本技術涉及顯示，尤其涉及一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術：

1、oled(organic?light-emitting?diode，有機發(fā)光二極管)是由多層有機層和兩側(cè)電極構成的三明治結構的主動發(fā)光單元。目前，基于amoled(active-matrix?organiclight-emitting?diode，有源矩陣有機發(fā)光二極體)的顯示屏已經(jīng)在智能手機、手表以及筆記本電腦等領域得到商業(yè)化。

2、但是，現(xiàn)有顯示屏容易產(chǎn)生像素暗點情況，使用性能有待提升。

技術實現(xiàn)思路

1、有鑒于此，本技術的目的在于提出一種有助于改善像素暗點，提升使用性能的顯示面板及其制備方法、顯示裝置。

2、基于上述目的，本技術提供了一種顯示面板，其包括主顯示區(qū)和透光顯示區(qū)，所述主顯示區(qū)至少部分包圍所述透光顯示區(qū)，所述顯示面板還包括：

3、基板；

4、透明導電層，位于所述基板的一側(cè)，所述透明導電層包括第一透明導線和第二透明導線；所述第一透明導線位于所述主顯示區(qū)，所述第二透明導線位于所述透光顯示區(qū)；

5、第一金屬層，位于所述第一透明導線遠離所述基板的一側(cè)，所述第一金屬層包括第一金屬走線，所述第一金屬走線位于所述主顯示區(qū)且與所述第一透明導線電連接；

6、子像素，位于所述第一金屬層遠離所述基板的一側(cè)，且位于所述主顯示區(qū)和所述透光顯示區(qū)；其中，位于所述主顯示區(qū)的所述子像素與所述第一金屬走線電連接，位于所述透光顯示區(qū)的所述子像素與所述第二透明導線電連接。

7、在其中一種實施方式中，所述第一金屬走線靠近所述基板的一側(cè)與所述第一透明導線背離所述基板的一側(cè)接觸連接，所述第一透明導線在所述第一金屬走線在所述基板上的正投影范圍內(nèi)；

8、優(yōu)選地，所述第一透明導線在所述基板上的正投影與所述第一金屬走線在所述基板上的正投影重疊。

9、在其中一種實施方式中，所述顯示面板還包括：

10、隔離結構，位于所述基板的一側(cè)，所述隔離結構圍合形成隔離開口和透光開口；

11、所述隔離開口位于所述主顯示區(qū)和所述透光顯示區(qū)，至少部分所述子像素位于所述隔離開口內(nèi)；

12、所述透光開口位于所述透光顯示區(qū)，所述透光開口在所述基板上的正投影與所述第二透明導線在所述基板上的正投影存在交疊。

13、在其中一種實施方式中，所述顯示面板還包括位于所述隔離結構朝向所述基板一側(cè)的絕緣層，所述絕緣層覆蓋所述第一金屬層，位于所述主顯示區(qū)的所述絕緣層開設有至少一個第一連接過孔，位于所述透光顯示區(qū)的所述絕緣層開設有至少一個第二連接過孔；

14、其中，所述主顯示區(qū)的子像素通過所述第一連接過孔與所述第一金屬走線連接，所述透光顯示區(qū)的子像素通過所述第二連接過孔與所述第二透明導線電性連接；

15、優(yōu)選地，所述第一連接過孔和所述第二連接過孔在所述基板上的正投影位于所述隔離結構在所述基板上的正投影范圍內(nèi)。

16、在其中一種實施方式中，所述顯示面板還包括位于所述透明導電層靠近所述基板一側(cè)的第二金屬層，所述絕緣層包括沿遠離所述基板的一側(cè)依次設置的第一絕緣層和第二絕緣層，所述透明導電層位于所述第一絕緣層背離所述基板的一側(cè)，所述第一絕緣層位于所述第二金屬層背離所述基板的一側(cè)；

