技術(shù)領(lǐng)域

描述的技術(shù)總體涉及一種柔性顯示器及其制造方法，更具體地，涉及一種具有彎曲區(qū)域的柔性顯示裝置。

背景技術(shù)：

因?yàn)橛袡C(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器是自發(fā)光的，所以與液晶顯示器(LCD)相比，它們不需要單獨(dú)的光源。這可以實(shí)現(xiàn)制造與LCD相比相對(duì)薄且質(zhì)輕的OLED顯示器。另外，OLED顯示器具有諸如低功耗、高亮度、快響應(yīng)速度等的其他高品質(zhì)的特性。

OLED顯示器包括基板、形成在基板上的薄膜晶體管、由薄膜晶體管控制的OLED和形成在薄膜晶體管的電極之間的多個(gè)絕緣層。最近，已經(jīng)開(kāi)發(fā)了包括其中形成有彎曲區(qū)域的柔性基板的柔性O(shè)LED顯示器。

在此背景技術(shù)部分公開(kāi)的上述信息僅意圖促進(jìn)對(duì)描述的技術(shù)的背景的理解，因此它可能包含不形成對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)在本國(guó)已經(jīng)知道的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

一個(gè)發(fā)明構(gòu)思是一種可以抑制由于柔性顯示器沿彎曲區(qū)域的彎曲導(dǎo)致的絕緣層中的破裂和破裂蔓延的柔性顯示器及其制造方法。

另一方面是一種柔性顯示裝置，所述柔性顯示裝置包括：柔性基板，包括彎曲區(qū)域；絕緣層，設(shè)置在柔性基板上；槽，位于彎曲區(qū)域內(nèi)的絕緣層中；應(yīng)力緩和層，設(shè)置在槽上；以及多條布線，設(shè)置在絕緣層和應(yīng)力緩和層上。

柔性基板還可以包括顯示區(qū)域，彎曲區(qū)域可以位于顯示區(qū)域的外部。柔性顯示裝置還可以包括位于顯示區(qū)域中的顯示單元。多條布線可以電連接到顯示單元。應(yīng)力緩和層可以接觸柔性基板。

彎曲區(qū)域可以基于彎曲軸彎曲，絕緣層的槽可以沿平行于彎曲軸的方向延伸。絕緣層的槽可以形成為多個(gè)，并且多個(gè)槽可以沿多條布線的長(zhǎng)度方向彼此分隔開(kāi)。

應(yīng)力緩和層的頂表面和絕緣層的頂表面可以位于距離柔性基板的表面相同的高度處。絕緣層可以包括堆疊在柔性基板上的多個(gè)無(wú)機(jī)層，絕緣層的槽可以位于包括多個(gè)無(wú)機(jī)層的最頂部的無(wú)機(jī)層的至少一個(gè)無(wú)機(jī)層中。

多個(gè)無(wú)機(jī)層可以包括阻擋層、緩沖層、柵極絕緣層和層間絕緣層中的至少兩個(gè)。多條布線可以被有機(jī)層覆蓋。應(yīng)力緩和層可以包括有機(jī)絕緣材料。

另一方面是一種柔性顯示裝置，所述柔性顯示裝置包括柔性基板、無(wú)機(jī)絕緣層、槽、有機(jī)絕緣層和多條布線。柔性基板可以包括顯示單元位于其中的顯示區(qū)域和位于顯示區(qū)域外部的彎曲區(qū)域。無(wú)機(jī)絕緣層可以設(shè)置在柔性基板上。槽可以位于彎曲區(qū)域內(nèi)的無(wú)機(jī)絕緣層中。有機(jī)絕緣層可以設(shè)置在槽上。多條布線可以電連接到顯示單元，并且可以分別包括設(shè)置在無(wú)機(jī)絕緣層的頂表面上的第一部分和設(shè)置在有機(jī)絕緣層的頂表面上的第二部分。

