本公開涉及一種工藝氣體供應裝置和包括工藝氣體供應裝置的襯底處理系統，更具體地，涉及一種通過穩定控制工藝氣體的溫度來供應工藝氣體的工藝氣體供應裝置，以及包括工藝氣體供應裝置的襯底處理系統。

背景技術：

1、在用于制造半導體的襯底處理裝置中，為了穩定反應和顆粒控制，工藝氣體有時在被供應到腔室之前會被加熱。

2、在現有技術中，使用加熱套筒圍繞每條供應工藝氣體的氣體管路，并單獨加熱每條氣體管路。在這種情況下，特定部分的溫度變化會導致諸如工藝過程中產生顆粒等限制問題。也就是說，當通過安裝加熱套筒來加熱單個氣體管路時，由于空間限制會占用大量空間，并且不僅因為加熱區域數量增加而難以控制加熱區域，而且溫度會隨加熱套筒的不同部分而變化，從而導致諸如顆粒等限制。

3、為了解決這些限制，有必要在整個氣體管路中穩定地維持溫度。

4、[現有技術文獻]

5、[專利文獻]

6、韓國專利第10-0990157號

技術實現思路

1、本公開提供了一種工藝氣體供應裝置，其均勻地加熱多條氣體管路，工藝氣體通過這些氣體管路供應，以穩定地維持工藝氣體的溫度，以及包含工藝氣體供應裝置的襯底處理系統。

2、根據一個示范性實施例，工藝氣體供應裝置包括：氣體中心，工藝氣體從氣體供應源供應到氣體中心；多條氣體管路，從氣體中心分支以傳輸所供應的工藝氣體；以及集成加熱部件，提供以環繞多條氣體管路和氣體中心，從而同時加熱氣體中心和多條氣體管路。

3、集成加熱部件可包括：導熱塊，經配置以環繞多條氣體管路和氣體中心；以及發熱元件，其至少部分與導熱塊接觸以加熱導熱塊。

4、導熱塊可包括：中心安裝部件，經配置以環繞氣體中心；以及氣體管路安裝部件，經配置以環繞多條氣體管路。

5、多條氣體管路中的每條可包括水平線部分和垂直線部分，水平線部分從氣體中心向徑向方向延伸，垂直線部分向垂直于徑向方向的方向延伸，其中氣體管路安裝部件可包括：第一管路安裝部件，經配置以環繞水平線部分；以及第二管路安裝部件，經配置以環繞垂直線部分。

6、第一管路安裝部件和第二管路安裝部件可具有彼此不同的形狀。

7、氣體中心可以多個提供，在垂直方向上堆疊，并且中心安裝部件可經配置以一起環繞多個氣體中心。

8、多條氣體管路可分別以相同數量連接到每個氣體中心，并且氣體管路安裝部件可以多個提供，以環繞配置在相同方向上的氣體管路。

9、多條氣體供應管路可分別連接到多個氣體中心，，工藝氣體通過氣體供應管路供應，并且工藝氣體可包括供應到彼此不同的氣體中心的多種氣體。

10、多條氣體管路可對稱地配置在氣體中心周圍以徑向延伸。

11、導熱塊可包括鋁。

12、發熱元件可包括筒式加熱器。

13、工藝氣體供應裝置還可包括溫度測量部件，經配置以測量導熱塊的溫度。

14、集成加熱部件還可包括絕緣部分，經配置以環繞導熱塊。

15、絕緣部分可包括玻璃纖維。

16、根據另一示范性實施例，襯底處理系統包括：根據示范性實施例的工藝氣體供應裝置；多個花灑頭，其從氣體中心分支并且工藝氣體被供應到其中；以及多個襯底支撐，分別提供以對應多個花灑頭。

17、襯底處理系統還可包括多個子腔室，其中多個花灑頭和多個襯底支撐分別成對提供。

18、多個花灑頭可配置為彼此對稱。

19、每個氣體中心可被供應任一種工藝氣體。

20、示范性實施例可從結合附圖的以下描述中更詳細地理解。

技術特征：

1.一種工藝氣體供應裝置，其特征在于，包括：

2.根據權利要求1所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述集成加熱部件包括：

3.根據權利要求2所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述導熱塊包括：

4.根據權利要求3所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述多個氣體管路中的每個包括水平線部分和垂直線部分，所述水平線部分從所述氣體中心向徑向方向延伸，所述垂直線部分向垂直于所述徑向方向的方向延伸，

5.根據權利要求4所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述第一管路安裝部件和所述第二管路安裝部件具有彼此不同的形狀。

6.根據權利要求3所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述氣體中心以多個形式提供，在垂直方向上堆疊，并且

7.根據權利要求6所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述多個氣體管路分別以相同數量連接到每個所述氣體中心，并且

8.根據權利要求6所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，多個氣體供應管路分別連接到所述多個氣體中心，所述工藝氣體通過所述多個氣體供應管路供應，并且

9.根據權利要求1所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述多個氣體管路圍繞所述氣體中心對稱布置，呈徑向延伸。

10.根據權利要求2所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述導熱塊包含鋁。

11.根據權利要求2所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述發熱元件包括筒式加熱器。

12.根據權利要求2所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，還包括溫度測量部件，其被配置為測量所述導熱塊的溫度。

13.根據權利要求2所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述集成加熱部件還包括絕緣部分，其被配置為環繞所述導熱塊。

14.根據權利要求13所述的工藝氣體供應裝置，其特征在于，所述絕緣部分包括玻璃纖維。

15.一種襯底處理系統，包括：

16.根據權利要求15所述的襯底處理系統，其特征在于，還包括多個子腔室，所述多個花灑頭和所述多個襯底支撐分別成對地設置在其中。

17.根據權利要求15所述的襯底處理系統，其特征在于，所述多個花灑頭被布置為彼此對稱。

18.根據權利要求15所述的襯底處理系統，其特征在于，每個所述氣體中心被供應任一種所述工藝氣體。

技術總結
本發明提供一種工藝氣體供應裝置，其能夠穩定控制工藝氣體的溫度以供應工藝氣體，以及包含裝置的襯底處理系統。工藝氣體供應裝置包括氣體中心，工藝氣體從氣體供應源供應到氣體中心，多個氣體管路從氣體中心分支以傳輸所供應的工藝氣體，以及集成加熱部件，其被提供以環繞多個氣體管路和氣體中心，從而同時加熱氣體中心和多個氣體管路。

技術研發人員：孫仁壽,申昌勛,樸燦用,金德桓,鄭在峻,柳時元,樸昶玟,金在善,金璂勛,金鍾勛,金庭賢,黃寅成
受保護的技術使用者：株式會社尤金科技
技術研發日：
技術公布日：2025/4/28