1.一種RH提升氣體閥站，其特征在于，包括：
一氬氣供應主管，所述氬氣供應主管上具有一氬氣切斷閥；
至少一控流單元，每一所述控流單元具有一進氣端以及一出氣端，所述進氣端與所述氬氣供應主管連接，每一所述控流單元包括至少兩級管路，每級管路上具有一電磁閥和一限流孔板；
一真空室插入管，與所述出氣端連接。
2.如權利要求1所述的RH提升氣體閥站，其特征在于：進一步包括一氮氣供應主管，所述氮氣供應主管上具有一氮氣切斷閥，所述氮氣供應主管與所述進氣端連接。
3.如權利要求2所述的RH提升氣體閥站，其特征在于：所述氬氣供應主管與所述氮氣供應主管匯合至一氣體供應總管，所述氣體供應總管與所述進氣端連接。
4.如權利要求3所述的RH提升氣體閥站，其特征在于：當所述控流單元為多個時，所述氣體供應總管分成多個分支結構并分別與多個所述控流單元的進氣端連接。
5.如權利要求1所述的RH提升氣體閥站，其特征在于：當所述控流單元為多個時，多個所述控流單元為相同的。
6.如權利要求1所述的RH提升氣體閥站，其特征在于：同一控流單元的每級管路上的限流孔板限制的氣體流量不同。