第一部分和第二部分可以位于距離柔性基板的表面相同的高度處。彎曲區(qū)域可以基于彎曲軸彎曲，無(wú)機(jī)絕緣層的槽可以沿平行于彎曲軸的方向延伸。

有機(jī)絕緣層可以接觸柔性基板。無(wú)機(jī)絕緣層可以包括順序地堆疊在柔性基板上的阻擋層、緩沖層、柵極絕緣層和層間絕緣層。無(wú)機(jī)絕緣層的槽可以位于阻擋層、緩沖層、柵極絕緣層和層間絕緣層中的至少一個(gè)中。

另一方面是柔性顯示裝置的制造方法，所述方法包括：在柔性基板的顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域中形成絕緣層；在非顯示區(qū)域內(nèi)的絕緣層中形成槽；通過(guò)將有機(jī)絕緣材料填充到槽中來(lái)形成應(yīng)力緩和層；在非顯示區(qū)域內(nèi)的絕緣層和應(yīng)力緩和層上形成多條布線；以及通過(guò)使非顯示區(qū)域的至少一部分彎曲來(lái)形成彎曲區(qū)域。

可以基于彎曲軸使彎曲區(qū)域彎曲，并且絕緣層的槽可以沿平行于彎曲軸的方向延伸。

應(yīng)力緩和層的頂表面和絕緣層的頂表面可以位于距離柔性基板的表面相同的高度處。絕緣層可以包括堆疊在柔性基板上的多個(gè)無(wú)機(jī)層，絕緣層的槽可以位于包括多個(gè)無(wú)機(jī)層的最頂部的無(wú)機(jī)層的至少一個(gè)無(wú)機(jī)層中。

根據(jù)至少一個(gè)實(shí)施例，能夠通過(guò)減小柔性顯示裝置的彎曲區(qū)域上的應(yīng)力來(lái)減少或防止柔性顯示裝置的絕緣層中的破裂和破裂的蔓延。此外，能夠通過(guò)使用應(yīng)力緩和層提供布線形成在其上的平坦表面來(lái)防止臺(tái)階形狀發(fā)生在布線中，從而可以防止布線之間的短路。

附圖說(shuō)明

圖1示出根據(jù)示例性實(shí)施例的柔性顯示器的示意性透視圖。

圖2示出根據(jù)示例性實(shí)施例的柔性顯示器的示意性剖視圖。

圖3示出處于展開(kāi)構(gòu)造的圖1中示出的柔性顯示器的示意性透視圖。

圖4示出圖2中示出的柔性顯示器的示例性變化的剖視圖。

圖5A示出圖3中示出的柔性顯示器的顯示單元的放大剖視圖。

圖5B、圖5C和圖5D分別示出圖5A的示例性變化。

圖6示出圖3中示出的柔性顯示器的彎曲區(qū)域的放大剖視圖。

圖7A示出圖6中示出的彎曲區(qū)域的第一示例性變化的放大剖視圖。

圖7B示出圖6中示出的彎曲區(qū)域的第二示例性變化的放大剖視圖。

圖7C示出圖6中示出的彎曲區(qū)域的第三示例性變化的放大剖視圖。

圖7D示出圖6中示出的彎曲區(qū)域的第四示例性變化的放大剖視圖。

圖8示出與對(duì)比示例對(duì)應(yīng)的柔性顯示器的彎曲區(qū)域的放大剖視圖。

圖9示出根據(jù)示例性實(shí)施例的柔性顯示器的制造方法的流程圖。

圖10A示出處于圖9中示出的第一步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

圖10B示出處于圖9中示出的第二步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

圖10C示出處于圖9中示出的第三步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

圖10D示出處于圖9中示出的第四步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

圖10E示出處于圖9中示出的第五步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

具體實(shí)施方式

在下文中將參照示出本公開(kāi)的示例性實(shí)施例的附圖更充分地描述本公開(kāi)。如本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到的，在全部不脫離本公開(kāi)的精神或范圍的情況下，描述的實(shí)施例可以以各種不同的方式修改。

在整個(gè)說(shuō)明書(shū)中，將理解的是，當(dāng)諸如層、膜、區(qū)域或基板的元件被稱為“在”另一元件“上”時(shí)，該元件可以直接地在其他元件上或者也可以存在中間元件。此外，詞語(yǔ)“在……上”意味著位于物體上或下方，并且不必意味著基于物體的相對(duì)于重力方向的方向位于物體的上側(cè)上。

