一種氣體氮化爐的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明的一種氣體氮化爐，屬于氮化爐技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，氮化爐可用于零件的滲氮處理或氮碳共滲處理或氰化處理等工作，目的是使工件獲得高硬度，高耐磨性，高疲勞極限和良好的減磨性能。氮化爐工作過程為將工件置于爐內(nèi)，關(guān)閉爐蓋，通冷卻水進爐蓋循環(huán)水冷，用氮氣等保護氣進行爐內(nèi)排氣并升溫，通入氨氣、乙醇等氮化原料。在氮化溫度中保持3?90小時，利用NH3分解提供氮原子或同時利用含碳物質(zhì)提供碳元素而進行滲氮或氮碳共滲處理，可以使工件表面獲得強化層，得到高硬度，高耐磨性和抗疲勞性能等，但是傳統(tǒng)的氮化爐在零件氮化過程中，特別是大批量密集零件零件氮化不均勻和氨氣未充分利用，如壓縮機滑片的大批量氣體軟氮化，氨氣進入到爐罐內(nèi)停留的時間短，而且密集擺放零件干擾氣流的流動，氨氣在爐罐內(nèi)不能均勻的流動分布，以至于零件氮化情況差，很多放置在內(nèi)多層密集小零件氮化不均勻，影響零件的質(zhì)量，所以針對爐內(nèi)密集零件的大批量氮化，現(xiàn)有氣體氮化爐結(jié)構(gòu)還是不夠完善。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的發(fā)明目的是:提供一種結(jié)構(gòu)簡單、安全可靠、可保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，氣體原料消耗量低，單次裝爐量大氮化效率高，氮化用時少的一種氣體氮化爐，以克服現(xiàn)有技術(shù)的不足。
[0004]本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的:一種氣體氮化爐，包括爐殼，爐殼底部設(shè)置的支架，在爐殼內(nèi)設(shè)置有爐襯，在爐襯上設(shè)置有加熱器，在爐殼的中部設(shè)置有爐罐，在爐罐上設(shè)置有爐蓋，在爐蓋上設(shè)置有電機和排氣口，所述爐罐內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流罩桶，在導(dǎo)流罩桶頂部設(shè)置有導(dǎo)流罩蓋，在導(dǎo)流罩蓋上設(shè)置有葉片輪，所述導(dǎo)流罩蓋上設(shè)置有通孔，葉片輪與電機相連接，所述導(dǎo)流罩桶上設(shè)置有氣盤管，氣盤管與氣盤相連接，在氣盤上設(shè)置有氣孔；所述導(dǎo)流罩桶內(nèi)壁上設(shè)置有導(dǎo)流機構(gòu)，所述爐罐底部設(shè)置有罩桶底架。
[0005]所述爐蓋與升降架相連接，升降架與蝸輪蝸桿升降機構(gòu)相連接。
[0006]所述氣盤上設(shè)置有20?50個氣孔，所述氣孔的孔口中心線與氣盤之間的夾角為25 ?45°。
[0007]所述葉片輪上設(shè)置有8?20個葉片。
[0008]所述罩桶底架上設(shè)置有4?8個分流片，在分流片上頂部設(shè)置有分流盤。
[0009]所述爐罐與爐蓋之間設(shè)置有耐溫密封墊。
[0010]所述導(dǎo)流罩蓋為“凹”字形。
[0011]所述導(dǎo)流機構(gòu)為擾流板或者擾流棱，所述導(dǎo)流機構(gòu)設(shè)置在導(dǎo)流罩桶內(nèi)壁上并且環(huán)繞導(dǎo)流罩桶內(nèi)壁一周，所述導(dǎo)流罩桶內(nèi)壁上設(shè)置有4?8圈導(dǎo)流機構(gòu)。
[0012]由于采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明工作時，在旋轉(zhuǎn)葉片的旋轉(zhuǎn)運動作用下，導(dǎo)流罩桶外壁與爐罐內(nèi)壁之間形成旋轉(zhuǎn)氣流，利用旋轉(zhuǎn)葉片產(chǎn)生離心力的作用，導(dǎo)流罩桶內(nèi)氣壓小于導(dǎo)流罩桶外壁與爐罐內(nèi)壁之間的氣壓，使氣流旋轉(zhuǎn)從底部進入導(dǎo)流罩桶，通過在導(dǎo)流罩桶內(nèi)壁上設(shè)置導(dǎo)風棱來改變導(dǎo)流罩桶內(nèi)氣體的方向，使導(dǎo)流罩桶內(nèi)部氣流形成朝向中心并向上方出口運動的旋轉(zhuǎn)氣流，進入葉片中心的氣流又經(jīng)葉片甩出，一部分通過排氣口排出，一部分和新噴入氣體一起重復(fù)對導(dǎo)流罩桶內(nèi)的零件進行氮化，保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，具有氣體原料消耗量低，單次裝爐量大氮化效率高，氮化用時少等優(yōu)點。
