一種氣體氮化爐的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型的一種氣體氮化爐，屬于氮化爐技術領域。
【背景技術】
[0002]目前，氮化爐可用于零件的滲氮處理或氮碳共滲處理或氰化處理等工作，目的是使工件獲得高硬度，高耐磨性，高疲勞極限和良好的減磨性能。氮化爐工作過程為將工件置于爐內，關閉爐蓋，通冷卻水進爐蓋循環水冷，用氮氣等保護氣進行爐內排氣并升溫，通入氨氣、乙醇等氮化原料。在氮化溫度中保持3?90小時，利用NH3分解提供氮原子或同時利用含碳物質提供碳元素而進行滲氮或氮碳共滲處理，可以使工件表面獲得強化層，得到高硬度，高耐磨性和抗疲勞性能等，但是傳統的氮化爐在零件氮化過程中，特別是大批量密集零件，零件氮化不均勻和氨氣未充分利用，如壓縮機滑片的大批量氣體軟氮化，氨氣進入到爐罐內停留的時間短，而且密集擺放零件干擾氣流的流動，氨氣在爐罐內不能均勻的流動分布，以至于零件氮化情況差，很多放置在內多層密集小零件氮化不均勻，影響零件的質量，所以針對爐內密集零件的大批量氮化，現有氣體氮化爐結構還是不夠完善。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的發明目的是:提供一種結構簡單、安全可靠、可保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，氣體原料消耗量低，單次裝爐量大氮化效率高，氮化用時少的一種氣體氮化爐，以克服現有技術的不足。
[0004]本實用新型是這樣實現的:一種氣體氮化爐，包括爐殼，爐殼底部設置的支架，在爐殼內設置有爐襯，在爐襯上設置有加熱器，在爐殼的中部設置有爐罐，在爐罐上設置有爐蓋，在爐蓋上設置有電機和排氣口，所述爐罐內設置有導流罩桶，在導流罩桶頂部設置有導流罩蓋，在導流罩蓋上設置有葉片輪，所述導流罩蓋上設置有通孔，葉片輪與電機相連接，所述導流罩桶上設置有氣盤管，氣盤管與氣盤相連接，在氣盤上設置有氣孔;所述導流罩桶內壁上設置有導流機構，所述爐罐底部設置有罩桶底架。
[0005]所述爐蓋與升降架相連接，升降架與蝸輪蝸桿升降機構相連接。
[0006]所述氣盤上設置有20?50個氣孔，所述氣孔的孔口中心線與氣盤之間的夾角為25?45° ο
[0007]所述葉片輪上設置有8?20個葉片。
[0008]所述罩桶底架上設置有4?8個分流片，在分流片上頂部設置有分流盤。
[0009]所述爐罐與爐蓋之間設置有耐溫密封墊。
[0010]所述導流罩蓋為“凹”字形。
[0011]所述導流機構為擾流板或者擾流棱，所述導流機構設置在導流罩桶內壁上并且環繞導流罩桶內壁一周，所述導流罩桶內壁上設置有4?8圈導流機構。
[0012]由于采用了上述技術方案，本實用新型工作時，在旋轉葉片的旋轉運動作用下，導流罩桶外壁與爐罐內壁之間形成旋轉氣流，利用旋轉葉片產生離心力的作用，導流罩桶內氣壓小于導流罩桶外壁與爐罐內壁之間的氣壓，使氣流旋轉從底部進入導流罩桶，通過在導流罩桶內壁上設置導風棱來改變導流罩桶內氣體的方向，使導流罩桶內部氣流形成朝向中心并向上方出口運動的旋轉氣流，進入葉片中心的氣流又經葉片甩出，一部分通過排氣口排出，一部分和新噴入氣體一起重復對導流罩桶內的零件進行氮化，保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，具有氣體原料消耗量低，單次裝爐量大氮化效率高，氮化用時少等優點。
【附圖說明】
[0013]圖1為本實用新型裝置的結構示意圖；
[0014]圖2為導流罩桶的結構示意圖；
[0015]圖3為氣盤的結構不意圖；
[0016]圖4為導流罩桶的內部結構示意圖；
[0017]附圖標記說明:1_爐殼，2_支架，3_爐蓋，4_爐襯，5_加熱器，6_爐觸，7_導流罩桶，8-導流罩蓋，9-葉片輪，10-電機，11-氣盤管，12-氣盤，13-氣孔，14-升降架，15-排氣口，16-耐溫密封墊，17-導流機構，18-蝸輪蝸桿升降機構，19-罩桶底架，20-料框架，21-分流片，22-分流盤，23-通孔。
【具體實施方式】
[0018]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的詳細說明，但不作為對本實用新型的限制。
[0019]本實用新型的實施例:一種氣體氮化爐，包括爐殼I，爐殼底部設置的支架2，在爐殼I內設置有爐襯4，在爐襯4上設置有加熱器5，在爐殼I的中部設置有爐罐6，在爐罐6上設置有爐蓋3，在爐蓋3上設置有電機10和排氣口 15，所述爐罐6內設置有導流罩桶7，在導流罩桶7頂部設置有導流罩蓋8，在導流罩蓋8上設置有葉片輪9，所述導流罩蓋8上設置有通孔23，葉片輪9與電機10相連接，所述導流罩桶7上設置有氣盤管11，氣盤管11與氣盤12相連接，在氣盤12上設置有氣孔13;所述導流罩桶7內壁上設置有導流機構17，所述爐罐6底部設置有罩桶底架19。
[0020]所述爐蓋3與升降架14相連接，升降架14與蝸輪蝸桿升降機構18相連接。
[0021]所述氣盤12上設置有20?50個氣孔13，所述氣孔13的孔口中心線與氣盤12之間的夾角為25?45°。
[0022]所述葉片輪9上設置有8?20個葉片。
[0023]所述罩桶底架19上設置有4?8個分流片21，在分流片21上頂部設置有分流盤22。
