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顯示面板和顯示裝置的制作方法

文檔序號:41774271發布日期:2025-04-29 18:47閱讀:10來源:國知局
顯示面板和顯示裝置的制作方法

本技術涉及顯示,尤其涉及一種顯示面板和顯示裝置。


背景技術:

1、有機電致發光二極管(organic?light?emitting?diode,oled)顯示器因其自發光、廣視角、對比度高、較低耗電、極高反應速度、重量超輕薄、柔軟顯示、屏幕可卷曲、溫度適應性強、制造工藝簡單等優點,已成為了光電顯示技術領域的研究熱點。oled顯示器中發光像素的成膜方式主要有蒸鍍制程和溶液制程兩種。其中,蒸鍍制程已經應用于量產中,但是,由于蒸鍍制程的材料成本較高且材料利用率較低,導致oled顯示器的制作成本較高。溶液制程包括旋涂、噴墨打印、噴嘴涂覆法等,適用于聚合物材料和可溶性小分子材料,溶液制程的設備成本較低,可以降低oled顯示器的制作成本。

2、然而,采用噴墨打印工藝成膜發光像素時,由于打印墨水特性以及真空干燥設備干燥均一性的影響,導致成膜均勻性較差,影響發光像素的壽命和發光質量。


技術實現思路

1、本技術提供一種顯示面板和顯示裝置,以緩解采用噴墨打印工藝成膜發光像素時成膜均勻性較差的技術問題。

2、為解決上述問題,本技術提供的技術方案如下:

3、本技術實施例提供一種顯示面板,其包括顯示區以及位于所述顯示區至少一側的非顯示區,所述顯示面板還包括:

4、基板;

5、發光材料層,設置在所述基板上,所述發光材料層包括形成在所述顯示區的多個發光像素單元、以及形成在所述非顯示區的至少一個虛擬像素單元;

6、其中,所述虛擬像素單元的面積大于所述發光像素單元的面積,所述虛擬像素單元的最大成膜高度差小于所述發光像素單元的最大成膜高度差。

7、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述虛擬像素單元的最大成膜高度差是所述發光像素單元的最大成膜高度差的0.5倍及以下。

8、在本技術實施例提供的顯示面板中,單個所述虛擬像素單元的面積是單個所述發光像素單元的面積的3倍及以上。

9、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述虛擬像素單元的最大成膜高度差小于50納米。

10、在本技術實施例提供的顯示面板中,多個所述發光像素單元包括第一顏色發光像素單元、第二顏色發光像素單元以及第三顏色發光像素單元,所述第一顏色發光像素單元為紅色發光像素單元,所述第二顏色發光像素單元為綠色發光像素單元,第三顏色發光像素單元為藍色發光像素單元;

11、所述第二顏色發光像素單元的最大成膜高度差小于所述第一顏色發光像素單元的最大成膜高度差,且所述第二顏色發光像素單元的最大成膜高度差小于所述第三顏色發光像素單元的最大成膜高度差;

12、其中,所述第一顏色發光像素單元、所述第二顏色發光像素單元以及所述第三顏色發光像素單元中任意兩者的最大成膜高度差的差值小于30納米。

13、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述非顯示區包括相對設置的第一子區和第二子區,所述顯示區鄰接所述第一子區和所述第二子區,所述第一子區和所述第二子區內均設置有所述虛擬像素單元,所述第一子區內的所述虛擬像素單元與所述第二子區內的所述虛擬像素單元呈中心對稱;多個所述發光像素單元在第一方向上排布呈發光像素行,多個所述發光像素單元在第二方向上排布呈發光像素列,所述第一方向和所述第二方向相交設置,所述發光像素單元在所述第一方向上的長度大于在所述第二方向上的長度,在所述第二方向上,所述發光像素行位于所述第一子區和所述第二子區之間。

14、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述非顯示區還包括相對設置的第三子區和第四子區,所述第三子區和所述第四子區均位于所述第一子區和所述第二子區之間,所述第三子區和所述第四子區內均設置有所述虛擬像素單元,所述第三子區內的所述虛擬像素單元與所述第四子區內的所述虛擬像素單元呈中心對稱,所述第一子區、所述三子區、所述第二子區以及所述第四子區內的所述虛擬像素單元圍繞所述顯示區。

15、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述第一子區內的所述虛擬像素單元在所述第一方向上的長度大于在所述第二方向上的長度,所述第三子區內的所述虛擬像素單元在所述第一方向上的長度小于在所述第二方向上的長度;

16、所述第一子區內的所述虛擬像素單元在所述第二方向上的最大成膜高度差小于所述發光像素單元在所述第二方向上的最大成膜高度差;

17、所述第三子區內的所述虛擬像素單元在所述第一方向上的最大成膜高度差小于所述發光像素單元在所述第二方向上的最大成膜高度差;

18、所述第一子區和所述第三子區內均設置有多個所述虛擬像素單元,多個所述虛擬像素單元在所述第一方向上排布呈虛擬像素行,多個所述虛擬像素單元在所述第二方向上排布呈虛擬像素列。

19、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述第一子區和所述第三子區內均設置有多個所述虛擬像素單元,在所述第一子區內,多個所述虛擬像素單元包括在所述第一方向上排布的第一類虛擬像素單元和第二類虛擬像素單元,所述第二類虛擬像素單元位于所述第一子區與所述第三子區的連接處;在所述第三子區內,多個所述虛擬像素單元包括在所述第二方向上排布的多個第三類虛擬像素單元;

