本發明涉及磁控濺射鍍膜設備，尤其涉及一種磁控濺射靶擋板機構。

背景技術：

隨著薄膜器件性能的不斷提升，線寬越來越小，對磁控濺射膜層的要求也越來越高。多腔群集式磁控鍍膜設備可避免各靶材之間的交叉污染，但是成本昂貴，國內大多數科研院所和企業均難以承受，在一個工藝腔室內集成多個磁控濺射靶的鍍膜設備代替多腔群集式磁控鍍膜設備的方法被不斷采用。該方法多個濺射靶位于同一工藝腔室內，雖然各濺射靶均配備有獨立的擋板，擋板的結構與專利文獻CN 102108490 B中公開的結構相似，該擋板機構可以在一定程度上實現對濺射靶的保護，但是擋板與濺射靶之間不可避免地存在間隙，其他濺射靶在進行濺射工藝時，靶材粒子的不規則運動會通過擋板與濺射靶之間的間隙沉積到靶材表面，對該濺射靶的靶材造成交叉污染，最終影響膜層質量，尤其是多靶共焦濺射時，各濺射靶向同一中心偏轉一定角度，各靶材之間更加容易交叉污染。

技術實現要素：

本發明要解決的技術問題是克服現有技術的不足，提供一種結構簡單可靠、能夠與濺射靶緊密貼合、對濺射靶形成有效保護、減少靶材之間的交叉污染、提高沉膜質量的磁控濺射靶擋板機構。

為解決上述技術問題，本發明采用以下技術方案：

一種磁控濺射靶擋板機構，包括擋板，還包括用于驅動擋板旋轉的驅動組件、擋板旋轉時引導擋板升降的引導組件及用于安裝引導組件的支架，所述引導組件包括滾輪、彈性件及用于引導滾輪升降的引導板，所述滾輪和所述彈性件相對布置于所述擋板兩側，所述滾輪安裝于所述擋板上，所述引導板固設于所述支架上，所述彈性件抵設于所述擋板和所述支架之間。

作為上述技術方案的進一步改進：

所述引導板上設有引導區，所述引導區內設有依次銜接的高定位平臺、斜坡引導面和低定位平臺，所述滾輪的滾動區域位于所述高定位平臺和低定位平臺之間。

所述高定位平臺和低定位平臺遠離斜坡引導面的一側分別設有限位凸臺。

所述滾輪設有兩個，兩個滾輪對稱布置于所述驅動組件兩側，所述引導區均設有兩個并與兩個滾輪一一對應。

所述驅動組件包括依次連接的驅動電機、密封軸、聯軸器及驅動軸，所述驅動軸的軸心與濺射靶的軸心平行，所述擋板安裝于所述驅動軸上。

所述彈性件為彈簧并套設于所述驅動軸上。

所述驅動軸一端為腰圓形，所述擋板上設有腰型孔并通過腰型孔安裝于所述驅動軸上。

所述聯軸器為波紋管聯軸器或彈簧聯軸器。

所述支架包括頂板、底板及用于連接頂板和底板的連接板，所述頂板和底板水平布置，所述彈性件抵設于所述擋板和所述頂板之間，所述引導板安裝于所述底板上。

所述擋板上還固設有防護環，所述防護環位于濺射靶外周。

與現有技術相比，本發明的優點在于：本發明公開的磁控濺射靶擋板機構，擋板兩側分別設置彈性件和滾輪，利用彈性件的彈力作用將滾輪保持壓緊于引導板上，利用驅動組件帶動擋板旋轉，滾輪隨擋板轉動時在引導板的引導下升降，進而帶動擋板升降，結構簡單可靠，滾輪運動平穩，擋板可與濺射靶緊密貼合或分離，從而對濺射靶形成有效保護，減少靶材之間的交叉污染，提高沉膜質量。

附圖說明

圖1是本發明磁控濺射靶擋板機構的結構示意圖。

圖2是本發明磁控濺射靶擋板機構開啟狀態的結構示意圖。

圖3是本發明中的引導組件的放大結構示意圖。

圖4是本發明中的引導板的展開圖。

圖中各標號表示：1、擋板；11、腰型孔；12、防護環；2、驅動組件；21、驅動電機；22、密封軸；23、聯軸器；24、驅動軸；3、引導組件；31、滾輪；32、彈性件；33、引導板；331、高定位平臺；332、斜坡引導面；333、低定位平臺；334、限位凸臺；4、支架；41、頂板；42、底板；43、連接板；6、濺射靶。

