技術總結
一種真空鍍膜的修正擋板結構，涉及一種修正擋板結構，包括真空鍍膜室（4）、旋轉基片臺（5）和蒸發源（6），在真空鍍膜室（4）內設有蒸發源（6），在蒸發源（6）的上部設有旋轉基片臺（5），在真空鍍膜室（4）的外部設有旋轉組件（3），在旋轉組件（3）的中心處設有穿過真空鍍膜室（4）的轉軸（2），在轉軸（2）上設有修正擋板（1）；本實用新型通過設置旋轉組件驅動轉軸上的修正擋板旋轉，實現了真空鍍膜更均勻的目的。

技術研發人員：鄒楊;孫蕾;楊宜珍;鄒松東;孫凌
受保護的技術使用者：洛陽奧爾材料科技有限公司
文檔號碼：201620784026
技術研發日：2016.07.25
技術公布日：2016.12.14