本發明涉及一種切割打磨機,具體涉及切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機。
背景技術:
標牌,顧名思義就是用于制作標識的指示牌,上面有文字、圖案等內容起到指明方向和警示的作用。常見的標牌有電鑄標牌,司標牌、銅字標牌、警示標牌。標牌的制作工藝中,常常會進行切割,但是在切割后,標牌的切割邊緣會十分的鋒利,在拿放時容易劃傷手,在使用使易造成安全事故,因而,在生產中還會有磨邊的工藝,然而,現有的打磨和切割是分開的兩個工藝,在實際生產中消耗較多的工序及時間,并且,在生產中,有的打磨為人工打磨,更加費時費力,因而迫切需要一種高效率的切割打磨機。
技術實現要素:
本發明所要解決的技術問題是標牌切割后較鋒利,現有的打磨效率不高,目的在于提供切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,切割打磨一體結構,提高打磨的效率。
本發明通過下述技術方案實現:
切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,包括傳送裝置、位于傳送裝置上的切割裝置和標牌,在傳送裝置上有兩條滑道,所述滑道的兩端有打磨裝置,所述打磨裝置打磨標牌切割后的邊緣,所述兩條滑道之間有旋轉臺。
進一步的,當標牌在切割后,所述滑道兩端上的打磨裝置在滑道上滑動,并且在標牌位于兩者之間時開始對標牌兩邊進行打磨,通過第一條滑道后,標牌的兩邊打磨完畢,此時再通過旋轉臺時,標牌旋轉90度,在通過另一條滑道時,對剩下的兩條邊進行打磨,進而實現對標牌四邊的打磨工作。
本裝置結構簡單,操作方便,打磨的效率也更高。
進一步的,切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,所述傳送裝置上有噴水器、烘干機,所述噴水器在烘干機和切割裝置之間,并且滑道在烘干機和切割裝置之間。在切割打磨時,噴水器對標牌進行噴水,降低在切割打磨時產生的溫度,使裝置更加安全,并且在噴水時,打磨切割產生的殘渣也可以較好的清除,進而得到的標牌品質更高。
進一步的,切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,所述打磨裝置上有壓力傳感器,并且兩個打磨裝置的相對面上有可旋轉的打磨機。打磨裝置上的壓力傳感器控制打磨裝置的滑動,當壓力傳感器上壓力為零時,打磨裝置向前滑動,當標牌位于打磨裝置之間時,壓力傳感器上接收到壓力信號,打磨裝置停止向前滑動,并旋轉打磨機,更好的對標牌進行打磨,當標牌離開旋轉裝置,壓力傳感器再次接收到壓力為零的信號,及返回原處,這樣對于不同尺寸大小的標牌都能起到較好的打磨作用,效果更好,實用性也更高。
優選的,切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,所述傳送裝置上的傳送帶有若干孔洞。切割打磨產生的殘渣即通過傳送帶上的孔洞,落下來,避免在傳送帶上堆積。
優選的,切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,所述傳送裝置的傳送帶下有收塵腔,殘渣及水落入收塵腔中,便于打掃,并且收塵腔中的水可與噴水器連接,進行循環利用。
本發明與現有技術相比,具有如下的優點和有益效果:
1、本發明切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,切割打磨一體結構,使用更加方便,打磨效率更高;
2、本發明切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,對于不同尺寸大小的標牌均適用,實用性高;
3、本發明切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,具有噴水和烘干功能,得到的標牌品質更好。
附圖說明
此處所說明的附圖用來提供對本發明實施例的進一步理解,構成本申請的一部分,并不構成對本發明實施例的限定。在附圖中:
圖1為本發明結構示意圖。
附圖中標記及對應的零部件名稱:
1-傳送裝置,2-切割裝置,3-標牌,4-滑道,5-打磨裝置,6-壓力傳感器,7-旋轉臺,8-噴水器,9-烘干機。
具體實施方式
為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚明白,下面結合實施例和附圖,對本發明作進一步的詳細說明,本發明的示意性實施方式及其說明僅用于解釋本發明,并不作為對本發明的限定。
實施例1
如圖1所示,本發明切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,傳送裝置1、位于傳送裝置1上的切割裝置2和標牌3,在傳送裝置1上有兩條滑道4,所述滑道4的兩端有打磨裝置5,所述打磨裝置5打磨標牌3切割后的邊緣,所述兩條滑道4之間有旋轉臺7。
實施例2
在實施例1的基礎上,所述的切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,傳送裝置1上有噴水器8、烘干機9,所述噴水器8在烘干機9和切割裝置2之間,并且滑道4在烘干機9和切割裝置2之間。
所述的切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,打磨裝置5上有壓力傳感器6,并且兩個打磨裝置5的相對面上有可旋轉的打磨機。
實施例3
在實施例2的基礎上所述的切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,傳送裝置1上的傳送帶有若干孔洞。
所述的切割同時打磨邊緣的標牌切割打磨一體機,傳送裝置1的傳送帶下有收塵腔,并且收塵腔與噴水器8連接,噴水器8上有抽水泵。
以上所述的具體實施方式,對本發明的目的、技術方案和有益效果進行了進一步詳細說明,所應理解的是,以上所述僅為本發明的具體實施方式而已,并不用于限定本發明的保護范圍,凡在本發明的精神和原則之內,所做的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發明的保護范圍之內。