具體實施方式

以下將結合說明書附圖和具體實施例對本發明做進一步詳細說明。

如圖1、圖2、圖3和圖4所示，本實施例的磁控濺射靶擋板機構，包括擋板1、用于驅動擋板1旋轉的驅動組件2、擋板1旋轉時引導擋板1升降的引導組件3及用于安裝引導組件3的支架4，引導組件3包括滾輪31、彈性件32及用于引導滾輪31升降的引導板33，滾輪31和彈性件32相對布置于擋板1兩側，滾輪31安裝于擋板1上，引導板33固設于支架4上，彈性件32抵設于擋板1和支架4之間，該磁控濺射靶擋板機構工作時，利用彈性件32的彈力作用將滾輪31保持壓緊于引導板33上，利用驅動組件2帶動擋板1旋轉，滾輪31隨擋板1轉動時在引導板33的引導下升降，進而帶動擋板1升降，結構簡單可靠，滾輪31運動平穩，擋板1可與濺射靶6緊密貼合或分離，從而對濺射靶6形成有效保護，減少靶材之間的交叉污染，提高沉膜質量。

本實施例中，引導板33上設有引導區，引導區內設有依次銜接的高定位平臺331、斜坡引導面332和低定位平臺333，滾輪31的滾動區域位于高定位平臺331和低定位平臺333之間，當滾輪31位于高定位平臺331時，擋板1位置最高、與濺射靶6緊貼，起良好的防護作用，需要打開擋板1時，滾輪31在驅動組件2的作用下隨擋板1轉動，自高定位平臺331上沿著斜坡引導面332逐漸滾動至低定位平臺333上，擋板1位置最低、與濺射靶6之間產生間隙。

本實施例中，高定位平臺331和低定位平臺333遠離斜坡引導面332的一側分別設有一個限位凸臺334，滾輪31滾動至限位凸臺334后達到極限位置，無法繼續運動，限位凸臺334對滾輪31起到良好的限位作用，避免擋板1升降幅度過大，提高機構的可靠性。

本實施例中，滾輪31設有兩個，兩個滾輪31對稱布置于驅動組件2兩側，可對擋板1提供更好的支撐，使擋板1運動更加平穩、順暢，引導區均設有兩個并與兩個滾輪31一一對應。

本實施例中，驅動組件2包括依次連接的驅動電機21、密封軸22、聯軸器23及驅動軸24，驅動軸24的軸心與濺射靶6的軸心平行，擋板1安裝于驅動軸24上，驅動電機21依次通過密封軸22和聯軸器23帶動驅動軸24轉動，彈性件32為彈簧并套設于驅動軸24上。

本實施例中，驅動軸24下端兩側切邊構成腰圓形，擋板1上設有腰型孔11并通過腰型孔11安裝于驅動軸24上，使得擋板1可相對驅動軸24上下運動，而不能相對轉動，結構簡單、實用。在其他實施例中也可采用四方頭或其他形式，能夠限制擋板1相對驅動軸24的轉動、但不影響擋板1相對驅動軸24的上下運動即可。

當濺射靶6需要進行角度調節時，聯軸器23可采用波紋管聯軸器或彈簧聯軸器。

本實施例中，支架4包括頂板41、底板42及用于連接頂板41和底板42的連接板43，頂板41和底板42水平布置，彈性件32抵設于擋板1和頂板41之間，引導板33安裝于底板42上，也即彈性件32位于擋板1的上方，滾輪31安裝于擋板1的下側，在其他實施例中，也可將彈性件32和滾輪31的位置進行調換，對高定位平臺331、斜坡引導面332和低定位平臺333相應進行調整即可。

本實施例中，擋板1上還固設有防護環12，防護環12位于濺射靶6外周，可進一步優化防護效果，防護環12的高度設計應保證擋板1升降過程中不與濺射靶6干涉即可。

本發明磁控濺射靶擋板機構的工作原理如下：

擋板1處于關閉狀態時，即滾輪31位于高定位平臺331上，擋板1位置最高、與濺射靶6緊貼，起良好的防護作用；需要開啟擋板1時，啟動驅動電機21，驅動電機21依次通過密封軸22和聯軸器23帶動驅動軸24轉動，驅動軸24帶動擋板1及滾輪31整體轉動，滾輪31沿著斜坡引導面332逐漸滾動至低定位平臺333上，直至到達低定位平臺333外側的限位凸臺334，停止運動，擋板1位置最低、與濺射靶6之間產生間隙；需要將擋板1恢復至關閉狀態時，運動過程相反，不再贅述。

雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發明。任何熟悉本領域的技術人員，在不脫離本發明技術方案范圍的情況下，都可利用上述揭示的技術內容對本發明技術方案做出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。因此，凡是未脫離本發明技術方案的內容，依據本發明技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均應落在本發明技術方案保護的范圍內。