本專利涉及真空鍍膜領域，是真空鍍膜控制系統的一部分，具體涉及一種智能真空度控制系統。

背景技術：

真空鍍膜技術初現于20世紀30年代，四五十年代開始出現工業應用，工業化大規模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。

以往控制沉積壓強只通過流量計實現，用流量計輸出的大小，來影響沉積壓強，用這種方法沉積壓強波動較大，反應速度較慢，對真空鍍膜的效果產生了不好的影響。

技術實現要素：

本實用新型的目的在于提供一種智能真空度控制系統，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種智能真空度控制系統，包括真空爐，所述真空爐通過管道連接真空泵，所述真空爐的內部設有壓力傳感器，所述壓力傳感器分別電性連接流量計負反饋電路的輸入端和節流閥負反饋電路的輸入端，所述流量計負反饋電路的輸出端電性連接流量計的輸入端，所述節流閥負反饋電路的輸出端電性連接節流閥的輸入端，所述流量計和節流閥設置在真空爐沉積氣體進氣的管道上。

優選的，所述壓力傳感器的表面設有防護層。

優選的，所述真空爐與真空泵之間的連接管設置為金屬管。

本實用新型的技術效果和優點：該智能真空度控制系統，采用閉環控制，并引進了節流閥的輔助控制，使流量計和節流閥共同動作，保證了沉積壓強的準確，快速，穩定。

附圖說明

圖1為本實用新型的系統框圖；

圖2為本實用新型原理圖；

圖3為流量計與沉積壓強曲線圖；

圖4為節流閥與沉積壓強變化率曲線圖；

圖5為本專利與非本專利效果比對圖。

圖中：1真空爐、2真空泵、3壓力傳感器、4流量計、5節流閥、6流量計負反饋電路、7節流閥負反饋電路。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

本實用新型提供了如圖1-5所示的一種智能真空度控制系統，包括真空爐1，所述真空爐1通過管道連接真空泵2，所述真空爐1的內部設有壓力傳感器3，所述壓力傳感器3分別電性連接流量計負反饋電路6的輸入端和節流閥負反饋電路7的輸入端，所述流量計負反饋電路6的輸出端電性連接流量計4的輸入端，所述節流閥負反饋電路7的輸出端電性連接節流閥5的輸入端，所述流量計4和節流閥5設置在真空爐1沉積氣體進氣的管道上，所述壓力傳感器3的表面設有防護層，所述真空爐1與真空泵2之間的連接管設置為金屬管。

流量計4輸出氣體的多少直接影響真空爐1內的沉積壓強，流量計4輸出氣體的多少與爐內沉積壓強成正比，如圖3所示。節流閥5改變節流截面，影響真空爐1內沉積壓強的變化率，節流閥5節流面積越大，沉積壓強變化越快，反之節流閥5節流面積越小，沉積壓強變化越慢，當節流閥5關閉時，壓力不變，如圖4所示。當沉積壓強與設定壓強不相等時，采用負反饋原理，流量計4和節流閥5改變輸出，達到保證沉積壓強準確，快速，穩定的目的。

工作原理：用真空泵2把真空爐1的氣體排出，抽到合適的氣壓時，打開流量計4，通入沉積氣體，改變沉積壓強。當實際沉積壓強與設定壓強不相等時，流量計4改變流量，節流閥5改變節流截面，保證沉積壓強的準確，快速，穩定。

最后應說明的是：以上所述僅為本實用新型的優選實施例而已，并不用于限制本實用新型，盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換，凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。