本實用新型涉及一種修正擋板，具體地說本實用新型涉及一種真空鍍膜的修正擋板結構。

背景技術：

公知的，隨著科學技術的飛速發展，真空鍍膜的技術已經得到普遍應用，在鍍制薄膜時，膜層的均勻性是一個重要的問題，膜層的均勻性不好，會嚴重影響膜系的特性，膜層均勻性是指膜厚隨基板表面位置的變化，它與蒸發源到基板之間的距離有關，現有的真空鍍膜主要采用增加蒸發源到基板之間的距離來改變薄膜的均勻性，但是當蒸發源不穩定的時候對于均勻性的影響就會越大，因此，提出一種能夠穩定的增加鍍膜均勻性的修正擋板結構，成為本領域技術人員的基本訴求。

技術實現要素：

為了克服背景技術中的不足，本實用新型公開了一種真空鍍膜的修正擋板結構，通過設置旋轉組件驅動轉軸上的修正擋板旋轉，實現了真空鍍膜更均勻的目的。

為實現上述發明目的，本實用新型采用如下技術方案：

一種真空鍍膜的修正擋板結構，包括真空鍍膜室、旋轉基片臺和蒸發源，在真空鍍膜室內設有蒸發源，在蒸發源的上部設有旋轉基片臺，在真空鍍膜室的外部設有旋轉組件，在旋轉組件的中心處設有穿過真空鍍膜室的轉軸，在轉軸上設有修正擋板。

由于采用了上述技術方案，本實用新型具有如下優越性：

本實用新型所述的真空鍍膜的修正擋板結構，通過旋轉組件帶動修正擋板旋轉來調節鍍膜厚度，并調整修正擋板適合的角度和形狀，從而使真空鍍膜更為均勻。

【附圖說明】

圖1是本實用新型的結構示意圖；

在圖中：1、修正擋板；2、轉軸；3、旋轉組件；4、真空鍍膜室；5、旋轉基片臺；6、蒸發源。

【具體實施方式】

通過下面的實施例可以更詳細的解釋本實用新型，本實用新型并不局限于下面的實施例；

結合附圖1所述的真空鍍膜的修正擋板結構，包括真空鍍膜室4、旋轉基片臺5和蒸發源6，在真空鍍膜室4內設有蒸發源6，在蒸發源6的上部設有旋轉基片臺5，在真空鍍膜室4的外部設有旋轉組件3，在旋轉組件3的中心處設有穿過真空鍍膜室4的轉軸2，在轉軸2上設有修正擋板1。

實施本實用新型所述的真空鍍膜的修正擋板結構，在使用時，根據需要調整修正擋板1的角度和形狀，進行固定，抽真空、打開蒸發源6，通過旋轉組件3帶動修正擋板1旋轉來調節鍍膜厚度，即可獲取非常均勻的真空鍍膜。

本實用新型未詳述部分為現有技術。

為了公開本實用新型的發明目的而在本文中選用的實施例，當前認為是適宜的，但是，應了解的是，本實用新型旨在包括一切屬于本構思和實用新型范圍內的實施例的所有變化和改進。