一種氣體氮化爐氣流導流循環方法及裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明的一種氣體氮化爐氣流導流循環方法及裝置，屬于氮化爐技術領域。
【背景技術】
[0002]目前，氮化爐工作過程為將工件置于爐內，利NH3氣直接輸進氮化爐內，在氮化溫度中保持3?50小時，使NH3氣分解為原子狀態的(N)氣與(H)氣而進行滲氮處理，可以使滲氮工件表面獲得含氮強化層，得到高硬度，高耐磨性，高疲勞極限和良好的耐磨性，但是傳統的氮化爐在零件氮化過程中，特別是大批量密集零件零件氮化不均勻和氨氣未充分利用，如壓縮機滑片的大批量氣體軟氮化，氨氣進入到爐罐內停留的時間短，而且密集擺放零件干擾氣流的流動，氨氣在爐罐內不能均勻的流動分布，以至于零件氮化情況差，很多放置在內多層密集小零件氮化不均勻，影響零件的質量，所以針對爐內密集零件的大批量氮化，現有氣體氮化爐爐內結構還是不夠完善。

【發明內容】

[0003]本發明的發明目的是:提供一種結構簡單、安全可靠、可保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，氣體原料消耗量低，單次裝爐量大氮化效率高，氮化用時少的一種氣體氮化爐氣流導流循環方法及裝置，以克服現有技術的不足。
[0004]本發明是這樣實現的:一種氣體氮化爐氣流導流循環裝置，包括爐罐，爐罐頂部設置的爐蓋以及爐蓋上設置的電機，在爐罐底部設置有罩桶底部氣體分流架，在罩桶底部氣體分流架上設置有導流罩桶，在導流罩桶上設置有導流罩蓋，在導流罩蓋上設置有葉片輪，所述葉片輪與電機相連接；在導流罩桶內壁上設置有導流機構；在導流罩桶上設置有氣盤管，氣盤管與氣盤相連接，在氣盤上設置有氣孔，所述氣盤設置在導流罩桶的底部。
[0005]所述罩桶底部氣體分流架包括罩桶底座，在罩桶底座上設置有4?8個分流片，在分流片上頂部設置有分流盤。
[0006]所述導流機構為擾流板或者擾流棱，所述導流機構設置在導流罩桶內壁上并且環繞導流罩桶內壁一周，所述導流罩桶內壁上設置有4?8圈導流機構。
[0007]所述導流機構與導流罩桶內壁之間的夾角為70?120°。
[0008]所述葉片輪上設置有8?20個葉片。
[0009]所述導流罩蓋為“凹”字形。
[0010]所述氣盤上設置有20?50個氣孔，所述氣孔的孔口中心線與氣盤中心線之間的夾角為25?45°。
[0011]所述導流罩蓋上設置有風口。
[0012]—種氣體氮化爐氣流導流循環裝置的導流循環方法，首先將需要氮化的零件通過零件架放入到導流罩桶內，啟動電機帶動葉片旋轉，然后往氣盤管內通入氮化氣體，氮化氣體從氣盤上的氣孔噴出后進入到導流罩桶內，在旋轉葉片的作用下，導流罩桶外壁與爐罐內壁環形空間之間形成旋轉氣流，由于旋轉葉片產生離心力的作用，導流罩桶內外產生壓差，即導流罩桶外氣壓大于導流罩桶內氣壓，使旋轉氣流從底部進入導流罩桶，在導流罩桶內設置的導流機構作用下，氣體順著導流機構朝向導流罩桶中心零件流動，使導流罩桶內部氣流形成朝向中心并向上方風口運動的旋轉氣流，對零件進行全方位的氮化處理，當氮化氣體從風口流經到葉片輪中心處時，通過葉片輪上旋轉的葉片可以使得氮化氣體產生一個離心力，一部分氮化氣體排出爐外，另一部分氮化氣體又回到導流罩桶的底部，并和新噴入爐內的氮化氣體一起通過罩桶底部氣體分流架上設置的分流片以及分流盤，將氮化氣體導向到導流罩桶內的導流機構上，再一次重復作用于導流罩桶內的零件，保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻。
[0013]由于采用了上述技術方案，本發明工作時，在旋轉葉片的旋轉運動作用下，導流罩桶外壁與爐罐內壁之間形成旋轉氣流，利用旋轉葉片產生離心力的作用，導流罩桶內氣壓小于導流罩桶外壁與爐罐內壁之間的氣壓，使氣流旋轉從底部進入導流罩桶，通過在導流罩桶內壁上設置導流機構來改變導流罩桶內氣體的方向，使導流罩桶內部氣流形成朝向中心并向上方出口運動的旋轉氣流，進入葉片中心的氣流又經葉片甩出，一部分通過排氣口排出，一部分和新噴入氣體一起重復對導流罩桶內的零件進行氮化，保證多層密集不銹鋼薄片零件的氮化滲層均勻，具有氣體原料消耗量低，單次裝爐量大氮化效率高，氮化用時少等優點。
【附圖說明】
[0014]圖1為本發明的結構示意圖；
圖2為導流罩桶的結構示意圖；
圖3為氣盤的結構示意圖；
附圖標記說明:1_爐罐，2-爐蓋，3-罩桶底部氣體分流架，4-導流罩桶，5-導流罩蓋，6-電機，9-葉片輪，10-導流機構，11-氣盤管，12-氣盤，13-氣孔，14-罩桶底座，15-分流片，16-分流盤，17-風口，18-料架。
【具體實施方式】
[0015]下面結合附圖和實施例對本發明作進一步的詳細說明，但不作為對本發明的限制。
[0016]本發明的實施例:一種氣體氮化爐氣流導流循環裝置，包括爐罐1，爐罐1頂部設置的爐蓋2以及爐蓋上設置的電機6，在爐罐1底部設置有罩桶底部氣體分流架3，在罩桶底部氣體分流架3上設置有導流罩桶4，在導流罩桶4上設置有導流罩蓋5，在導流罩蓋5上設置有葉片輪9，所述葉片輪9與電機6相連接；在導流罩桶4內壁上設置有導流機構10 ;在導流罩桶4上設置有氣盤管11，氣盤管11與氣盤12相連接，在氣盤12上設置有氣孔13，所述氣盤12設置在導流罩桶4的底部。
[0017]所述罩桶底部氣體分流架3包括罩桶底座14，在罩桶底座14上設置有4?8個分流片15，在分流片15上頂部設置有分流盤16。
[0018]所述導流機構10為擾流板或者擾流棱，所述導流機構10設置在導流罩桶4內壁上并且環繞導流罩桶4內壁一周，所述導流罩桶4內壁上設置有4?8圈導流機構10。
[0019]所述導流機構10與導流罩桶4內壁之間的夾角為70?120°。
[0020]所述葉片輪9上設置有8?20個葉片。
[0021]所述氣盤12上設置有20?50個氣孔13，所述氣孔13的孔口中心線與氣盤12中心線之間的夾角為25?45°。
[0022]所述導流罩蓋5上設置有風口 17。
[0023]—種氣體氮化爐氣流導流循環裝置的導流循環方法，首先將需要氮化的零件通過零件架放入到導流罩桶內，啟動電機帶動葉片旋轉，然