在整個(gè)說(shuō)明書(shū)中，除非明確地描述為相反，否則詞語(yǔ)“包括”將理解為意味著包括陳述的元件，但不排除任何其他元件。在附圖中，為了清楚的目的，可以夸大各個(gè)元件的尺寸和厚度，本公開(kāi)不必限制于如此描述的尺寸和厚度。

圖1和圖2分別示出根據(jù)示例性實(shí)施例的柔性顯示器的示意性透視圖和示意性剖視圖。圖3示出處于展開(kāi)構(gòu)造的圖1中示出的柔性顯示器的示意性透視圖。

參照?qǐng)D1至圖3，柔性顯示器100包括柔性基板110、顯示單元120、絕緣層130、應(yīng)力緩和層140和設(shè)置在柔性基板110上的多條布線150。此外，柔性顯示器100還可以包括覆晶薄膜(chip on film，COF)160(或柔性印刷電路(FPC))和印刷電路板(PCB)170。

柔性基板110可以由包括聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚乙烯、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯和聚丙烯酸酯中的至少一種的有機(jī)材料形成。柔性基板110可以是可彎曲的并且可以是透光的。

柔性基板110包括顯示單元120內(nèi)的顯示區(qū)域(DA)。顯示單元120包括多個(gè)像素，并且可以通過(guò)從像素PX發(fā)射的光的組合顯示圖像。每個(gè)像素PX包括像素電路和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)。像素電路包括至少兩個(gè)薄膜晶體管和至少一個(gè)存儲(chǔ)電容器，并且可以控制從OLED的光的發(fā)射。將在下面描述顯示單元120的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。

柔性基板110包括彎曲區(qū)域(BA)。柔性基板110包括圍繞顯示區(qū)域(DA)的非顯示區(qū)域(NDA)，彎曲區(qū)域(BA)可以被包括在非顯示區(qū)域中。例如，彎曲區(qū)域(BA)可以是包括在非顯示區(qū)域中的焊盤區(qū)域。

多個(gè)焊盤電極180在焊盤區(qū)域中設(shè)置在柔性基板110的邊緣上。多條布線150設(shè)置在焊盤區(qū)域上，并且布線150將分別位于顯示單元120中的多條信號(hào)線(例如，掃描線、數(shù)據(jù)線、驅(qū)動(dòng)電壓線等)電連接到多個(gè)焊盤電極180。

焊盤電極180連接到覆晶薄膜160的輸出布線部分161，覆晶薄膜160的輸入布線部分162連接到印刷電路板(PCB)170的輸出布線部分171。在圖2中，附圖標(biāo)記163表示安裝在覆晶薄膜160上的驅(qū)動(dòng)芯片。印刷電路板(PCB)170將用于控制驅(qū)動(dòng)芯片163的控制信號(hào)輸出到覆晶薄膜160。覆晶薄膜160將各種信號(hào)和功率輸出到焊盤電極180，以顯示圖像。

當(dāng)焊盤區(qū)域布置為與顯示區(qū)域(DA)平行(參照?qǐng)D3)時(shí)，顯示單元120外部的無(wú)效空間增大。本示例性實(shí)施例的柔性顯示器100的焊盤區(qū)域可以被彎曲以形成彎曲區(qū)域(BA)。然后，因?yàn)槿嵝曰?10的焊盤電極180位于其上的邊緣在顯示區(qū)域(DA)的背側(cè)處與顯示區(qū)域(DA)疊置，所以可以使顯示單元120外部的無(wú)效空間減小或最小化。

彎曲區(qū)域(BA)相對(duì)于彎曲軸(BX)彎曲(參照?qǐng)D2)。彎曲區(qū)域(BA)的曲率的中心位于彎曲軸(BX)處。參照?qǐng)D1和圖2，彎曲軸(BX)平行于y軸。

絕緣層(或無(wú)機(jī)絕緣層)130設(shè)置在整個(gè)柔性基板110上，布線150設(shè)置在絕緣層130上。絕緣層130設(shè)置在包括在顯示單元120中的電極之間，以使電極彼此電絕緣。絕緣層130可以包括諸如阻擋層、緩沖層、柵極絕緣層、層間絕緣層等的多個(gè)層，并且可以包括諸如氧化硅(SiO₂)或氮化硅(SiN_x)的無(wú)機(jī)材料。布線150包括金屬。

