技術總結
本發明涉及一種環管式低壓化學氣相沉淀腔，包括腔體，所述腔體中內置有導氣結構及用于支撐晶圓的支撐結構，所述導氣結構為一環形腔套，所述環形腔套的內壁安裝有多根徑向設置的導氣管，所述支撐結構包括一支撐軸，所述支撐軸軸向設置于所述環形腔套中，支撐軸的周壁上借助卡夾夾持晶圓，所述導氣管置于相鄰的晶圓之間。本發明采用環狀形的導氣結構及置于該導氣結構中的支撐軸，支撐軸采用放射方式固定晶圓，大大降低晶圓的支撐體積，減小整個沉淀腔的體積，并提高反應氣體與晶圓的接觸均勻度。

技術研發人員：呂耀安
受保護的技術使用者：無錫宏納科技有限公司
文檔號碼：201610885384
技術研發日：2016.10.10
技術公布日：2017.02.15