本發明涉及有機材料制玻璃修復,特別涉及一種有機材料制玻璃修復方法。
背景技術:
1、有機材料制玻璃是高分子化合物聚合而成,表面極易出現劃痕,導致表層分子鏈斷裂,增加修復難度。對有機材料制玻璃進行修復可以采用化學熏蒸法和普通研磨法進行修復,采用化學熏蒸法對于老化嚴重的區域,尤其是對于那些有較深裂痕,修復效果不理想,由于化學熏蒸法破壞了內部分子鏈,會加速有機材料制玻璃老化,出現快速發黃等問題。普通研磨法一般采用砂紙進行打磨,易造成處理后玻璃的透光性差等問題。
技術實現思路
1、本發明實施例提供了一種有機材料制玻璃修復方法,可以至少解決現有技術中存在的以上部分技術問題。
2、第一方面,本發明實施例提供了一種有機材料制玻璃修復方法,包括:
3、用清洗液進行清洗,以去除表面的污漬;
4、用第一研磨劑進行第一拋光處理,以去除殘留污漬及老化表層;
5、用不同目數的砂紙,按照目數由小到大的順序依次進行打磨;
6、用第二研磨劑進行第二拋光處理,以去除砂紙打磨形成的砂痕;
7、用第三研磨劑進行第三拋光處理,以去除眩光紋。
8、可選實施例中,所述第一拋光處理中,拋光機轉速1500-2000轉/分鐘,拋光盤采用短羊毛盤,拋光盤與玻璃表面保持15度夾角。
9、可選實施例中,所述第一研磨劑包括如下質量百分比的組分:
10、碳化硅9.70%-9.55%,氧化鋁11.20%-11.05%,氧化硅9.45%-9.30%、清潔劑1.70%-2.10%,除銹劑1.90%-2.10%,潤滑劑2.40%-2.55%,乳化劑1.90%-2.10%,增稠劑0.95%-1.10%,ph調節劑0.45%-0.55%,余量為去離子水。
11、可選實施例中,用不同目數的砂紙,按照目數由小到大的順序依次進行打磨,包括:
12、針對深劃痕,采用600目水砂紙,沿著劃痕紋路進行打磨;
13、采用1500目砂紙,全面覆蓋600目砂紙痕進行打磨;
14、采用2000目砂紙,全面覆蓋1500目砂紙痕進行打磨。
15、可選實施例中,采用1500目砂紙和2000目砂紙進行打磨時,沿橫向或豎向來回打磨。
16、可選實施例中,所述第二研磨劑包括如下質量百分比的組分:
17、研磨顆粒16%-22%,除銹劑1.00%-1.40%,潤滑劑1.25%-1.70%,乳化劑1.00%-1.40%,增稠劑0.50%-0.70%,ph調節劑0.25%-0.35%,余量為去離子水,所述研磨顆粒包括碳化硅和氧化鋁。
18、可選實施例中,所述研磨顆粒在所述第二研磨劑中的質量百分比如下,碳化硅8.75%-9.50%,氧化鋁10.50%-11.25%。
19、可選實施例中,所述第二拋光處理中,采用偏心拋光機,拋光盤采用長羊毛盤,拋光過程中,施加的壓力使長羊毛盤的厚度減少1/3,采用井字形拋光軌跡,橫豎交替拋光。
20、可選實施例中,所述第三研磨劑包括如下質量百分比的組分:
21、碳化硅9.70%-10.30%,氧化鋁11.50%-12.00%,氧化硅9.50%-10.50%,除銹劑1.90%-2.10%,潤滑劑2.40%-2.55%,乳化劑1.90%-2.10%,增稠劑0.95%-1.10%,ph調節劑0.45%-0.55%,余量為去離子水。
22、可選實施例中,所述第三拋光處理中,采用8字形拋光軌跡,拋光過程中,玻璃表面溫度控制在60℃以下。
23、本發明中的一個實施例具有如下優點或有益效果:
24、本發明實施例的有機材料制玻璃修復方法中,用清洗液進行清洗,以去除表面的污漬;用第一研磨劑進行第一拋光處理,以去除殘留污漬及老化表層;用不同目數的砂紙,按照目數由小到大的順序依次進行打磨;用第二研磨劑進行第二拋光處理,以去除砂紙打磨形成的砂痕;用第三研磨劑進行第三拋光處理,以去除眩光紋。本發明實施例的方法采用拋光和打磨相結合的方式對有機材料制玻璃修復,并且采用不同的研磨劑對有機材料制玻璃進行多次拋光處理,對有機材料制玻璃表面的劃痕、老化等損傷進行修復,并且提高修復后的透光率。
1.一種有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,包括:
2.根據權利要求1所述的有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,所述第一拋光處理中,拋光機轉速1500-2000轉/分鐘,拋光盤采用短羊毛盤,拋光盤與玻璃表面保持15度夾角。
3.根據權利要求1所述的有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,所述第一研磨劑包括如下質量百分比的組分:
4.根據權利要求1所述的有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,用不同目數的砂紙,按照目數由小到大的順序依次進行打磨,包括:
5.根據權利要求4所述的有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,采用1500目砂紙和2000目砂紙進行打磨時,沿橫向或豎向來回打磨。
6.根據權利要求1所述的有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,所述第二研磨劑包括如下質量百分比的組分:
7.根據權利要求6所述的有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,所述研磨顆粒在所述第二研磨劑中的質量百分比如下,碳化硅8.75%-9.50%,氧化鋁10.50%-11.25%;所述碳化硅和所述氧化鋁的粒徑分別為3.5-5um。
8.根據權利要求1所述的有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,所述第二拋光處理中,采用偏心拋光機,拋光盤采用長羊毛盤,拋光過程中,施加的壓力使長羊毛盤的厚度減少1/3,采用井字形拋光軌跡,橫豎交替拋光。
9.根據權利要求1所述的有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,所述第三研磨劑包括如下質量百分比的組分:
10.根據權利要求1所述的有機材料制玻璃修復方法,其特征在于,所述第三拋光處理中,采用8字形拋光軌跡,拋光過程中,玻璃表面溫度控制在60℃以下。