絕緣層130與布線150相比可以具有相當(dāng)小的柔性，并且會(huì)是脆性的，導(dǎo)致當(dāng)被施以外力時(shí)絕緣層130易被損壞。因此，彎曲區(qū)域(BA)的絕緣層130會(huì)被由彎曲引起的拉伸力損壞，從而會(huì)形成裂紋，最初發(fā)生的裂紋會(huì)蔓延到絕緣層130的其他區(qū)域。絕緣層130中的裂紋會(huì)導(dǎo)致布線150中的斷路，這導(dǎo)致了柔性顯示器100中的顯示缺陷。

在至少一個(gè)示例性實(shí)施例的柔性顯示器100中，絕緣層130包括位于彎曲區(qū)域(BA)中的槽(GR)，應(yīng)力緩和層(或有機(jī)絕緣層)140設(shè)置在絕緣層130的槽(GR)上。槽(GR)和應(yīng)力緩和層140可以沿平行于彎曲軸(BX)的方向(y軸方向)延伸。圖2示出了一個(gè)槽(GR)和一個(gè)應(yīng)力緩和層140位于絕緣層130中的示例性實(shí)施例。

圖4示出了圖2中示出的柔性顯示器的示例性變化的剖視圖。在圖4中，絕緣層130包括沿布線150的長(zhǎng)度方向分別彼此分隔開(kāi)的多個(gè)槽(GR)和多個(gè)應(yīng)力緩和層140。槽(GR)和應(yīng)力緩和層140分別沿平行于彎曲軸(BX)的方向(y軸方向)延伸。

盡管在圖4中示例性地示出了兩個(gè)槽(GR)和兩個(gè)應(yīng)力緩和層140，但是槽(GR)和應(yīng)力緩和層140的數(shù)目和位置不限于圖4中示出的那些。

參照?qǐng)D1至圖4，應(yīng)力緩和層140被定位為填充絕緣層130的槽(GR)，布線150設(shè)置在絕緣層130和應(yīng)力緩和層140上。應(yīng)力緩和層140的厚度基本等于槽(GR)的深度。因此，應(yīng)力緩和層140的頂表面和絕緣層130的頂表面位于距離柔性基板110的表面基本相同的高度處，布線150在絕緣層130與應(yīng)力緩和層140之間的邊界處不具有高度臺(tái)階。

例如，布線150設(shè)置為從接觸顯示單元120的電極的一側(cè)到接觸焊盤電極180的另一側(cè)是平坦的而不是彎曲的。這里，“彎曲”意味著在柔性基板110的厚度方向(z軸方向)上彎曲。

應(yīng)力緩和層140包括與絕緣層130相比脆性較小且柔性較大的材料。例如，應(yīng)力緩和層140可以包括有機(jī)絕材料，并且可以包括聚酰亞胺、丙烯酸酯和環(huán)氧樹(shù)脂中的至少一種。應(yīng)力緩和層140可以填充整個(gè)槽(GR)，并且緊緊地接觸槽(GR)的側(cè)壁，從而在絕緣層130與槽(GR)之間沒(méi)有形成間隙。

本示例性實(shí)施例的柔性顯示器100可以通過(guò)彎曲區(qū)域(BA)的絕緣層130中的槽(GR)減少或防止由于彎曲應(yīng)力導(dǎo)致的絕緣層130中的破裂的發(fā)生。另外，可以通過(guò)絕緣層130的槽(GR)中的應(yīng)力緩和層140防止穿過(guò)彎曲區(qū)域(BA)的布線150發(fā)生臺(tái)階。

當(dāng)在不存在應(yīng)力緩和層時(shí)在絕緣層130中形成槽(GR)之后設(shè)置布線150時(shí)，布線150被定位為沿柔性基板110的厚度方向(z軸方向)具有大的臺(tái)階。在這種情況下，當(dāng)通過(guò)沉積金屬層然后通過(guò)諸如光刻的方法將金屬層圖案化來(lái)形成布線150時(shí)，金屬層會(huì)留在不期望的區(qū)域中，因此導(dǎo)致布線150之間的短路。