【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為導(dǎo)流罩桶的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3為氣盤的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4為導(dǎo)流罩桶的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；
附圖標記說明:1_爐殼，支架，3_爐蓋，4_爐襯，5_加熱器，6_爐Si，7_導(dǎo)流罩桶，8-導(dǎo)流罩蓋，9-葉片輪，10-電機，11-氣盤管，12-氣盤，13-氣孔，14-升降架，15-排氣口，16-耐溫密封墊，17-導(dǎo)流機構(gòu)，18-蝸輪蝸桿升降機構(gòu)，19-罩桶底架，20-料框架，21-分流片，22-分流盤，23-通孔。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步的詳細說明，但不作為對本發(fā)明的限制。
[0015]本發(fā)明的實施例:一種氣體氮化爐，包括爐殼1，爐殼底部設(shè)置的支架2，在爐殼1內(nèi)設(shè)置有爐襯4，在爐襯4上設(shè)置有加熱器5，在爐殼1的中部設(shè)置有爐罐6，在爐罐6上設(shè)置有爐蓋3，在爐蓋3上設(shè)置有電機10和排氣口 15，所述爐罐6內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流罩桶7，在導(dǎo)流罩桶7頂部設(shè)置有導(dǎo)流罩蓋8，在導(dǎo)流罩蓋8上設(shè)置有葉片輪9，所述導(dǎo)流罩蓋8上設(shè)置有通孔23，葉片輪9與電機10相連接，所述導(dǎo)流罩桶7上設(shè)置有氣盤管11，氣盤管11與氣盤12相連接，在氣盤12上設(shè)置有氣孔13 ;所述導(dǎo)流罩桶7內(nèi)壁上設(shè)置有導(dǎo)流機構(gòu)17，所述爐罐6底部設(shè)置有罩桶底架19。
[0016]所述爐蓋3與升降架14相連接，升降架14與蝸輪蝸桿升降機構(gòu)18相連接。
[0017]所述氣盤12上設(shè)置有20?50個氣孔13，所述氣孔13的孔口中心線與氣盤12之間的夾角為25?45°。
[0018]所述葉片輪9上設(shè)置有8?20個葉片。
[0019]所述罩桶底架19上設(shè)置有4?8個分流片21，在分流片21上頂部設(shè)置有分流盤22。
[0020]所述爐罐6與爐蓋3之間設(shè)置有耐溫密封墊16。
[0021]所述導(dǎo)流罩蓋8為“凹”字形，葉片輪9上葉片就在導(dǎo)流罩蓋8的凹面處旋轉(zhuǎn)，通過葉片輪上旋轉(zhuǎn)的葉片可以使得氮化氣體產(chǎn)生一個離心力，一部分氮化氣體排出爐外，另一部分氮化氣體又回到導(dǎo)流罩桶的底部。
[0022]所述導(dǎo)流機構(gòu)17為擾流板或者擾流棱，所述導(dǎo)流機構(gòu)17設(shè)置在導(dǎo)流罩桶7內(nèi)壁上并且環(huán)繞導(dǎo)流罩桶7內(nèi)壁一周，所述導(dǎo)流罩桶7內(nèi)壁上設(shè)置有4?8圈導(dǎo)流機構(gòu)17。
[0023]本發(fā)明蝸輪蝸桿升降機構(gòu)18為現(xiàn)有的種基礎(chǔ)起重部件，具有起升、下降及借助輔件推進、翻轉(zhuǎn)及各種高度位置調(diào)整等諸多功能，可采用SWL蝸輪絲桿升降機。
[0024]本發(fā)明的氣體氮化爐，在導(dǎo)流罩桶7內(nèi)可以擺放料框架20，料框架20上安裝有多層密集不銹鋼薄片零件，工作時，往氣盤管11內(nèi)通入氨氣，氨氣進入到氣盤管11后從氣孔13噴出，而噴出的氨氣進入到導(dǎo)流罩桶7內(nèi)，由于氣孔13的孔口中心線與氣盤12中心線之間的夾角為25°C?45°C，這樣進入到導(dǎo)流罩桶7內(nèi)的氨氣遇到導(dǎo)流機構(gòu)17后，改變方便，朝著導(dǎo)流罩桶7內(nèi)的中心零件流動，使導(dǎo)流罩桶內(nèi)部氣流形成朝向中心并向上方出口運動的旋轉(zhuǎn)氣流，可以保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，而且當氨氣從導(dǎo)流罩蓋上設(shè)置有通孔上升到葉片輪處時，葉片輪9上旋轉(zhuǎn)的葉片可以使得氨氣產(chǎn)生一個離心力，一部分氨氣從排氣口 15排除爐外，另一部分又回到導(dǎo)流罩桶7的底部并同新噴入氣流混合，再次進入到導(dǎo)流罩桶7內(nèi)，對導(dǎo)流罩桶7內(nèi)的零件進行氮化。
