本技術(shù)涉及噴射，尤其涉及一種放置箔片的定位裝置及噴涂設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、氣浮軸承是一種使用空氣作為潤滑劑的滑動(dòng)軸承。在正常運(yùn)行過程中，軸和軸承表面完全由氣膜所隔開，由氣膜中的壓力變化來支撐軸和外力載荷。由于空氣比油粘滯性小，耐高溫，無污染，因而氣浮軸承可用于高速機(jī)器、儀器及放射性裝置中。但是氣浮軸承在啟停階段運(yùn)行時(shí)，若轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)速低于軸承的起飛臨界轉(zhuǎn)速，兩者之間無法形成有效的動(dòng)壓氣膜從而處于接觸摩擦狀態(tài)，會(huì)造成表面磨損、啟動(dòng)力矩大、壽命減少等問題。

2、因此便需要在氣浮軸承的徑向軸承箔片上噴涂二硫化鉬涂層以形成二硫化鉬保護(hù)層，二硫化鉬保護(hù)層具有典型的層狀結(jié)構(gòu)，其晶體為六方晶系，這種晶體結(jié)構(gòu)使二硫化鉬保護(hù)層在高溫、高負(fù)荷、超低溫、超高真空、強(qiáng)氧化還原、強(qiáng)輻射等特殊環(huán)境條件下具有較好的潤滑、減磨效果，延長零件的使用壽命。

3、目前行業(yè)內(nèi)徑向軸承箔片的噴涂為防止發(fā)生噴涂的涂層厚度一致性差和噴涂效率低的問題，便采用噴涂設(shè)備自動(dòng)噴涂，但為了防止噴射的涂料飛濺，便將放置待噴涂箔片的定位裝置放置在一遮擋件中，只留一個(gè)供噴射涂料的噴槍進(jìn)出的避讓孔，這樣來使涂料更多地飛濺在遮擋件內(nèi)，以防止涂料飛濺到設(shè)備的其他位置上，從而影響設(shè)備的其他零件的功能。然后設(shè)備對(duì)應(yīng)遮擋件設(shè)有收集孔，以收集被遮擋件擋住的涂料。

4、但是，涂料在定位裝置內(nèi)噴涂的過程中會(huì)產(chǎn)生的熱量和溶劑蒸氣，這些熱量和溶劑蒸汽無法及時(shí)從定位裝置排出，導(dǎo)致定位裝置內(nèi)的下部會(huì)產(chǎn)生渦流或亂流，使噴涂環(huán)境的穩(wěn)定性差，噴涂效果差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種放置箔片的定位裝置及噴涂設(shè)備，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中的遮擋件會(huì)產(chǎn)生渦流或亂流，使噴涂環(huán)境的穩(wěn)定性差，噴涂效果差的問題。

2、本實(shí)用新型的技術(shù)方案為一種放置箔片的定位裝置，包括：

3、底座，用于連接噴涂設(shè)備的驅(qū)動(dòng)裝置的輸出軸；

4、定位部，所述定位部的底部與所述底座的頂部連接，且所述定位部和底座之間設(shè)有多個(gè)鏤空部；

5、所述定位部沿其高度方向貫穿設(shè)有與所述鏤空部相通的噴涂孔，所述噴涂孔的下部設(shè)有至少一個(gè)定位塊。

6、進(jìn)一步地、所述噴涂孔的內(nèi)側(cè)壁沿其高度方向至少設(shè)有一對(duì)相向設(shè)置的限位槽，每個(gè)所述限位槽均自所述噴涂孔的頂部向底部延伸且不貫穿底部。

7、進(jìn)一步地、所述噴涂孔的底部對(duì)應(yīng)所述限位槽設(shè)有支撐待噴涂箔片的定位塊，每個(gè)所述定位塊均向所述噴涂孔的軸線延伸設(shè)置。

