1.一種電弧離子鍍設備的雙靶結構，其特征在于，在一個蒸發源法蘭(1)設置兩個靶位(2)，在兩個靶位(2)中間，設置一臺弧電源(3)，即同一個蒸發源共用一臺弧電源(3)。
2.根據權利要求1所述的一種電弧離子鍍設備的雙靶結構，其特征在于，每個靶位(2)上裝配平行的兩列靶材位，即可同時裝配4列平行的靶材位。
3.根據權利要求2所述的一種電弧離子鍍設備的雙靶結構，其特征在于，除了打底和轟擊靶材位以外，剩余三列靶材位中的兩列裝相同的涂層靶材。
4.根據權利要求2所述的一種電弧離子鍍設備的雙靶結構，其特征在于，除了打底和轟擊靶材位以外，剩余三列靶材位裝不同的靶材。