20、在所述第二方向上,所述第三類虛擬像素單元的寬度小于所述第一類虛擬像素單元的寬度,且小于所述第二類虛擬像素單元的寬度,所述第二類虛擬像素單元的寬度大于所述第一類虛擬像素單元的寬度;

21、所述第三類虛擬像素單元的最大成膜高度差大于第一類虛擬像素單元的最大成膜高度差,且所述第三類虛擬像素單元的最大成膜高度差大于第二類虛擬像素單元的最大成膜高度差。

22、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述顯示面板還包括:

23、第一堤壩,設置在所述基板上,并位于所述顯示區;

24、第二堤壩,設置在所述基板上,并跨過所述第一堤壩,與所述第一堤壩圍成第一開口,所述發光像素單元位于所述第一開口內,并與所述第一開口一一對應設置;

25、其中,所述第二堤壩自所述顯示區延伸至所述非顯示區,并在所述非顯示區形成第二開口,所述虛擬像素單元位于所述第二開口內,并與所述第二開口一一對應設置。

26、在本技術實施例提供的顯示面板中,在所述顯示面板的厚度方向上,所述第二堤壩的厚度大于所述第一堤壩的厚度,且位于所述非顯示區的所述第二堤壩的厚度大于位于所述顯示區的所述第二堤壩的厚度。

27、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述顯示面板還包括:

28、第一電極層,設置在所述基板和所述發光材料層之間,所述第一電極層包括形成在所述顯示區的多個第一電極、以及形成在所述非顯示區的虛擬電極,所述發光像素單元與所述第一電極一一對應設置,所述虛擬像素單元與所述虛擬電極一一對應設置;

29、第二電極層,設置在所述發光材料層遠離所述基板的一側;

30、其中,所述基板包括形成在所述顯示區的第一晶體管、以及形成在所述非顯示區的第二晶體管,所述第一晶體管與所述第一電極對應設置,且所述第一電極與所述第一晶體管電連接,所述第二晶體管與所述虛擬電極對應設置,且所述虛擬電極與所述第二晶體管電隔離。

31、本技術實施例還提供一種顯示面板,所述顯示面板包括:

32、基板;

33、發光材料層,設置在所述基板上,所述發光材料層包括多個發光像素單元,多個所述發光像素單元包括第一顏色發光像素單元、第二顏色發光像素單元以及第三顏色發光像素單元,所述第一顏色發光像素單元為紅色發光像素單元,所述第二顏色發光像素單元為綠色發光像素單元,第三顏色發光像素單元為藍色發光像素單元;

34、其中,所述第二顏色發光像素單元的最大成膜高度差小于所述第一顏色發光像素單元的最大成膜高度差,且所述第二顏色發光像素單元的最大成膜高度差小于所述第三顏色發光像素單元的最大成膜高度差。

35、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述第一顏色發光像素單元的最小成膜高度大于所述第二顏色發光像素單元的最小成膜高度,所述第二顏色發光像素單元的最小成膜高度大于所述第三顏色發光像素單元的最小成膜高度;

36、所述第一顏色發光像素單元的最大成膜高度大于所述第二顏色發光像素單元的最大成膜高度,所述第二顏色發光像素單元的最大成膜高度大于所述第三顏色發光像素單元的最大成膜高度。

37、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述第一顏色發光像素單元的最小成膜高度大于所述第二顏色發光像素單元的最大成膜高度,所述第二顏色發光像素單元的最小成膜高度大于所述第三顏色發光像素單元的最大成膜高度。

38、在本技術實施例提供的顯示面板中,所述第一顏色發光像素單元、所述第二顏色發光像素單元以及所述第三顏色發光像素單元中任意兩者之間的最大成膜高度差小于10納米。

39、本技術實施例還提供一種顯示裝置,其包括前述實施例其中之一所述的顯示面板。

40、本技術的有益效果為:本技術提供的顯示面板和顯示裝置中,顯示面板包括顯示區以及位于所述顯示區至少一側的非顯示區,顯示區設置有多個發光像素的單元,非顯示區設置有至少一個虛擬像素單元,所述虛擬像素單元的面積大于顯示區的發光像素單元的面積,所述虛擬像素單元的最大成膜高度差小于所述發光像素單元的最大成膜高度差,如此,在采用噴墨打印成膜發光材料層時,形成大面積的虛擬像素單元的區域能夠容納較多的打印墨水,以在該區域營造大量的溶劑氛圍來消除真空干燥不均勻的影響,進而提高顯示區內發光像素單元成膜的均勻性。或者,所述顯示面板包括多個發光像素單元,多個所述發光像素單元包括第一顏色發光像素單元、第二顏色發光像素單元以及第三顏色發光像素單元,所述第一顏色發光像素單元為紅色發光像素單元,所述第二顏色發光像素單元為綠色發光像素單元,第三顏色發光像素單元為藍色發光像素單元,其中,所述第二顏色發光像素單元的最大成膜高度差小于所述第一顏色發光像素單元的最大成膜高度差,且所述第二顏色發光像素單元的最大成膜高度差小于所述第三顏色發光像素單元的最大成膜高度差,以提高發光像素單元成膜的均勻性。

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