本實用新型涉及玻璃加工技術領域，特別是涉及一種玻璃研磨機。

背景技術：

液晶玻璃基板是液晶顯示屏的一個重要零部件，在對液晶玻璃基板的加工中，研磨是一道重要工序；研磨工序中，需要將液晶玻璃基板吸附在研磨機的吸附裝置上，然后通過研磨機的研磨輪對玻璃基板的是四個邊角進行研磨處理。

其中，研磨機的工作臺臺條的臺面上共具有4個獨立的真空吸口，分別在液晶玻璃基板的四個邊角上；在開啟吸真空設備后，液晶玻璃基板可被真空吸口吸附在工作臺臺條的臺面上。

在實現本實用新型過程中，實用新型人發現現有技術中至少存在如下問題：

獨立存在的4個真空吸口的壓力值不完全相等，4個真空吸口的真空吸附力不均勻，在使用研磨機的研磨輪對液晶玻璃基板的邊角進行研磨過程中，液晶玻璃基板容易產生較大的震動，真空吸附力值較低的真空吸口容易與玻璃基板脫離，存在液晶玻璃基板易碎的問題。

技術實現要素：

有鑒于此，本實用新型提供一種玻璃研磨機以及使用方法，主要目的在于降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。

為達到上述目的，本實用新型主要提供如下技術方案：

一方面，本實用新型的實施例提供一種玻璃研磨機，包括玻璃吸附平臺以及研磨輪，所述玻璃吸附平臺包括：

工作臺臺條，其支撐平面上開有吸附凹槽，所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底連通有分散布置的M個第一通氣通道，M為大于等于3的正整數；

真空吸氣管路，與所述M個第一通氣通道連通。

本實用新型的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。

可選的，前述的玻璃研磨機，其中所述工作臺臺條包括相對的兩個橫向支撐臺以及從兩個橫向支撐臺向中心延伸的多個縱向支撐桿；

所述吸附凹槽位于所述橫向支撐臺的支撐平面上；

所述縱向支撐桿的端部具有吸盤，所述吸盤的底部連通有第二通氣通道；

所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通。

可選的，前述的玻璃研磨機，其中所述縱向支撐桿的桿臂上間隔的設置有N個支撐座，N為大于等于2的正整數；

其中，N個支撐座的支撐平面與所述橫向支撐臺的支撐平面處于同一平面。

可選的，前述的玻璃研磨機，其中還包括：

吹氣管路，與至少一個第一通氣通道、所述第二通氣通道連通；或，

放空管路，與至少一個第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。

可選的，前述的玻璃研磨機，其中所述吸附凹槽包括橫行布置的多條橫向管路以及連通多條橫向管路的縱向管路。

可選的，前述的玻璃研磨機，其中所述吸附凹槽包括回字形凹槽，M個第一通氣通道并排設置在回字形凹槽的中心；

所述吸附凹槽還包括依次連通M個第一通氣通道和回字形凹槽的連接槽。

可選的，前述的玻璃研磨機，其中M個第一通氣通道相互連通；或，

M個第一通氣通道中的至少2個第一通氣通道相互獨立，真空吸氣管路包括至少2個獨立通路，每個獨立通路分別連接相互獨立的第一通氣通道。

另一方面，本實用新型的實施例提供一種使用玻璃研磨機的方法，包括：

在玻璃研磨機工作臺臺條的支撐面上粘貼防靜電臺布，其中，所述支撐平面上開有吸附凹槽，所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底連通有分散布置的M個第一通氣通道，M為大于等于3的正整數；

在所述防靜電臺布上開設與所述吸附凹槽槽口對應的通氣口；

將玻璃基板放置在工作臺臺條支撐面的防靜電臺布上；

開啟與所述M個第一通氣通道連通的真空吸氣管路，使所述吸附凹槽產生負壓，將所述玻璃基板吸附在所述工作臺臺條的支撐面上。

本實用新型的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。

可選的，前述的方法，其中

所述工作臺臺條包括相對的兩個橫向支撐臺以及從兩個橫向支撐臺向中心延伸的多個縱向支撐桿；所述吸附凹槽位于所述橫向支撐臺的支撐平面上；所述縱向支撐桿的端部具有吸盤，所述吸盤的底部連通有第二通氣通道；所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通；所述吹氣管路與所述第二通氣通道連通；所述縱向支撐桿的桿臂上間隔的設置有N個支撐座，N為大于等于2的正整數；其中，N個支撐座的支撐平面與所述橫向支撐臺的支撐平面處于同一平面；所述將玻璃基板放置在工作臺臺條支撐面的防靜電臺布上，之前還包括：