在至少一個(gè)示例性實(shí)施例的柔性顯示器100中，應(yīng)力緩和層140可以填充絕緣層130的槽(GR)以形成基本平坦的表面。因此，當(dāng)通過(guò)沉積金屬層然后將金屬層圖案化來(lái)形成布線150時(shí)，因?yàn)槟軌驕?zhǔn)確地執(zhí)行圖案化，所以可以防止布線150之間的短路。作為參考，布線150形成在平坦的焊盤區(qū)域中，然后對(duì)于將要形成的彎曲區(qū)域(BA)彎曲焊盤區(qū)域。

圖5A和圖6分別示出圖3中示出的柔性顯示器的顯示單元和彎曲區(qū)域的放大剖視圖。

參照?qǐng)D5A和圖6，阻擋層131可以設(shè)置在柔性基板110上。阻擋層131用于阻擋濕氣和/或氧滲透穿過(guò)柔性基板110，并且可以用其中氧化硅(SiO₂)和氮化硅(SiN_x)交替地和重復(fù)地彼此堆疊的多個(gè)層形成。緩沖層132可以設(shè)置在阻擋層131上。緩沖層132提供用于形成像素電路的平坦表面，并且可以包括氧化硅(SiO₂)或氮化硅(SiN_x)。

半導(dǎo)體層121設(shè)置在緩沖層132上。半導(dǎo)體層121可以包括多晶硅或氧化物半導(dǎo)體，包括氧化物半導(dǎo)體的半導(dǎo)體層121可以由單獨(dú)的鈍化層(未示出)覆蓋。半導(dǎo)體層121包括未用雜質(zhì)摻雜的溝道區(qū)以及位于溝道區(qū)的相對(duì)側(cè)處并且用雜質(zhì)摻雜的源區(qū)和漏區(qū)。

柵極絕緣層133設(shè)置在半導(dǎo)體層121上。柵極絕緣層133可以形成為氮化硅(SiN_x)或氧化硅(SiO₂)的單層或者氮化硅(SiN_x)和氧化硅(SiO₂)的堆疊層。柵電極122和第一電容器板125a設(shè)置在柵極絕緣層133上。柵電極122與半導(dǎo)體層121的溝道區(qū)疊置。

第一層間絕緣層134可以設(shè)置在柵電極122和第一電容器板125a上，第二電容器板126a設(shè)置在第一層間絕緣層134上。第二電容器板126a與第一電容器板125a疊置，第一電容器板125a和第二電容器板126a使用第一層間絕緣層134作為介電材料來(lái)形成存儲(chǔ)電容器202a。柵電極122以及第一電容器板125a和第二電容器板126a可以包括Au、Ag、Cu、Ni、Pt、Pd、Al、Mo等中的一種或更多種。

第二層間絕緣層135可以設(shè)置在第二電容器板126a上，源電極123和漏電極124設(shè)置在第二層間絕緣層135上。第一層間絕緣層134和第二層間絕緣層135可以形成為氧化硅(SiO₂)或氮化硅(SiN_x)的單層或者氧化硅(SiO₂)和氮化硅(SiN_x)的堆疊層。

源電極123和漏電極124分別通過(guò)形成在第一層間絕緣層134和第二層間絕緣層135以及柵極絕緣層133中的通孔連接到半導(dǎo)體層121的源區(qū)和漏區(qū)。源電極123和漏電極124可以形成為諸如Mo/Al/Mo或Ti/Al/Ti的金屬多層。另一方面，第二電容器板126a可以包括與源電極123和漏電極124相同的材料，在這種情況下，設(shè)置一個(gè)層間絕緣層。

像素電路包括開(kāi)關(guān)薄膜晶體管、驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管201和存儲(chǔ)電容器202a，但是為了有助于理解像素電路和為了方便起見(jiàn)，在圖5A中省略開(kāi)關(guān)薄膜晶體管。此外，驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管201和存儲(chǔ)電容器202a的結(jié)構(gòu)不限于圖5A的那些。

