技術特征：

技術總結
本發明揭示一種制備納米薄膜的系統及方法，其中制備納米薄膜的系統包括處理裝置、等離子發生器、偏轉裝置與成型裝置；偏轉裝置包括第一管道與第一電磁線圈；成型裝置設置有基層；等離子發生器將制備納米薄膜的原料電離成陰離子與陽離子；第一電磁線圈將陰離子或者陽離子偏轉進入第一管道，陰離子或者陽離子通過第一管道進入成型裝置，成型裝置使所述陰離子得到電子形成原子或使所述陰離子失去電子形成原子，在基層形成納米薄膜。本發明大大提高了納米薄膜的質量。

技術研發人員：張啟輝
受保護的技術使用者：深圳市航盛新材料技術有限公司
技術研發日：2017.05.17
技術公布日：2017.10.20