在N個支撐座的支撐平面上鋪設防靜電臺布。

可選的，前述的方法，其中還包括：

通過吹氣管路對負壓的吸附凹槽泄壓，其中，吹氣管路與至少一個第一通氣通道、所述第二通氣通道連通；或，

通過放空管路對負壓的吸附凹槽泄壓，其中，放空管路與至少一個第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。

借由上述技術方案，本實用新型技術方案實施例提供的玻璃研磨機至少具有下列優點：

本實用新型實施例提供的技術方案中，吸附凹槽連通有分散布置的M個第一通氣通道，在真空吸氣管路的負壓吸力下，玻璃基板可被吸附在玻璃研磨機的工作臺臺條的吸附凹槽上，由于M個第一通氣通道被同一個吸附凹槽連通，相對于現有技術，吸附凹槽會對玻璃基板產生一個更加均等的作用力，使得玻璃基板更加穩固的被吸附在工作臺臺條上，降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。

上述說明僅是本實用新型技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本實用新型的技術手段，并可依照說明書的內容予以實施，以下以本實用新型的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。

附圖說明

通過閱讀下文優選實施方式的詳細描述，各種其他的優點和益處對于本領域普通技術人員將變得清楚明了。附圖僅用于示出優選實施方式的目的，而并不認為是對本實用新型的限制。而且在整個附圖中，用相同的參考符號表示相同的部件。在附圖中：

圖1是本實用新型的實施例一提供的一種玻璃研磨機的玻璃吸附平臺的結構示意圖；

圖2是本實用新型的實施例一提供的一種玻璃研磨機的縱向支撐桿的結構示意圖；

圖3是本實用新型的實施例一提供的一種玻璃研磨機的玻璃吸附平臺的局部結構示意圖；

圖4是本實用新型的實施例一提供的一種玻璃研磨機的管路連接示意圖；

圖5是本實用新型的實施例一提供的另一種玻璃研磨機的管路連接示意圖；

圖6是本實用新型的實施例提供的一種玻璃研磨機的玻璃吸附平臺吸附玻璃基板后的第一視角結構示意圖；

圖7是本實用新型的實施例提供的一種玻璃研磨機的玻璃吸附平臺吸附玻璃基板后的第二視角結構示意圖；

圖8是本實用新型的實施例二提供的一種使用玻璃研磨機的方法的流程示意圖。

具體實施方式

為更進一步闡述本實用新型為達成預定實用新型目的所采取的技術手段及功效,以下結合附圖及較佳實施例，對依據本實用新型提出的玻璃研磨機其具體實施方式、結構、特征及其功效，詳細說明如后。在下述說明中，不同的“一實施例”或“實施例”指的不一定是同一實施例。此外，一或多個實施例中的特定特征、結構、或特點可由任何合適形式組合。

本文中術語“和/或”，僅僅是一種描述關聯對象的關聯關系，表示可以存在三種關系，例如，A和/或B，具體的理解為：可以同時包含有A與B，可以單獨存在A，也可以單獨存在B，能夠具備上述三種任一種情況。

實施例一

如圖1、圖2、圖3和圖4所示，本實用新型的實施例一提出的一種玻璃研磨機，其包括：玻璃吸附平臺以及研磨輪，所述玻璃吸附平臺包括：

工作臺臺條10，工作臺臺條10的支撐平面上開有吸附凹槽11，所述吸附凹槽11的槽底連通有分散布置的M個第一通氣通道12，M為大于等于3的正整數；吸附凹槽11可為長條形的凹槽，如，一字型長條、環形條、多個條形凹槽拼接一起的多條線形凹槽等；吸附凹槽整體長度根據玻璃基板的尺寸而定，整體長度尺寸越長，對玻璃基板的吸附面越大；其中，第一通氣通道的個數根據需要而定，數量越多，吸附凹槽的吸附力越均勻。

