技術特征：

1.一種高效氮摻雜二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

（1）清洗玻璃基片，后用高壓N₂吹干；

（2）玻璃基片放入磁控濺射設備中與陽極連接， TiO₂陶瓷靶設置在陰極，射頻電源與匹配器相連接后與直流電源一起連接至濾波器，濾波器直接連接陰極，射頻電源和直流電源一起供電給陰極，即采用直流磁控濺射耦合射頻磁控濺射的方法，在玻璃基片上濺射氮摻雜二氧化鈦薄膜；

（3）制備工藝參數如下：

本底真空≤8×10^-4 Pa；

工作壓強：4～8×10^-1Pa；

直流濺射功率：50～100W；

射頻濺射功率：100～250W；

濺射工藝氣體Ar流量：20～30sccm；

反應氣體N₂流量：4～8sccm；

沉積鍍膜厚度：400-600nm。