17、優(yōu)選地，所述第一絕緣層上設置有第三連接過孔，所述第一透明導線通過所述第三連接過孔與所述第二金屬層中的至少部分第五金屬走線電性連接；

18、優(yōu)選地，所述第一連接過孔在所述基板上的正投影與所述第三連接過孔在所述基板上的正投影互不交疊。

19、在其中一種實施方式中，所述子像素包括在所述基板上依次疊置的第一電極、發(fā)光功能層和第二電極，所述隔離開口暴露出部分所述第一電極，所述發(fā)光功能層和所述第二電極位于所述隔離開口中；

20、所述隔離結構包括支撐部和冠部，所述冠部位于所述支撐部遠離所述基板的一側(cè)，所述支撐部靠近所述冠部的一端在所述基板上的正投影位于所述冠部在所述基板上的正投影之內(nèi)；所述支撐部與所述第二電極電性連接；

21、其中，位于所述主顯示區(qū)的所述第一電極與所述第一金屬走線以及所述第一透明導線電性連接，位于所述透光顯示區(qū)的多個所述第一電極之間通過所述第二透明導線電性連接。

22、在其中一種實施方式中，位于所述透光顯示區(qū)的所述透明導電層還包括第三透明導線，所述第三透明導線與相鄰所述隔離結構的支撐部均電性連接；

23、所述第一金屬層還包括第二金屬走線和第三金屬走線，所述第二金屬走線和所述第三金屬走線位于所述透光顯示區(qū)，所述第二金屬走線與所述第二透明導線電性連接，所述第三金屬走線位于所述透光顯示區(qū)，所述第三金屬走線與所述第三透明導線電性連接；

24、優(yōu)選地，所述第二金屬走線連接于所述第二透明導線與所述子像素的第一電極之間；

25、優(yōu)選地，所述第三金屬走線連接于所述第三透明導線與所述隔離結構的支撐部之間。

26、在其中一種實施方式中，所述第二金屬走線在所述基板上的正投影位于所述透光開口在所述基板上的正投影外部；

27、所述第三金屬走線在所述基板上的正投影位于所述透光開口在所述基板上的正投影外部。

28、在其中一種實施方式中，所述顯示面板還包括：

29、像素定義層，位于所述絕緣層背離所述基板的一側(cè)，所述隔離結構位于所述像素定義層遠離所述絕緣層的一側(cè)，所述像素定義層限定有與所述隔離開口對應連通的像素開口，所述第一電極至少部分暴露于所述像素開口；

30、所述隔離開口在所述基板上的正投影位于所述像素開口在所述基板上的正投影范圍內(nèi)。

31、在其中一種實施方式中，所述顯示面板還包括：

32、像素定義層，位于所述絕緣層背離所述基板的一側(cè)，位于所述透光顯示區(qū)的所述隔離結構通過所述像素定義層和所述絕緣層的套孔與所述第三透明導線電性連接；

33、優(yōu)選的，所述絕緣層包括沿遠離所述基板的一側(cè)依次設置的第一絕緣層和第二絕緣層，所述第三透明導線位于所述第一絕緣層背離所述基板的一側(cè)，所述套孔位于所述像素定義層和所述第一絕緣層。

34、在其中一種實施方式中，所述第一金屬層包括沿遠離所述基板的一側(cè)依次設置的第一導電層、第二導電層和第三導電層；

35、第一金屬走線包括位于所述第一導電層的第一導電部、位于所述第二導電層的第二導電部和位于所述第三導電層的第三導電部；

36、優(yōu)選地，所述第一導電層的材料包括鈦，所述第二導電層的材料包括鋁，所述第三導電層的材料包括鈦。

37、基于同樣的發(fā)明構思，本技術還提供了一種顯示面板，其包括：

38、基板，

39、透明導電層，位于所述基板的一側(cè)，所述透明導電層包括第一透明導線；

40、第一金屬層，位于所述透明導電層遠離所述基板的一側(cè)，所述第一金屬層包括第一金屬走線，所述第一金屬走線與所述第一透明導線電連接；

41、隔離結構，設置于所述基板的一側(cè)，所述隔離結構圍合形成隔離開口；

42、子像素，至少部分設置于所述隔離開口內(nèi)，至少部分子所述子像素與所述第一金屬走線電連接。

43、在其中一種實施方式中，所述顯示面板包括顯示區(qū)和透光顯示區(qū)，所述第一金屬走線位于所述顯示區(qū)，所述透明導電層還包括位于所述透光顯示區(qū)的第二透明導線；

