本發明涉及半導體領域，特別是涉及一種利用opc修正數據庫的opc修正方法、系統、終端及介質。

背景技術：

1、當芯片制程較小，光刻曝光時會發生衍射作用，這會導致光刻后的圖形出現失真。為了提升光刻分辨率，需要對版圖實施光學鄰近效應修正(opc)。在對客戶版圖進行opc修正時，傳統方法需要對版圖的每層layer逐一進行opc修正，最終整合所有修正后的layer層，形成完整的opc修正版圖文件。然而，這種方法存在明顯不足：每當新客戶提交版圖時，都需要重復進行逐層的opc修正工作。不同客戶提交的版圖中可能包含相同的cell單元或更小的單元元素。這意味著在不同客戶的版圖中，相同的cell單元或更小的單元元素會被重復修正，造成資源浪費和效率低下。

技術實現思路

1、鑒于以上所述現有技術的缺點，本發明的目的在于提供一種利用opc修正數據庫的opc修正方法、系統、終端及介質，用于解決現有技術中面對不同客戶的版圖，需要對每個版圖的單元元素重復進行opc修正，導致效率低下且存在資源浪費等技術問題。

2、為實現上述目的及其他相關目的，本發明提供一種利用opc修正數據庫的opc修正方法，所述方法包括：按照版圖設計對各版圖的每個layer層進行切分，提取各版圖每個layer層的各單元元素，并構建基礎圖形庫；對基礎圖形庫中每個單元元素進行opc修正，構建opc修正數據庫；利用opc修正數據庫對新進版圖中與基礎圖形庫相匹配的單元元素進行修正，并將新進版圖中未匹配到的部分進行額外修正。

3、于本發明的一實施例中，按照版圖設計對各版圖的每個layer層進行切分，提取各版圖每個layer層的各單元元素包括：對各版圖的每個layer層按照ip進行切分，獲得各版圖的每個layer層的各ip；從每個ip中提取各單元元素，以獲得各版圖每個layer層的各單元元素。

4、于本發明的一實施例中，所述單元元素的類型包括：頂層的cell單元、嵌套于cell單元中的一級cell子單元以及嵌套于一級cell子單元中的二級cell子單元。

5、于本發明的一實施例中，構建基礎圖形庫的方式包括：將獲得的各版圖每個layer層的各單元元素進行去重處理，將去重處理后的各單元元素儲存于圖像庫中，獲得基礎圖形庫。

6、于本發明的一實施例中，所述利用opc修正數據庫對新進版圖中與基礎圖形庫相匹配的單元元素進行修正，并將新進版圖中未匹配到的部分進行額外修正包括：將新進版圖中每個layer層中與基礎圖形庫相匹配的單元元素替換為opc修正數據庫中對應的已修正單元元素，并將每個layer層中未匹配到的部分進行額外修正。

7、于本發明的一實施例中，所述將新進版圖中每個layer層中與基礎圖形庫相匹配的單元元素替換為opc修正數據庫中對應的已修正單元元素，并將每個layer層中未匹配到的部分進行額外修正包括：識別當前layer層中劃分的各ip中與基礎圖形庫相匹配的單元元素；將當前layer層各ip中確定的與基礎圖形庫相匹配的單元元素替換為opc修正數據庫中對應的已修正單元元素；將當前layer層各ip中未匹配到的單元元素以及cell單元連接部分進行額外修正。

8、于本發明的一實施例中，所述識別當前layer層中劃分的各ip中與基礎圖形庫相匹配的單元元素包括：將當前layer層中每個ip的各單元元素分別與基礎圖形庫進行形狀特征相似度計算，并基于相似度計算結果確定每個ip與基礎圖形庫相匹配的單元元素。

9、為實現上述目的及其他相關目的，本發明提供一種利用opc修正數據庫的opc修正系統，所述系統包括：基礎圖形庫構建模塊，用于按照版圖設計對各版圖的每個layer層進行切分，提取各版圖每個layer層的各單元元素，并構建基礎圖形庫；修正數據庫構建模塊，連接所述基礎圖形庫構建模塊，用于對基礎圖形庫中每個單元元素進行opc修正，構建opc修正數據庫；修正模塊，連接所述修正數據庫構建模塊，用于利用opc修正數據庫對新進版圖中與基礎圖形庫相匹配的單元元素進行修正，并將新進版圖中未匹配到的部分進行額外修正。

