本申請涉及光伏自動化生產設備領域，具體地說是一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構。

背景技術：

1、cvd爐（英文全稱：chemical?vapor?deposition，中文：化學氣相沉積設備）是一種用于對硅片實施化學氣相沉積工藝的鍍膜設備。在進行鍍膜前，需要使用承托機構將硅片舟送入爐體，形成密封后再充入工藝氣體。

2、目前業內通常通過爐體入口的法蘭向爐體內部充氣，法蘭外圈設置有進氣孔，法蘭內部設置有氣路，法蘭的內圈表面均勻設置有多個出氣孔，由于法蘭是環狀，出氣孔呈環狀布置，通過法蘭上環狀布置的出氣孔對爐體內充氣后，經常出現工藝氣體在爐體邊緣濃、在爐體中心稀的現象，即充氣不均勻，不利于后續的工藝處理。

技術實現思路

1、本申請的目的在于解決現有的法蘭向爐體充氣不均勻的技術問題，本申請提供了一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其采用如下技術方案：

2、本申請的目的是通過以下技術方案來實現：

3、一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，硅片舟承托機構包括槳組件、爐蓋，其中：槳組件的第一端穿設于爐蓋；爐蓋內部設置有分配氣路，爐蓋還包括設置在周向側面或外側面的第一進氣孔，爐蓋朝向cvd爐體的內側面設置有均勻排布的多個第一出氣孔，分配氣路與多個第一出氣孔連通，供氣氣路與第一進氣孔對接，使得工藝氣體通過第一進氣孔進入分配氣路，并從多個第一出氣孔流向cvd爐體內部。

4、本申請的承托機構能夠在將硅片舟送入爐體之后與爐體形成密閉環境，隨后由供氣線路通過爐蓋的多個均勻布置的出氣孔向爐體內供氣。與傳統的法蘭供氣相比，本申請提供的承托機構由于實在爐蓋上均勻布置的出氣孔，因此能夠更加均勻地供氣，進而提高了工藝處理效果。

5、可選地，硅片舟承托機構還包括第一連接板，槳組件包括第一槳、第二槳，第一槳和第二槳互相平行以共同承托硅片舟，第一連接板用于固定連接第一槳和第二槳的第二端。

6、槳組件可以為一根單槳，也可以為一對槳，能夠根據實際情況進行靈活設置。設置雙槳及第一連接板，有效提高了雙槳承載硅片舟的穩定性。

7、可選地，爐蓋包括爐蓋本體和蓋板，爐蓋本體的內側面開設有氣路槽，蓋板被配置為與氣路槽密封對接后形成分配氣路，蓋板上均勻設置有多個第一出氣孔。

8、通過設置蓋板和氣路槽以配合形成分配氣路，不僅易于生產加工，還便于后期維護。

9、可選地，蓋板與氣路槽之間設置有密封膠條。

10、通過在蓋板與氣路槽之間設置密封膠條，進一步提高了蓋板與氣路槽之間的氣密性，防止工藝氣體從蓋板邊緣溢出。

11、可選地，cvd爐體的入口處設置有法蘭，法蘭周向外側面設置有第二進氣孔，法蘭內圈設置有第二出氣孔，法蘭內部設置有沿周向設置的環形氣路，環形氣路連通第二進氣孔和第二出氣孔，爐蓋還包括設置在周向側面的第一進氣孔，法蘭被配置為當爐蓋與cvd爐體對接時，供氣氣路通過法蘭的環形氣路向爐蓋的第一進氣孔供氣。

12、通過設置用于對接的法蘭，便于向已對接到爐體的爐蓋提供工藝氣體，同時，該項設置還可以針對現有設備進行改造升級，以較低的成本達到均勻供氣的技術效果。

13、可選地，硅片舟承托機構還包括第二連接板和至少一個彈性波紋管，槳組件的第一端穿設于第二連接板并與第二連接板固定連接，至少一個彈性波紋管套設在槳組件上，且至少一個彈性波紋管的第一端與第二連接板固定連接，至少一個彈性波紋管的第二端與爐蓋固定連接。

14、通過使用第二連接板和彈性波紋管安裝爐蓋，使得爐蓋能夠在一定范圍內挪動，進而在爐蓋對接爐體時避免了剛性碰撞造成損壞的情況。

15、可選地，硅片舟承托機構還包括位于所述第一槳、所述第二槳上的至少一個均流板，均流板均勻設置有多個第一通孔，第一槳和第二槳穿設于至少一個均流板，且至少一個均流板位于爐蓋的內側，至少一個均流板用于均勻從出氣孔離開的工藝氣體。

16、通過設置至少一個均流板，使得離開第一出氣孔的工藝氣體能夠被進一步均勻化處理，提高工藝氣體在爐體內的均勻性。

17、可選地，硅片舟承托機構包括至少兩個均流板，相鄰的兩個均流板的通孔錯位排布。

18、通過設置至少兩個錯位布置通孔的均流板，進一步提高了工藝氣體在爐體內的均勻性。

19、可選地，至少一個均流板的外徑與cvd爐體的內徑相同。

20、通過將均流板的外徑設置為基本與爐體內徑一致，使得工藝氣體無法從均流板的外邊緣與爐體內壁之間通過，保證了工藝氣體需經過均流板的均流處理才進入爐體。

21、可選地，硅片舟承托機構還包括直線模組、伺服電機以及安裝板，安裝板固定設置在直線模組的驅動端上，安裝板的朝上一面或朝向一面陣列設置有第一固定塊、第二固定塊、第三固定塊、第四固定塊，每個固定塊中心設置有第二通孔，第一槳的第一端依次伸入第一固定塊、第二固定塊的第二通孔中，第二槳的第一端依次伸入第三固定塊、第四固定塊的第二通孔中，伺服電機被配置為通過直線模組驅動安裝板移動，以帶動第一槳和第二槳伸入cvd爐體或從cvd爐體中抽出。

