技術總結
本發明提供一種濺射裝置。本發明一實施例的濺射裝置包括：工藝腔室；濺射靶，設置于所述工藝腔室的內部；基板架，與所述濺射靶相對配置，用于支撐待沉積濺射靶物質的基板；以及濺射靶驅動部，以使所述濺射靶傾斜的方式旋轉驅動所述濺射靶。

技術研發人員：孫尚佑;姜賢株;鄭敞午
受保護的技術使用者：三星顯示有限公司
文檔號碼：201611128345
技術研發日：2016.12.09
技術公布日：2017.06.16