[0025]由于所述導(dǎo)流罩蓋8和葉片輪9相接觸的部位為“凹”字形，導(dǎo)流罩蓋8和葉片輪9結(jié)合的密封性更好，使導(dǎo)流罩桶7內(nèi)的氣體通過通孔23時不易從葉片和導(dǎo)流罩蓋8邊緣漏出，增加離心力。
【主權(quán)項】
1.一種氣體氮化爐，包括爐殼(1)，爐殼底部設(shè)置的支架(2)，其特征在于:在爐殼(1)內(nèi)設(shè)置有爐襯(4)，在爐襯(4)上設(shè)置有加熱器(5)，在爐殼(1)的中部設(shè)置有爐罐(6)，在爐罐(6 )上設(shè)置有爐蓋(3 )，在爐蓋(3 )上設(shè)置有電機(10 )和排氣口(15)，所述爐罐(6 )內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流罩桶(7)，在導(dǎo)流罩桶(7)頂部設(shè)置有導(dǎo)流罩蓋(8)，在導(dǎo)流罩蓋(8)上設(shè)置有葉片輪(9)，所述導(dǎo)流罩蓋(8)上設(shè)置有通孔(23)，葉片輪(9)與電機(10)相連接，所述導(dǎo)流罩桶(7)上設(shè)置有氣盤管(11)，氣盤管(11)與氣盤(12)相連接，在氣盤(12)上設(shè)置有氣孔(13);所述導(dǎo)流罩桶(7 )內(nèi)壁上設(shè)置有導(dǎo)流機構(gòu)(17)，所述爐罐(6 )底部設(shè)置有罩桶底架(19 )。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述爐蓋(3)與升降架(14)相連接，升降架(14)與蝸輪蝸桿升降機構(gòu)(18)相連接。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述氣盤(12)上設(shè)置有20?50個氣孔(13)，所述氣孔(13)的孔口中心線與氣盤(12)之間的夾角為25?45。。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述葉片輪(9)上設(shè)置有8?20個葉片。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述罩桶底架(19)上設(shè)置有4?8個分流片(21)，在分流片(21)上頂部設(shè)置有分流盤(22 )。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述爐罐(6)與爐蓋(3)之間設(shè)置有耐溫密封墊(16)。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述導(dǎo)流罩蓋(8)為“凹”字形。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體氮化爐，其特征在于:所述導(dǎo)流機構(gòu)(17)為擾流板或者擾流棱，所述導(dǎo)流機構(gòu)(17 )設(shè)置在導(dǎo)流罩桶(7 )內(nèi)壁上并且環(huán)繞導(dǎo)流罩桶(7 )內(nèi)壁一周，所述導(dǎo)流罩桶(7)內(nèi)壁上設(shè)置有4?8圈導(dǎo)流機構(gòu)(17)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種氣體氮化爐，所述爐罐內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流罩桶，在導(dǎo)流罩桶頂部設(shè)置有導(dǎo)流罩蓋，在導(dǎo)流罩蓋上設(shè)置有葉片輪，所述導(dǎo)流罩蓋上設(shè)置有通孔，葉片輪與電機相連接，所述導(dǎo)流罩桶上設(shè)置有氣盤管，氣盤管與氣盤相連接，在氣盤上設(shè)置有氣孔；所述導(dǎo)流罩桶內(nèi)壁上設(shè)置有導(dǎo)流機構(gòu)，所述爐罐底部設(shè)置有罩桶底架，本發(fā)明可以保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，具有氣體原料消耗量低，單次裝爐量大氮化效率高，氮化用時少等優(yōu)點。
【IPC分類】C23C8/26
【公開號】CN105349939
【申請?zhí)枴緾N201510910575
【發(fā)明人】王國志, 凌志鴻, 藍華, 唐登煒, 彭德銀
【申請人】貴州西南工具(集團)有限公司
【公開日】2016年2月24日
【申請日】2015年12月10日