本實用新型涉及一種類金剛石薄膜裝置，具體地說本實用新型涉及一種沉積類金剛石薄膜裝置。

背景技術：

類金剛石薄膜（Diamond-like Carbon films， 簡稱 DLC 薄膜）是含有 sp2和sp3鍵的非晶態碳膜的總稱，兼具金剛石和石墨的雙重性能，包括：高硬度和彈性模量、低摩擦系數、高耐磨性、高導熱率、高電阻率、良好的光學透過性、化學惰性以及良好的生物相容性等，在機械、電子、光學、醫學等領域具有廣闊的應用前景；現有的類金剛石薄膜裝置主要采用氣體離子源技術，但是該技術沉積速度慢，含氫氣，且金剛石薄膜應力比較大，不能做厚。

技術實現要素：

為了克服背景技術中的不足，本實用新型公開了一種沉積類金剛石薄膜裝置，通過采用平面矩形弧源沉積技術，實現了不含氫的類金剛石薄膜，達到了金剛石含量高、應力小、能做厚的目的。

為實現上述發明目的，本實用新型采用如下技術方案：

一種沉積類金剛石薄膜裝置，包括真空室、工件臺和真空系統，在真空室的上部設有與真空室連接的真空系統，在真空室內設有工件臺，在真空室的外部兩側分別設有矩形平面弧石墨靶與矩形平面弧鉻靶，在真空室的頂部兩側分別設有柱狀弧源清洗裝置與柱狀弧靶，在真空室上、柱狀弧靶的一側設有加熱系統。

由于采用了上述技術方案，本實用新型具有如下優越性：

本實用新型所述的沉積類金剛石薄膜裝置，通過設置矩形平面弧石墨靶，金剛石原料為石墨，比傳統的甲烷成本低；通過設置矩形平面弧靶，所得到的涂層顏色厚度等一致性好，且沉積均勻；本實用新型采用矩形平面靶沉積類金剛石薄膜，達到了金剛石含量高、膜層能做厚、涂層均勻、致密高的目的。

【附圖說明】

圖1是本實用新型的結構示意圖；

在圖中：1、柱狀弧源清洗裝置；2、柱狀弧靶；3、矩形平面弧石墨靶；4、矩形平面弧鉻靶；5、真空室；6、加熱系統；7、工件臺；8、真空系統。

【具體實施方式】

通過下面的實施例可以更詳細的解釋本實用新型，本實用新型并不局限于下面的實施例；

結合附圖1所述的沉積類金剛石薄膜裝置，包括真空室5、工件臺7和真空系統8，在真空室5的上部設有與真空室5連接的真空系統8，在真空室5內設有工件臺7，在真空室5的外部兩側分別設有矩形平面弧石墨靶3與矩形平面弧鉻靶4，在真空室5的頂部兩側分別設有柱狀弧源清洗裝置1與柱狀弧靶2，在真空室5上、柱狀弧靶2的一側設有加熱系統6。

實施本實用新型所述的沉積類金剛石薄膜裝置，在使用時，先采用真空系統8將真空室5抽至工作真空，開啟加熱系統6，開啟柱狀弧源清洗裝置1對工件臺7進行清洗，清洗好后，打開矩形平面弧鉻靶4進行打底層，然后打開矩形平面弧石墨靶3沉積類金剛石薄膜，本實用新型采用矩形平面靶沉積類金剛石薄膜，達到了金剛石含量高、膜層能做厚、涂層均勻、致密高的目的。

本實用新型未詳述部分為現有技術。

為了公開本實用新型的發明目的而在本文中選用的實施例，當前認為是適宜的，但是，應了解的是，本實用新型旨在包括一切屬于本構思和實用新型范圍內的實施例的所有變化和改進。