技術特征：

技術總結
本發明涉及經由偏置的多端口噴射裝置的徑向和厚度控制。本發明公開了氣體分布系統，以便在交叉流動反應器中的襯底上獲得更好的膜均勻性。可以通過對氣體分布系統的單獨噴射端口的不對稱偏置實現更好的膜均勻性。氣體分布可以允許膜性質的變化的可調性。

技術研發人員：J·瑪格蒂斯;J·托爾;G·巴特立特;N·巴爾加瓦
受保護的技術使用者：ASMIP控股有限公司
技術研發日：2017.03.22
技術公布日：2017.10.03