真空吸氣管路20，真空吸氣管路20與所述M個第一通氣通道12連通；真空吸氣管路20可與真空泵連接。

在對玻璃基板研磨中，可通過下述工藝過程：

在工作臺臺條的支撐面上粘貼防靜電臺布；

在所述防靜電臺布上開設與所述吸附凹槽槽口對應的通氣口；

將玻璃基板放置在工作臺臺條支撐面的防靜電臺布上；

開啟與所述M個第一通氣通道連通的真空吸氣管路(開啟真空泵)，使所述吸附凹槽產生負壓，將所述玻璃基板吸附在所述工作臺臺條的支撐面上；

控制研磨輪對玻璃基板進行研磨。

本實用新型實施例提供的技術方案中，吸附凹槽連通有分散布置的M個第一通氣通道，在真空吸氣管路的負壓吸力下，玻璃基板可被吸附在玻璃研磨機的工作臺臺條的吸附凹槽上，由于M個第一通氣通道被同一個吸附凹槽連通，相對于現有技術，吸附凹槽會對玻璃基板產生一個更加均等的作用力(由于M個第一通氣通道被吸附凹槽連通，使得M個第一通氣通道所給予的壓力被均勻化)，使得玻璃基板更加穩固的被吸附在工作臺臺條上，降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。

圖1中所示的工作臺臺條，寬度尺寸可為1500mm，第一通氣通道12的個數為5個，位于吸附凹槽11兩端的兩個第一通氣通道距離支撐平面兩側邊緣50-250mm，如150mm；位于同一直線上的5個第一通氣通道12，每相鄰的2個第一通氣通道12之間的間隔在200-400mm之間，具體可為300mm。其中工作臺臺條為矩形，回字形吸附凹槽11的邊緣距離矩形工作臺臺條的邊緣10mm，吸附凹槽11槽寬5mm，5個第一通氣通道12通過吸附凹槽11連通。

如圖1和圖3所示，在具體的實施當中，上述的玻璃研磨機，其中所述工作臺臺條包括相對的兩個橫向支撐臺10a以及從兩個橫向支撐臺10a向中心延伸的多個縱向支撐桿10b；所述吸附凹槽11位于所述橫向支撐臺10a的支撐平面上；所述縱向支撐桿10b的端部具有吸盤13，所述吸盤13的底部連通有第二通氣通道；所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通。即，在玻璃基板的兩側使用吸附凹槽進行吸附，在玻璃基板的中心使用吸盤進行吸附。第一通氣通道和第二通氣通道可連接同一真空泵，也可分別連接不同的真空泵，可使吸附凹槽的吸力大于吸盤的吸力。同時，在對玻璃研磨機的生產中，由于公差的存在，很難將橫向支撐臺與縱向支撐臺處于同一平面上，在玻璃基板的兩側使用吸附凹槽吸附，中間采用柔性的吸盤吸附，柔性的吸盤可具有高度上的伸縮適配性，吸附效果較好。

具體的，如圖3和圖4所示，上述實施例中所述的玻璃研磨機中，還包括：吹氣管路30。吹氣管路30與至少一個第一通氣通道12、第二通氣通道連通。研磨輪對玻璃基板研磨完成之后，可開啟吹氣管路(開啟與吹氣管路的空氣壓縮機)，向吸附凹槽內充氣，使內部負壓轉換為正壓，將研磨好的玻璃基板從吸附凹槽上分離，操作便捷。

同樣的，上述實施例中，不僅僅僅局限于使用吹氣管路，也可使用放空管路來實現便于分離的效果。具體的，上述實施例中所述的玻璃研磨機中，還包括：放空管路，放空管路與至少一個第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。具體的，放空管路上具有放空閥門，研磨輪對玻璃基板研磨完成之后，可開啟放空閥門，使吸附凹槽內與外部大氣連通，將內部負壓轉換為正壓，將研磨好的玻璃基板從吸附凹槽上分離，操作便捷。其中，放空管路即包括有與至少一個第一通氣通道、第二通氣通道相互連通管道，在管道上具有一個放空閥門，放空閥門用于控制管道的通、閉。

如圖1和圖3所示，為了進一步提高對玻璃基板的吸附效果，上述的玻璃研磨機，其中所述縱向支撐桿10b的桿臂上間隔的設置有N個支撐座14，N為大于等于2的正整數；其中，N個支撐座14的支撐平面與所述橫向支撐臺10a的支撐平面處于同一平面。其中，同一水平面并非絕對的同一平面，應當理解為包含有制造工藝上公差。由于顯示屏的尺寸越來越大，玻璃基板尺寸也隨之變大，在橫向工作臺臺條與吸盤之間，玻璃基板會受到重力而向下彎曲，為了支撐玻璃基板，防止玻璃基板彎曲變形或破碎，N個支撐座可將玻璃基板進行支撐，提高玻璃基板在玻璃吸附平臺上的吸附效果。使用中，在將玻璃基板放置在吸附平臺之前，可在N個支撐座上分別貼上防靜電臺布，再放置玻璃基板。同時，支撐座的支撐平面與玻璃基板支撐面積越小，能夠降低玻璃基板下表面出現劃傷及污漬的幾率。間隔設置的N個支撐座相對于整體支撐座而言，可降低玻璃基板下表面出現劃傷及污漬的幾率。