44、位于所述透光顯示區(qū)的所述子像素與所述第二透明導線連接；

45、優(yōu)選地，位于所述透光顯示區(qū)內(nèi)，至少兩個具有相同發(fā)光顏色的所述子像素通過所述第二透明導線相連接。

46、在其中一種實施方式中，所述第一金屬層包括沿遠離所述基板的一側(cè)依次設置的第一導電層、第二導電層和第三導電層；

47、第一金屬走線包括位于所述第一導電層的第一導電部、位于所述第二導電層的第二導電部和位于所述第三導電層的第三導電部；

48、優(yōu)選地，所述第一導電層的材料包括鈦，所述第二導電層的材料包括鋁，所述第三導電層的材料包括鈦。

49、基于同樣的發(fā)明構思，本技術還提供了一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板包括主顯示區(qū)和透光顯示區(qū)，所述主顯示區(qū)至少部分包圍所述透光顯示區(qū)，所述制備方法包括：

50、在基板的一側(cè)制作透明導電層，在所述透明導電層上制作第一金屬層；

51、圖案化所述第一金屬層，形成位于所述主顯示區(qū)的第一金屬走線和位于所述透光顯示區(qū)的第四金屬走線；

52、去除所述第四金屬走線，并在所述透明導電層形成第一透明導線和第二透明導線；其中，所述第一透明導線位于所述主顯示區(qū)，且位于所述第一金屬走線靠近所述基板的一側(cè)；所述第二透明導線位于所述透光顯示區(qū)；

53、在所述第一金屬走線背離所述基板的一側(cè)形成多個子像素，所述主顯示區(qū)的所述子像素與所述第一金屬走線電連接，所述透光顯示區(qū)的所述子像素與所述第二透明導線電連接。

54、在其中一種實施方式中，所述圖案化所述第一金屬層，形成位于所述主顯示區(qū)的第一金屬走線和位于所述透光顯示區(qū)的所述第四金屬走線，包括：

55、在所述第一金屬層上涂覆光刻膠，對所述光刻膠進行曝光、顯影處理，形成位于所述主顯示區(qū)的第一金屬線圖案和位于所述透光顯示區(qū)的第二透明導線圖案，去除第二透明導線圖案覆蓋的光刻膠，以在所述第一金屬層形成第一金屬走線和第四金屬走線；

56、優(yōu)選地，所述第一金屬層包括在所述透明導電層上依次疊置的第一導電層、第二導電層和第三導電層；

57、所述去除所述第四金屬走線，并在所述透明導電層形成第一透明導線和第二透明導線，包括：

58、去除所述第四金屬走線上的光刻膠；

59、利用干法刻蝕工藝去除所述第四金屬走線中的所述第三導電層和部分的所述第二導電層；

60、利用濕法刻蝕工藝去除所述第四金屬走線中的其余部分的所述第二導電層，同時對所述透明導電層刻蝕形成所述第一透明導線和所述第二透明導線；

61、利用干法刻蝕工藝去除所述第四金屬走線中的所述第一導電層，同時去除所述第一金屬走線上的光刻膠。

62、在其中一種實施方式中，在所述去除所述第四金屬走線，并在所述透明導電層形成第一透明導線和第二透明導線，之后，所述方法還包括：

63、在所述基板的一側(cè)形成絕緣層，使所述絕緣層至少覆蓋所述第一金屬走線和所述第二透明導線；

64、在所述絕緣層上形成位于所述主顯示區(qū)的至少一個第一連接過孔和位于所述透光顯示區(qū)的至少一個第二連接過孔；其中，所述主顯示區(qū)的子像素通過所述第一連接過孔與所述第一金屬走線連接，所述透光顯示區(qū)的子像素通過所述第二連接過孔與所述第二透明導線電性連接；

