內容不應理解為對本發明的限制。