在具體地實施中，為了更加牢固的吸附玻璃基板，上述的玻璃研磨機，其中所述吸附凹槽包括橫行布置的多條橫向管路以及連通多條橫向管路的縱向管路。吸附凹槽可形成M字形、N字形、井字形、×形等等。

具體的，其中所述吸附凹槽包括回字形凹槽，M個第一通氣通道并排設置在回字形凹槽的中心；所述吸附凹槽還包括依次連通M個第一通氣通道和回字形凹槽的連接槽。其中，連接槽可連接第一通氣通道和回字形凹槽的一側，或者，連接槽可連接第一通氣通道和回字形凹槽的兩側，可使回字形凹槽內的氣壓更加平穩。

如圖4所示，M個第一通氣通道12相互連通，相互連通的M個第一通氣通道12通過真空吸氣管路20與一真空泵連接。

在具體的實施中，在對玻璃基板進行研磨時，可以是4個邊角同時進行研磨，那么會對玻璃基板產生一個均衡的作用力；但也有每個角單獨進行研磨的情況，那么，在對每個角的研磨中，研磨輪會對玻璃基板產生一個傾向于磨削角的方向一個作用力，會給玻璃基板一個力矩，使吸附凹槽受力不均；為了提高吸附凹槽對玻璃基板的吸附穩定性，本實用新型提供的實施例中，M個第一通氣通道中的至少2個第一通氣通道相互獨立，真空吸氣管路包括至少2個獨立通路，每個獨立通路分別連接相互獨立的第一通氣通道。如圖5所示，相互獨立的至少2個第一通氣通道包括第一通道12a和第二通道12b，第一通道12a連接第一真空泵20a，第二通道12b連接第二真空泵20b；第一通道12a與第二通道12b可位于吸附凹槽11的相對兩側，當玻璃基板的一個邊角被研磨，受到力矩時，位于第一通道處和位于第二通道處受到的力不同，可通過調節第一真空泵或第二真空泵的吸力，來穩固玻璃基板；如，第一通道比第二通道處受到的分離力大，可增大第一真空泵的吸力，使第一真空泵的吸力大于第二真空泵的吸力。

實施例二

如圖6、圖7和圖8所示，本實用新型的實施例二提供一種使用玻璃研磨機的方法，可使用上述實施例一中所述的玻璃研磨機，所述方法包括：

S100、在玻璃研磨機100工作臺臺條的支撐面上粘貼防靜電臺布，其中，所述支撐平面上開有吸附凹槽，所述吸附凹槽的槽壁和/或槽底連通有分散布置的M個第一通氣通道，M為大于等于3的正整數；

S200、在所述防靜電臺布上開設與所述吸附凹槽槽口對應的通氣口；

S300、將玻璃基板200放置在工作臺臺條支撐面的防靜電臺布上；

S400、開啟與所述M個第一通氣通道連通的真空吸氣管路，使所述吸附凹槽產生負壓，將所述玻璃基板吸附在所述工作臺臺條的支撐面上。

本實用新型實施例提供的技術方案中，吸附凹槽連通有分散布置的M個第一通氣通道，在真空吸氣管路的負壓吸力下，玻璃基板可被吸附在玻璃研磨機的工作臺臺條的吸附凹槽上，由于M個第一通氣通道被同一個吸附凹槽連通，相對于現有技術，吸附凹槽會對玻璃基板產生一個更加均等的作用力，使得玻璃基板更加穩固的被吸附在工作臺臺條上，降低液晶玻璃基板在研磨中的碎屏率。

進一步的，為了提高對玻璃基板的吸附效果，上述的方法，其中所述工作臺臺條包括相對的兩個橫向支撐臺以及從兩個橫向支撐臺向中心延伸的多個縱向支撐桿；所述吸附凹槽位于所述橫向支撐臺的支撐平面上；所述縱向支撐桿的端部具有吸盤，所述吸盤的底部連通有第二通氣通道；所述真空吸氣管路與所述第二通氣通道連通；所述吹氣管路與所述第二通氣通道連通；所述縱向支撐桿的桿臂上間隔的設置有N個支撐座，N為大于等于2的正整數；其中，N個支撐座的支撐平面與所述橫向支撐臺的支撐平面處于同一平面；所述將玻璃基板放置在工作臺臺條支撐面的防靜電臺布上，之前還包括：

