技術總結
本實用新型的實施例提供用于改進的處理腔室的系統和設備。實施例包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統，所述PECVD系統具有：處理腔室，所述處理腔室具有蓋組件和噴淋頭；以及RF發生器，所述RF發生器可操作以通過所述蓋組件將10kW或更大的功率提供至所述噴淋頭。所述RF發生器緊鄰所述蓋組件而設置。還公開了許多附加的方面。

技術研發人員：S·安瓦爾;J·庫德拉;J·M·懷特
受保護的技術使用者：應用材料公司
文檔號碼：201620044524
技術研發日：2016.01.18
技術公布日：2016.11.30