22、通過設置4個固定塊及直線模組、伺服電機，便于安裝雙槳，同時固定塊的結構簡單，易于維護。

23、可選地，硅片舟承托機構還包括轉動座和兩個吊桿，第一固定塊、第三固定塊分別通過轉動座可轉動地安裝在安裝板的朝下一面，第二固定塊、第四固定塊分別固定安裝在吊桿的下端，吊桿沿豎直方向穿過安裝板并高度可調地與安裝板固定連接。

24、將固定塊設置為通過轉動座或吊桿連接到安裝板，可以通過調節吊桿在安裝板上的位置來分別調節雙槳的水平位置。

技術特征：

1.一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述硅片舟承托機構包括槳組件、爐蓋，其中：所述槳組件用于承載硅片舟，所述槳組件的第一端穿設于所述爐蓋；所述爐蓋內部設置有分配氣路，所述爐蓋還包括設置在周向側面或外側面的第一進氣孔，所述爐蓋朝向cvd爐體的內側面設置有均勻排布的多個第一出氣孔，所述分配氣路與所述多個第一出氣孔連通，供氣氣路與所述第一進氣孔對接，使得工藝氣體通過所述第一進氣孔進入所述分配氣路，并從所述多個第一出氣孔流向cvd爐體內部。

2.如權利要求1所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述硅片舟承托機構還包括第一連接板，所述槳組件包括第一槳、第二槳，所述第一槳和所述第二槳互相平行以共同承托硅片舟，所述第一連接板用于固定連接所述第一槳和所述第二槳的第二端。

3.如權利要求1所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述爐蓋包括爐蓋本體和蓋板，所述爐蓋本體的內側面開設有氣路槽，所述蓋板被配置為與所述氣路槽密封對接后形成所述分配氣路，所述蓋板上均勻設置有多個所述第一出氣孔。

4.如權利要求3所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述蓋板與所述氣路槽之間設置有密封膠條。

5.如權利要求1所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，cvd爐體的入口處設置有法蘭，所述法蘭周向外側面設置有第二進氣孔，所述法蘭內圈設置有第二出氣孔，所述法蘭內部設置有沿周向設置的環形氣路，所述環形氣路連通所述第二進氣孔和所述第二出氣孔，所述爐蓋還包括設置在周向側面的第一進氣孔，所述法蘭被配置為當所述爐蓋與cvd爐體對接時，所述供氣氣路通過所述法蘭的環形氣路向所述爐蓋的所述第一進氣孔供氣。

6.如權利要求1所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述硅片舟承托機構還包括第二連接板和至少一個彈性波紋管，所述槳組件的第一端穿設于所述第二連接板并與所述第二連接板固定連接，所述至少一個彈性波紋管套設在所述槳組件上，且所述至少一個彈性波紋管的第一端與所述第二連接板固定連接，所述至少一個彈性波紋管的第二端與所述爐蓋固定連接。

7.如權利要求2所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述硅片舟承托機構還包括位于所述第一槳、所述第二槳上的至少一個均流板，所述均流板均勻設置有多個第一通孔，所述第一槳和所述第二槳穿設于所述至少一個均流板，且所述至少一個均流板位于所述爐蓋的內側，所述至少一個均流板用于均勻從所述第一出氣孔離開的工藝氣體。

8.如權利要求7所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述硅片舟承托機構包括至少兩個均流板，相鄰的兩個所述均流板的第一通孔錯位排布。

9.如權利要求7所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述至少一個均流板的外徑與cvd爐體的內徑相同。

10.如權利要求2所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述硅片舟承托機構還包括直線模組、伺服電機以及安裝板，所述安裝板固定設置在所述直線模組的驅動端上，所述安裝板的朝上一面或朝向一面陣列設置有第一固定塊、第二固定塊、第三固定塊、第四固定塊，每個固定塊中心設置有第二通孔，所述第一槳的第一端依次伸入所述第一固定塊、所述第二固定塊的第二通孔中，所述第二槳的第一端依次伸入所述第三固定塊、所述第四固定塊的第二通孔中，所述伺服電機被配置為通過所述直線模組驅動所述安裝板移動，以帶動所述第一槳和所述第二槳伸入cvd爐體或從cvd爐體中抽出。

11.如權利要求10所述的一種用于cvd爐體的硅片舟承托機構，其特征在于，所述硅片舟承托機構還包括兩個轉動座和兩個吊桿，所述第一固定塊、所述第三固定塊分別通過所述轉動座可轉動地安裝在所述安裝板的朝下一面，所述第二固定塊、所述第四固定塊分別固定安裝在所述吊桿的下端，所述吊桿沿豎直方向穿過所述安裝板并高度可調地與所述安裝板固定連接。

技術總結
本申請提供了一種用于CVD爐體的硅片舟承托機構，硅片舟承托機構包括槳組件、爐蓋，槳組件用于承托硅片舟且槳組件的第一端穿設于爐蓋，爐蓋內部設置有分配氣路，爐蓋還包括設置在周向側面或外側面的第一進氣孔，爐蓋朝向CVD爐體的內側面設置有多個第一出氣孔，分配氣路與多個第一出氣孔連通，供氣氣路與第一進氣孔對接，使得工藝氣體通過第一進氣孔進入分配氣路，并從出氣孔均勻地流向CVD爐體內部，提高工藝效果。

技術研發人員：請求不公布姓名,請求不公布姓名,請求不公布姓名
受保護的技術使用者：無錫普樂新能源有限公司
技術研發日：20240524
技術公布日：2025/4/28