圖5B、圖5C和圖5D分別示出存儲(chǔ)電容器的其他示例。

參照?qǐng)D5B，第一電容器板125b可以包括與緩沖層132上的半導(dǎo)體層121相同的材料，第二電容器板126b可以包括與柵極絕緣層133上的柵電極122相同的材料。在此實(shí)施例中，第一電容器板125b和第二電容器板126b使用柵極絕緣層133作為介電材料形成存儲(chǔ)電容器202b。

參照?qǐng)D5C，第一電容器板125c可以包括與緩沖層132上的半導(dǎo)體層121相同的材料，第二電容器板126c可以包括與第二層間絕緣層135上的源電極123和漏電極124相同的材料。在此實(shí)施例中，第一電容器板125c和第二電容器板126c使用柵極絕緣層133、第一層間絕緣層134和第二層間絕緣層135作為介電材料形成存儲(chǔ)電容器202c。

參照?qǐng)D5D，存儲(chǔ)電容器202d可以包括第一電容器板125d、第二電容器板126d和第三電容器板126e。第一電容器板125d可以包括與緩沖層132上的半導(dǎo)體層121相同的材料，第二電容器板126d可以包括與柵極絕緣層133上的柵電極122相同的材料。第三電容器板126e可以包括與第二層間絕緣層135上的源電極123和漏電極124相同的材料。

存儲(chǔ)電容器(202a、202b、202c和202d)的結(jié)構(gòu)不限于圖5A至圖5D中示出的那些，它們可以以各種方式修改。

返回參照?qǐng)D5A和圖6，驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管201被平坦化層112覆蓋，并且連接到OLED 203以驅(qū)動(dòng)OLED 203。平坦化層112可以包括有機(jī)絕緣材料或無(wú)機(jī)絕緣材料，或者可以由有機(jī)絕緣材料和無(wú)機(jī)絕緣材料的組合形成。OLED203包括像素電極127和發(fā)射層128以及共電極129。

像素電極127在平坦化層112上分開(kāi)地形成在每個(gè)像素中，并且通過(guò)形成在平坦化層112上的通孔連接到驅(qū)動(dòng)薄膜晶體管201的漏電極124。像素限定層(或分隔壁)113設(shè)置在平坦化層112上并且在像素電極127的邊緣上。發(fā)射層128設(shè)置在像素電極127上，共電極129設(shè)置在整個(gè)顯示區(qū)域(DA)上，而不考慮像素。

像素電極127和共電極129中的一個(gè)將空穴注入到發(fā)射層128中，另一個(gè)將電子注入到發(fā)射層128中。電子和空穴在發(fā)射層128中彼此再結(jié)合以產(chǎn)生激子，并且通過(guò)激子從激發(fā)態(tài)落回到基態(tài)時(shí)產(chǎn)生的能量發(fā)光。

像素電極127可以包括反射層，共電極129可以包括透明層或半透明層。從發(fā)射層128發(fā)射的光通過(guò)像素電極127反射，并且穿過(guò)共電極129以發(fā)射到環(huán)境。當(dāng)共電極129包括半透射層時(shí)，由像素電極127反射的一些光通過(guò)共電極129再次反射，因此像素電極127和共電極129形成共振結(jié)構(gòu)，從而可以改善光提取效率。

OLED 203由包封件或包封層190覆蓋。包封件190將OLED 203密封，從而可以減少或防止由環(huán)境中包括的濕氣和/或氧引起的OLED 203的劣化。包封件190可以包括無(wú)機(jī)層和有機(jī)層堆疊的結(jié)構(gòu)，例如，包封件190可以包括第一無(wú)機(jī)層191、有機(jī)層192和第二無(wú)機(jī)層193。

在彎曲區(qū)域(BA)中，布線150(圖6示出一條布線)可以與源電極123和漏電極124位于同一層中，并且可以包括與源電極123和漏電極124相同的材料。布線150可以由有機(jī)層(例如，平坦化層112)覆蓋。包括多個(gè)層的位于布線150下方的絕緣層130可以包括阻擋層131、緩沖層132、柵極絕緣層133以及第一層間絕緣層134和第二層間絕緣層135。

