[]本技術涉及一種靶筒冷卻均衡結構。

背景技術：

0、[背景技術]

1、現有的真空磁控濺射鍍膜設備在工作時，靶筒溫度很高，必須及時散熱，同時保證靶筒內磁鋼溫度不大于60℃時，磁鋼磁場強度會發生變化，此時真空濺射不穩定，影響鍍膜效果。因此在真空磁控濺射鍍膜設備工作過程中需要對靶筒和磁鋼進行冷卻處理，而現有的冷卻處理方式一般是通過向靶筒輸入冷卻水，通過冷卻水進行冷卻降溫，但現有結構中磁鋼一般設置在靶筒內并且靠近靶筒內壁的位置上，同時冷卻水在靶筒中流動時，靠近靶筒內壁的邊沿冷卻水流動速度慢，因此磁鋼的冷卻降溫效果差。

技術實現思路

0、[
技術實現要素：
]

1、本實用新型克服了現有技術的不足，提供了一種靶筒冷卻均衡結構。

2、為實現上述目的，本實用新型采用了下列技術方案：

3、一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：包括有靶筒，靶筒內設有沿長度方向設置且與靶筒連通用于向靶筒輸入冷卻水的芯軸，靶筒內設有沿長度方向設置連接在芯軸上的磁鋼，靶筒內位于芯軸外側套設有填充件，填充件上設有供磁鋼裝入的第一填充件凹槽，填充件外側側面與靶筒內側側面之間，以及磁鋼與靶筒內側側面之間分別設有供冷卻水流動的空隙。

4、如上所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：磁鋼包括有在靶筒內沿長度方向設置且與芯軸連接的磁軛，磁軛上設有多個磁鐵，磁軛設置在第一填充件凹槽內。

5、如上所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：磁鐵外側設有不銹鋼殼體。

6、如上所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：磁軛上側面上設有多個沿長度方向設置的磁軛定位槽，磁鐵分別安裝在磁軛定位槽內。

7、如上所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：磁軛為凸字形磁軛，磁軛定位槽分別設置在凸字形磁軛的頂部側面和兩側肩部側面上，第一填充件凹槽側面與安裝在兩側肩部側面的磁鐵之間，以及安裝在頂部側面的磁鐵與安裝在兩側肩部側面的磁鐵之間分別設有供冷卻水流動的空隙。

8、如上所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：凸字形磁軛的頂部側面的磁軛定位槽內設有兩個并排設置的磁鐵。

9、如上所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：設置在凸字形磁軛的頂部側面的磁鐵與設置在凸字形磁軛的肩部側面的磁鐵極性相反。

10、如上所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：芯軸與磁軛之間通過螺釘連接。

11、如上所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：填充件上設有供芯軸裝入的第二填充件凹槽以及供螺釘裝入的第三填充件凹槽。

12、如上所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：填充件為塑料填充物。

13、本實用新型的有益效果是：

14、本實用新型在芯軸外側套設填充件，使填充件外側側面與靶筒內側側面之間，以及磁鋼與靶筒內側側面之間分別形成供冷卻水流動的空隙，通過減少冷卻水的流動空間，從而加快冷卻水在磁鋼周圍的流動速度，實現對磁鋼的快速冷卻降溫作用，使磁鋼在工作過程中保持小于60℃的穩定工作狀態溫度，從而使真空磁控濺射鍍膜設備穩定工作。

技術特征：

1.一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：包括有靶筒(1)，靶筒(1)內設有沿長度方向設置且與靶筒(1)連通用于向靶筒(1)輸入冷卻水的芯軸(2)，靶筒(1)內設有沿長度方向設置連接在芯軸(2)上的磁鋼(3)，靶筒(1)內位于芯軸(2)外側套設有填充件(4)，填充件(4)上設有供磁鋼(3)裝入的第一填充件凹槽(41)，填充件(4)外側側面與靶筒(1)內側側面之間，以及磁鋼(3)與靶筒(1)內側側面之間分別設有供冷卻水流動的空隙(5)。

2.根據權利要求1所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：磁鋼(3)包括有在靶筒(1)內沿長度方向設置且與芯軸(2)連接的磁軛(31)，磁軛(31)上設有多個磁鐵(32)，磁軛(31)設置在第一填充件凹槽(41)內。

3.根據權利要求2所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：磁鐵(32)外側設有不銹鋼殼體(33)。

4.根據權利要求2所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：磁軛(31)上側面上設有多個沿長度方向設置的磁軛定位槽(34)，磁鐵(32)分別安裝在磁軛定位槽(34)內。

5.根據權利要求4所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：磁軛(31)為凸字形磁軛，磁軛定位槽(34)分別設置在凸字形磁軛的頂部側面和兩側肩部側面上，第一填充件凹槽(41)側面與安裝在兩側肩部側面的磁鐵(32)之間，以及安裝在頂部側面的磁鐵(32)與安裝在兩側肩部側面的磁鐵(32)之間分別設有供冷卻水流動的空隙(5)。

6.根據權利要求5所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：凸字形磁軛的頂部側面的磁軛定位槽(34)內設有兩個并排設置的磁鐵(32)。

7.根據權利要求5所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：設置在凸字形磁軛的頂部側面的磁鐵(32)與設置在凸字形磁軛的肩部側面的磁鐵(32)極性相反。

8.根據權利要求2所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：芯軸(2)與磁軛(31)之間通過螺釘(6)連接。

9.根據權利要求8所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：填充件(4)上設有供芯軸(2)裝入的第二填充件凹槽(42)以及供螺釘(6)裝入的第三填充件凹槽(43)。

10.根據權利要求1所述的一種靶筒冷卻均衡結構，其特征在于：填充件(4)為塑料填充物。

技術總結
本技術公開了一種靶筒冷卻均衡結構，包括有靶筒，靶筒內設有沿長度方向設置且與靶筒連通用于向靶筒輸入冷卻水的芯軸，靶筒內設有沿長度方向設置連接在芯軸上的磁鋼，靶筒內位于芯軸外側套設有填充件，填充件上設有供磁鋼裝入的第一填充件凹槽，填充件外側側面與靶筒內側側面之間，以及磁鋼與靶筒內側側面之間分別設有供冷卻水流動的空隙，通過減少冷卻水的流動空間，從而加快冷卻水在磁鋼周圍的流動速度，實現對磁鋼的快速冷卻降溫作用。

技術研發人員：朱世元,潘朝剛
受保護的技術使用者：金耀真空設備（中山）有限公司
技術研發日：20240715
技術公布日：2025/4/28