技術總結
本發明提供一種掩膜框架，包括主框架和多個遮擋條，主框架上形成有沿厚度方向貫穿主框架的蒸鍍區，主框架上設置有多對第一容納槽，同一對第一容納槽中的兩個第一容納槽分別位于蒸鍍區第一方向的兩側，每個遮擋條對應一對第一容納槽，遮擋條的兩端分別設置在相應的兩個第一容納槽中，掩膜框架包括至少一對第一定位孔，每對第一定位孔對應一對第一容納槽，且同一對第一定位孔中的兩個第一定位孔分別與相應的一對第一容納槽中的兩個第一容納槽位置對應。本發明還提供一種掩膜板。由于遮擋條精確地焊接在第一容納槽中，從而可以對設置在掩膜框架上的掩膜條的邊緣部進行遮擋，并且，由于遮擋條位置焊接精確，從而可以為掩膜條設計提供了較大的預偏量。

技術研發人員：林治明
受保護的技術使用者：京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
文檔號碼：201611138902
技術研發日：2016.12.12
技術公布日：2017.05.24