[0024]所述爐罐6與爐蓋3之間設置有耐溫密封墊16。
[0025]所述導流罩蓋8為“凹”字形，葉片輪9上葉片就在導流罩蓋8的凹面處旋轉，通過葉片輪上旋轉的葉片可以使得氮化氣體產生一個離心力，一部分氮化氣體排出爐外，另一部分氮化氣體又回到導流罩桶的底部。
[0026]所述導流機構17為擾流板或者擾流棱，所述導流機構17設置在導流罩桶7內壁上并且環繞導流罩桶7內壁一周，所述導流罩桶7內壁上設置有4?8圈導流機構17。
[0027]本實用新型蝸輪蝸桿升降機構18為現有的種基礎起重部件，具有起升、下降及借助輔件推進、翻轉及各種高度位置調整等諸多功能，可采用SWL蝸輪絲桿升降機。
[0028]本實用新型的氣體氮化爐，在導流罩桶7內可以擺放料框架20，料框架20上安裝有多層密集不銹鋼薄片零件，工作時，往氣盤管11內通入氨氣，氨氣進入到氣盤管11后從氣孔13噴出，而噴出的氨氣進入到導流罩桶7內，由于氣孔13的孔口中心線與氣盤12中心線之間的夾角為25°C?45°C，這樣進入到導流罩桶7內的氨氣遇到導流機構17后，改變方便，朝著導流罩桶7內的中心零件流動，使導流罩桶內部氣流形成朝向中心并向上方出口運動的旋轉氣流，可以保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，而且當氨氣從導流罩蓋上設置有通孔上升到葉片輪處時，葉片輪9上旋轉的葉片可以使得氨氣產生一個離心力，一部分氨氣從排氣口 15排除爐外，另一部分又回到導流罩桶7的底部并同新噴入氣流混合，再次進入到導流罩桶7內，對導流罩桶7內的零件進行氮化。
[0029]由于所述導流罩蓋8和葉片輪9相接觸的部位為“凹”字形，導流罩蓋8和葉片輪9結合的密封性更好，使導流罩桶7內的氣體通過通孔23時不易從葉片和導流罩蓋8邊緣漏出，增加離心力。
【主權項】
1.一種氣體氮化爐，包括爐殼(I)，爐殼底部設置的支架(2)，其特征在于:在爐殼(I)內設置有爐襯(4)，在爐襯(4)上設置有加熱器(5)，在爐殼(I)的中部設置有爐罐(6)，在爐罐(6)上設置有爐蓋(3)，在爐蓋(3)上設置有電機(10)和排氣口(15)，所述爐罐(6)內設置有導流罩桶(7)，在導流罩桶(7)頂部設置有導流罩蓋(8)，在導流罩蓋(8)上設置有葉片輪(9)，所述導流罩蓋(8)上設置有通孔(23)，葉片輪(9)與電機(10)相連接，所述導流罩桶(7)上設置有氣盤管(11)，氣盤管(11)與氣盤(12)相連接，在氣盤(12)上設置有氣孔(13);所述導流罩桶(7)內壁上設置有導流機構(17)，所述爐罐(6)底部設置有罩桶底架(19)。2.根據權利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述爐蓋(3)與升降架(14)相連接，升降架(14)與蝸輪蝸桿升降機構(18)相連接。3.根據權利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述氣盤(12)上設置有20?50個氣孔(13)，所述氣孔(13)的孔口中心線與氣盤(12)之間的夾角為25?45°。4.根據權利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述葉片輪(9)上設置有8?20個葉片。5.根據權利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述罩桶底架(19)上設置有4?8個分流片(21)，在分流片(21)上頂部設置有分流盤(22)。6.根據權利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述爐罐(6)與爐蓋(3)之間設置有耐溫密封墊(16 )。7.根據權利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述導流罩蓋(8)為“凹”字形。8.根據權利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述導流機構(17)為擾流板或者擾流棱，所述導流機構(17)設置在導流罩桶(7)內壁上并且環繞導流罩桶(7)內壁一周，所述導流罩桶(7)內壁上設置有4?8圈導流機構(17)。
【專利摘要】本實用新型公開了一種氣體氮化爐，所述爐罐內設置有導流罩桶，在導流罩桶頂部設置有導流罩蓋，在導流罩蓋上設置有葉片輪，所述導流罩蓋上設置有通孔，葉片輪與電機相連接，所述導流罩桶上設置有氣盤管，氣盤管與氣盤相連接，在氣盤上設置有氣孔；所述導流罩桶內壁上設置有導流機構，所述爐罐底部設置有罩桶底架，本實用新型可以保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，具有氣體原料消耗量低，單次裝爐量大氮化效率高，氮化用時少等優點。
【IPC分類】C23C8/26
【公開號】CN205241775
【申請號】CN201521022392
【發明人】王國志, 凌志鴻, 藍華, 唐登煒, 彭德銀
【申請人】貴州西南工具(集團)有限公司
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2015年12月10日