絕緣層130的槽(GR)可以沿柔性基板110的厚度方向(z軸方向)位于整個(gè)絕緣層130中。在這種情況下，應(yīng)力緩和層140接觸柔性基板110。此外，絕緣層130的槽(GR)可以位于絕緣層130的子集中，并且可以位于包括形成絕緣層130的無(wú)機(jī)層(131、132、133、134和135)的最頂部的無(wú)機(jī)層135的至少一個(gè)無(wú)機(jī)層中。

圖7A示出圖6中示出的彎曲區(qū)域的第一示例性變化的放大剖視圖。參照?qǐng)D7A，絕緣層130的槽GR1可以位于第二層間絕緣層135中。圖7B示出圖6中示出的彎曲區(qū)域的第二示例性變化的放大剖視圖。參照?qǐng)D7B，絕緣層130的槽GR2可以位于第一層間絕緣層134和第二層間絕緣層135中。

圖7C示出圖6中示出的彎曲區(qū)域的第三示例性變化的放大剖視圖。參照?qǐng)D7C，絕緣層130的槽GR3可以位于柵極絕緣層133以及第一層間絕緣層134和第二層間絕緣層135中。圖7D示出圖6中示出的彎曲區(qū)域的第四示例性變化的放大剖視圖。參照?qǐng)D7D，絕緣層130的槽GR4可以位于緩沖層132、柵極絕緣層133以及第一層間絕緣層134和第二層間絕緣層135中。

在圖6和圖7A至圖7D中示出的所有示例性實(shí)施例中，絕緣層130的槽(GR、GR1、GR2、GR3和GR4)被填充有應(yīng)力緩和層140，以提供用于定位布線150的基本平坦的表面。

圖8示出根據(jù)對(duì)比示例的柔性顯示器的彎曲區(qū)域的放大透視圖。

參照?qǐng)D8，對(duì)比示例的柔性顯示器不包括應(yīng)力緩和層。在這種情況下，布線151沿絕緣層130的頂表面、槽(GR)的側(cè)表面、槽(GR)的底表面(例如，柔性基板110的頂表面)、槽(GR)的側(cè)表面和絕緣層130的頂表面定位，并且具有沿柔性基板110的厚度方向(z軸方向)形成的大臺(tái)階。

通常，通過(guò)將金屬沉積在整個(gè)表面上方并且通過(guò)諸如光刻的方法將金屬層圖案化來(lái)形成布線151。然而，當(dāng)金屬層形成在具有臺(tái)階的非平坦表面上時(shí)，金屬層在形成臺(tái)階的區(qū)域中被不適當(dāng)?shù)貓D案化，因此金屬層會(huì)留在不預(yù)期的部分或區(qū)域中。剩余的金屬層可以接觸相鄰的布線151，從而在布線151之間形成短路。附圖標(biāo)記152表示圖8中的不預(yù)期的剩余金屬層。

然而，在至少一個(gè)示例性實(shí)施例的柔性顯示器100中，因?yàn)閼?yīng)力緩和層140填充絕緣層130的槽(GR)，所以用于布線150的金屬層設(shè)置在平坦的表面上。因此，布線150可以被精確地圖案化而沒(méi)有金屬層殘留，因此可以防止布線150之間的短路。

圖9示出根據(jù)示例性實(shí)施例的柔性顯示器的制造方法的流程圖。

參照?qǐng)D9，柔性顯示器的制造方法包括：第一步驟S10，在柔性基板的顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域上形成絕緣層；第二步驟S20，在非顯示區(qū)域的絕緣層中形成槽；第三步驟S30，通過(guò)將有機(jī)絕緣材料填充到槽中形成應(yīng)力緩和層；第四步驟S40，在非顯示區(qū)域的絕緣層和應(yīng)力緩和層上形成多條布線；以及第五步驟S50，通過(guò)將非顯示區(qū)域的至少一部分彎曲形成彎曲區(qū)域。

圖10A示出處于圖9中示出的第一步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

參照10A，在第一步驟S10中，柔性基板110可以包括有機(jī)材料，有機(jī)材料包括聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚乙烯、聚對(duì)笨二甲酸乙二醇酯和聚丙烯酸酯中的至少一種。柔性基板110可以是可彎曲的并且可以是透光的。