10、為實現上述目的及其他相關目的，本發明提供一種電子終端，包括：一或多個存儲器及一或多個處理器；所述一或多個存儲器，用于存儲計算機程序；所述一或多個處理器，連接所述存儲器，用于運行所述計算機程序以執行所述利用opc修正數據庫的opc修正方法。

11、為實現上述目的及其他相關目的，本發明提供一種計算機可讀存儲介質，存儲有計算機程序，所述計算機程序被一個或多個處理器運行時執行所述的方法。

12、如上所述，本發明是一種利用opc修正數據庫的opc修正方法、系統、終端及介質，具有以下有益效果：首先，本發明通過對各版圖的每個layer層進行切分，提取出各個layer層的單元元素，進而構建起一個全面的基礎圖形庫。隨后，對基礎圖形庫中的每個單元元素實施opc修正，形成opc修正數據庫。在面對新進版圖時，本發明利用已建立的opc修正數據庫，對版圖中與基礎圖形庫相匹配的單元元素進行快速修正，并對未匹配部分執行額外修正。這種方法為不同客戶的個性化需求提供了一種高效的版圖修正解決方案，有效減少了運行時間，提升了研發效率以及生產穩定性。

技術特征：

1.一種利用opc修正數據庫的opc修正方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根據權利要求1中所述的利用opc修正數據庫的opc修正方法，其特征在于，所述按照版圖設計對各版圖的每個layer層進行切分，提取各版圖每個layer層的各單元元素包括：對各版圖的每個layer層按照ip進行切分，獲得各版圖的每個layer層的各ip；

3.根據權利要求2中所述的利用opc修正數據庫的opc修正方法，其特征在于，所述單元元素的類型包括：頂層的cell單元、嵌套于cell單元中的一級cell子單元以及嵌套于一級cell子單元中的二級cell子單元。

4.根據權利要求3中所述的利用opc修正數據庫的opc修正方法，其特征在于，構建基礎圖形庫的方式包括：將獲得的各版圖每個layer層的各單元元素進行去重處理，將去重處理后的各單元元素儲存于圖像庫中，獲得基礎圖形庫。

5.根據權利要求3中所述的利用opc修正數據庫的opc修正方法，其特征在于，所述利用opc修正數據庫對新進版圖中與基礎圖形庫相匹配的單元元素進行修正，并將新進版圖中未匹配到的部分進行額外修正包括：

6.根據權利要求5中所述的利用opc修正數據庫的opc修正方法，其特征在于，所述將新進版圖中每個layer層中與基礎圖形庫相匹配的單元元素替換為opc修正數據庫中對應的已修正單元元素，并將每個layer層中未匹配到的部分進行額外修正包括：

7.根據權利要求6中所述的利用opc修正數據庫的opc修正方法，其特征在于，所述識別當前layer層中劃分的各ip中與基礎圖形庫相匹配的單元元素包括：

8.一種利用opc修正數據庫的opc修正系統，其特征在于，所述系統包括：

9.一種電子終端，其特征在于，包括：一或多個存儲器及一或多個處理器；

10.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，存儲有計算機程序，所述計算機程序被一個或多個處理器運行時執行如權利要求1至7中任一項所述的方法。

技術總結
本發明提供一種利用OPC修正數據庫的OPC修正方法、系統、終端及介質，通過首先對各版圖的每個layer層進行切分，提取出各個layer層的單元元素，進而構建起一個全面的基礎圖形庫。隨后，對基礎圖形庫中的每個單元元素實施OPC修正，形成OPC修正數據庫。在面對新進版圖時，本發明利用已建立的OPC修正數據庫，對版圖中與基礎圖形庫相匹配的單元元素進行快速修正，并對未匹配部分執行額外修正。這種方法為不同客戶的個性化需求提供了一種高效的版圖修正解決方案，有效減少了運行時間，提升了研發效率以及生產穩定性。

技術研發人員：萬中軍,林義栩,陳詠翔,曾鼎程,范富杰,胡展源
受保護的技術使用者：重慶芯聯微電子有限公司
技術研發日：
技術公布日：2025/4/28