65、優(yōu)選地，顯示面板還包括位于所述透明導電層靠近所述基板一側(cè)的第二金屬層，所述絕緣層包括沿遠離所述基板的一側(cè)依次設置的第一絕緣層和第二絕緣層，所述透明導電層位于所述第一絕緣層背離所述基板的一側(cè)，所述第二絕緣層位于所述第二金屬層背離所述基板的一側(cè)；

66、優(yōu)選地，所述第一絕緣層上設置有第三連接過孔，所述第一透明導線通過所述第三連接過孔與所述第二金屬層中的至少部分第五金屬走線電性連接；

67、優(yōu)選地，所述第一連接過孔在所述基板上的正投影與所述第三連接過孔在所述基板上的正投影互不交疊。

68、在其中一種實施方式中，在所述去除所述第四金屬走線，并在所述透明導電層形成第一透明導線和第二透明導線，之后，所述方法還包括：

69、在所述基板的一側(cè)制作隔離結構，使所述隔離結構圍合形成隔離開口和透光開口；其中，所述隔離開口位于所述主顯示區(qū)和所述透光顯示區(qū)，至少部分所述子像素位于所述隔離開口內(nèi)；所述透光開口位于所述透光顯示區(qū)，所述透光開口在所述基板上的正投影與所述第二透明導線在所述基板上的正投影存在交疊。

70、優(yōu)選地，在形成所述絕緣層與制作所述隔離結構，之間，所述方法還包括：

71、在所述絕緣層背離所述基板的一側(cè)形成像素定義層，所述隔離結構位于所述像素定義層遠離所述絕緣層的一側(cè)，所述像素定義層限定有與所述隔離開口對應連通的像素開口，所述子像素的第一電極至少部分暴露于所述像素開口；所述隔離開口在所述基板上的正投影位于所述像素開口在所述基板上的正投影范圍內(nèi)。

72、基于同樣的發(fā)明構思，本技術還提供了一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板包括主顯示區(qū)和透光顯示區(qū)，所述主顯示區(qū)至少部分包圍所述透光顯示區(qū)，所述制備方法包括：

73、在所述基板的一側(cè)制作鈍化層，在所述鈍化層上制作透明導電層；

74、在所述透明導電層上制作第一金屬層；

75、圖案化所述第一金屬層和所述透明導電層，形成位于所述主顯示區(qū)的第一金屬走線和位于所述透光顯示區(qū)的第四金屬走線，同時在所述透明導電層形成第一透明導線和第二透明導線；其中，所述第一透明導線位于所述主顯示區(qū)，且位于所述第一金屬走線靠近所述基板的一側(cè)；所述第二透明導線位于所述透光顯示區(qū)；

76、去除所述第四金屬走線；

77、在所述第一金屬走線背離所述基板的一側(cè)形成多個子像素，所述主顯示區(qū)的所述子像素與所述第一金屬走線電連接，所述透光顯示區(qū)的所述子像素與所述第二透明導線電連接。

78、基于同樣的發(fā)明構思，本技術還提供了一種顯示裝置，其包括上述的顯示面板。

79、與現(xiàn)有技術相比，本技術提供的顯示面板，通過第二透明導線將透光顯示區(qū)中的多個子像素連接在一起進行驅(qū)動，在子像素之間形成透明的導電路徑，可驅(qū)動子像素發(fā)光，還可保持透光顯示區(qū)的高透光率，既能維持透光顯示區(qū)中的導電需求，又能優(yōu)化透光率，滿足屏下攝像頭對高透過率的需求。另外，第一透明導線與第一金屬走線形成雙層導電結構進行信號傳遞，可以有效降低電阻和壓降，提高電流分布的均勻性，從而增強電路的性能和可靠性。同時，通過將透明導電層下移至第一金屬層靠近基板的一側(cè)，改善了透明導電層的過刻情況，解決了在透光顯示區(qū)中由透明導電層斷線而引起像素暗點的問題。