柔性基板110可以被分為顯示單元位于其中的顯示區(qū)域(DA)和顯示區(qū)域(DA)外部的非顯示區(qū)域(NDA)。絕緣層130設(shè)置在柔性基板110的顯示區(qū)域(DA)和非顯示區(qū)域(NDA)兩者上。盡管未示出，但是當(dāng)形成絕緣層130時(shí)，用于形成薄膜晶體管的電極和存儲(chǔ)電容器位于顯示區(qū)域(DA)中。

圖10B示出處于圖9中示出的第二步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

參照?qǐng)D10B，在第二步驟S20中，在非顯示區(qū)域(NDA)的絕緣層130中形成槽(GR)。如圖6和圖7A至圖7D中所示，絕緣層130可以包括堆疊在柔性基板110上的多個(gè)無(wú)機(jī)層(131、132、133、134和135)，絕緣層130的槽(GR)可以位于包括無(wú)機(jī)層(131、132、133、134和135)的最頂部的無(wú)機(jī)層135的至少一個(gè)無(wú)機(jī)層中。

圖10C示出處于圖9中示出的第三步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

參照?qǐng)D10C，在第三步驟S30中，應(yīng)力緩和層140填充形成的絕緣層130的槽(GR)。應(yīng)力緩和層140可以包括有機(jī)絕緣材料，并且應(yīng)力緩和層140的厚度基本等于槽(GR)的深度。因此，應(yīng)力緩和層140的頂表面和絕緣層130的頂表面位于距離柔性基板110的表面基本相同的高度處。

圖10D示出處于圖9示出的第四步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

參照?qǐng)D10D，在第四步驟S40中，在非顯示區(qū)域(NDA)的絕緣層130和應(yīng)力緩和層140上形成多條布線150(圖10示出一條布線)。可以通過(guò)在絕緣層130上沉積金屬層并且通過(guò)公知的光刻工藝將金屬層圖案化來(lái)形成布線150。

盡管未示出，但是用于形成顯示區(qū)域(DA)中的薄膜晶體管的剩余電極可以在形成布線150的同時(shí)形成。在形成布線150之后，可以在顯示區(qū)域(DA)中形成包括多個(gè)OLED的顯示單元120和密封顯示單元120的包封件190。

此外，可以在非顯示區(qū)域(NDA)內(nèi)的柔性基板110的邊緣處形成多個(gè)焊盤電極(未示出)。布線150可以將在顯示單元120中形成的多條信號(hào)線連接到焊盤電極。

因?yàn)閼?yīng)力緩和層140填充絕緣層130的槽(GR)，所以當(dāng)沉積金屬層以形成布線150時(shí)，在金屬層中不形成臺(tái)階。即，在金屬層中沿柔性基板110的厚度方向沒(méi)有彎曲部分，因此當(dāng)金屬層被圖案化時(shí)，沒(méi)有剩余層發(fā)生，從而防止布線150之間的短路。

圖10E示出處于圖9中示出的第五步驟的柔性顯示器的示意性剖視圖。

參照?qǐng)D10E，在第五步驟S50中，彎曲其中形成有布線150的非顯示區(qū)域(NDA)的至少一部分，從而形成彎曲區(qū)域(BA)。彎曲區(qū)域(BA)基于彎曲軸(BX)而彎曲，絕緣層130的槽(GR)可以沿平行于彎曲軸(BX)的方向延伸(參照?qǐng)D1)。通過(guò)在彎曲區(qū)域(BA)中形成槽(GR)和應(yīng)力緩和層140，施加到彎曲區(qū)域(BA)內(nèi)的絕緣層130的應(yīng)力減小，從而減小或防止絕緣層130中的破裂。

盡管已經(jīng)結(jié)合目前被視為實(shí)際的示例性實(shí)施例的內(nèi)容描述了本公開(kāi)，但是將理解的是，本發(fā)明不限于公開(kāi)的實(shí)施例，而是相反，意圖覆蓋包括在所附權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)的各種修改和等同布置。