如圖6所示，在N個支撐座的支撐平面上鋪設防靜電臺布300。

具體可通過下述方法將研磨后的玻璃基板從吸附凹槽上分離：

一、研磨輪對玻璃基板進行研磨之后，為了便于將玻璃基板分離，上述的方法，其中還包括：通過吹氣管路對負壓的吸附凹槽泄壓，其中，吹氣管路與至少一個第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。

二、研磨輪對玻璃基板進行研磨之后，為了便于將玻璃基板分離，上述的方法，其中還包括：通過放空管路對負壓的吸附凹槽泄壓，其中，放空管路與至少一個第一通氣通道、所述第二通氣通道連通。

具體的，上述方法的步驟中，在所述防靜電臺布上開設與所述吸附凹槽槽口對應的通氣口，具體可為使用刀具對防靜電臺布開設通氣口；或是，具體為使用模具下壓所述支撐平面，使所述模具上的刀口在防靜電布上開設通氣口，其中，所述模具具有與工作臺臺條支撐平面尺寸配合的凹槽，所述刀口位于所述凹槽的底部，所述刀口的線條形狀與所述吸附凹槽的槽口線條形狀匹配。

在上述實施例中，對各個實施例的描述都各有側重，某個實施例中沒有詳述的部分，可以參見其他實施例的相關描述。

可以理解的是，上述裝置中的相關特征可以相互參考。另外，上述實施例中的“第一”、“第二”等是用于區分各實施例，而并不代表各實施例的優劣。

在此處所提供的說明書中，說明了大量具體細節。然而，能夠理解，本實用新型的實施例可以在沒有這些具體細節的情況下實踐。在一些實例中，并未詳細示出公知的結構和技術，以便不模糊對本說明書的理解。

類似地，應當理解，為了精簡本公開并幫助理解各個實用新型方面中的一個或多個，在上面對本實用新型的示例性實施例的描述中，本實用新型的各個特征有時被一起分組到單個實施例、圖、或者對其的描述中。然而，并不應將該公開的裝置解釋成反映如下意圖：即所要求保護的本實用新型要求比在每個權利要求中所明確記載的特征更多的特征。更確切地說，如下面的權利要求書所反映的那樣，實用新型方面在于少于前面公開的單個實施例的所有特征。因此，遵循具體實施方式的權利要求書由此明確地并入該具體實施方式，其中每個權利要求本身都作為本實用新型的單獨實施例。

本領域那些技術人員可以理解，可以對實施例中的裝置中的部件進行自適應性地改變并且把它們設置在與該實施例不同的一個或多個裝置中。可以把實施例中的部件組合成一個部件，以及此外可以把它們分成多個子部件。除了這樣的特征中的至少一些是相互排斥之外，可以采用任何組合對本說明書(包括伴隨的權利要求、摘要和附圖)中公開的所有特征以及如此公開的任何裝置的所有部件進行組合。除非另外明確陳述，本說明書(包括伴隨的權利要求、摘要和附圖)中公開的每個特征可以由提供相同、等同或相似目的的替代特征來代替。

此外，本領域的技術人員能夠理解，盡管在此所述的一些實施例包括其它實施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同實施例的特征的組合意味著處于本實用新型的范圍之內并且形成不同的實施例。例如，在下面的權利要求書中，所要求保護的實施例的任意之一都可以以任意的組合方式來使用。本實用新型的各個部件實施例可以以硬件實現，或者以它們的組合實現。

應該注意的是上述實施例對本實用新型進行說明而不是對本實用新型進行限制，并且本領域技術人員在不脫離所附權利要求的范圍的情況下可設計出替換實施例。在權利要求中，不應將位于括號之間的任何參考符號構造成對權利要求的限制。單詞“包含”不排除存在未列在權利要求中的部件或組件。位于部件或組件之前的單詞“一”或“一個”不排除存在多個這樣的部件或組件。本實用新型可以借助于包括有若干不同部件的裝置來實現。在列舉了若干部件的權利要求中，這些部件中的若干個可以是通過同一個部件項來具體體現。單詞第一、第二等的使用不表示任何順序。可將這些單詞解釋為名稱。

以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作任何形式上的限制，依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內。