8、進(jìn)一步地、所述定位塊向下延伸形成連接柱，所述連接柱的末端設(shè)有卡接部；

9、所述底座的頂部對(duì)應(yīng)所述卡接部向內(nèi)凹陷形成卡槽，所述卡槽能與所述卡接部匹配卡接。

10、進(jìn)一步地、所述鏤空部由任意相鄰所述連接柱之間、所述定位部的底部以及所述底座的頂部共同界定。

11、進(jìn)一步地、所述底座為頂部小底部大的圓臺(tái)狀，所述底座的底部設(shè)有一中空的內(nèi)部空間。

12、進(jìn)一步地、所述內(nèi)部空間的頂部向內(nèi)凹陷形成安裝槽，所述安裝槽用于與所述驅(qū)動(dòng)裝置的輸出軸可拆卸連接。

13、進(jìn)一步地、所述底座的外側(cè)壁還設(shè)有疏油涂層。

14、本實(shí)用新型還提出一種噴涂設(shè)備，包括設(shè)有工作臺(tái)的機(jī)架；

15、所述工作臺(tái)上設(shè)有上述所述的放置箔片的定位裝置；

16、所述機(jī)架還設(shè)有噴涂裝置，所述噴涂裝置沿所述定位裝置的噴涂孔的軸線移動(dòng)。

17、進(jìn)一步地、所述工作臺(tái)對(duì)應(yīng)所述定位裝置設(shè)有廢料收集盤。

18、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型至少具有如下有益效果：

19、本實(shí)用新型通過鏤空部將噴涂過程中產(chǎn)生的熱量和溶劑蒸氣及時(shí)排出，防止噴涂孔內(nèi)產(chǎn)生渦流或亂流，進(jìn)而提高噴涂環(huán)境的穩(wěn)定性，提高噴涂效果；且鏤空部還能控制噴涂過程中的氣流方向和速度，有助于保持待噴涂箔片的噴涂表面的均勻性和一致性，提高噴涂質(zhì)量。

技術(shù)特征：

1.放置箔片的定位裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放置箔片的定位裝置，其特征在于，所述噴涂孔(201)的內(nèi)側(cè)壁沿其高度方向至少設(shè)有一對(duì)相向設(shè)置的限位槽(203)，每個(gè)所述限位槽(203)均自所述噴涂孔(201)的頂部向底部延伸且不貫穿底部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放置箔片的定位裝置，其特征在于，所述噴涂孔(201)的底部對(duì)應(yīng)所述限位槽(203)設(shè)有支撐待噴涂箔片的定位塊(202)，每個(gè)所述定位塊(202)均向所述噴涂孔(201)的軸線延伸設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的放置箔片的定位裝置，其特征在于，所述定位塊(202)向下延伸形成連接柱(204)，所述連接柱(204)的末端設(shè)有卡接部(205)；

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的放置箔片的定位裝置，其特征在于，所述鏤空部(30)由任意相鄰所述連接柱(204)之間、所述定位部(20)的底部以及所述底座(10)的頂部共同界定。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放置箔片的定位裝置，其特征在于，所述底座(10)為頂部小底部大的圓臺(tái)狀，所述底座(10)的底部設(shè)有一中空的內(nèi)部空間(102)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的放置箔片的定位裝置，其特征在于，所述內(nèi)部空間(102)的頂部向內(nèi)凹陷形成安裝槽(103)，所述安裝槽(103)用于與所述驅(qū)動(dòng)裝置的輸出軸可拆卸連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放置箔片的定位裝置，其特征在于，所述底座(10)的外側(cè)壁還設(shè)有疏油涂層。

9.噴涂設(shè)備，其特征在于，包括設(shè)有工作臺(tái)(2)的機(jī)架(1)；

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的噴涂設(shè)備，其特征在于，所述工作臺(tái)(2)對(duì)應(yīng)所述定位裝置設(shè)有廢料收集盤(4)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種放置箔片的定位裝置及噴涂設(shè)備，包括：底座，用于連接噴涂設(shè)備的驅(qū)動(dòng)裝置的輸出軸；定位部，所述定位部的底部與所述底座的頂部連接，且所述定位部和底座之間設(shè)有多個(gè)鏤空部；所述定位部沿其高度方向貫穿設(shè)有與所述鏤空部相通的噴涂孔，所述噴涂孔的下部設(shè)有至少一個(gè)定位塊。本技術(shù)通過鏤空部將噴涂過程中產(chǎn)生的熱量和溶劑蒸氣及時(shí)排出，防止噴涂孔內(nèi)產(chǎn)生渦流或亂流，進(jìn)而提高噴涂環(huán)境的穩(wěn)定性，提高噴涂效果；且鏤空部還能控制噴涂過程中的氣流方向和速度，有助于保持待噴涂箔片的噴涂表面的均勻性和一致性，提高噴涂質(zhì)量。

技術(shù)研發(fā)人員：陳昌中,崔霄洋,譚德強(qiáng),王成根,王昊天,宋勇勇
受保護(hù)的技術(shù)使用者：格力電器（武漢）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240624
技術(shù)公布日：2025/4/28