本公開涉及一種紫外線照射裝置。

背景技術：

1、專利文獻1公開了一種紫外線照射裝置。紫外線照射裝置包括：將深紫外區域的照射光照射到被照射面的光源、和控制光源工作的驅動電路。驅動電路以不進行照射光的照射的期間不超過三天的方式使光源間歇地工作。

2、現有技術文獻

3、專利文獻

4、專利文獻1：日本公開專利公報特開2020－202916號公報

技術實現思路

1、－發明要解決的技術問題－

2、但是，在由于照射光(紫外線)的照射量不充分而導致在紫外線的照射期間內未能充分地對霉菌進行殺菌的情況下，在不被照射光照射的期間中，霉菌有可能會繁殖。

3、本公開的目的在于：提供一種能夠抑制菌類繁殖的紫外線照射裝置。

4、－用于解決技術問題的技術方案－

5、第一方面的紫外線照射裝置用于進行除菌。紫外線照射裝置包括照射部11和控制部13，所述照射部11照射紫外線，所述控制部13以反復地進行第一模式m1和第二模式m2的方式控制所述照射部11，在所述第一模式m1下，使所述照射部11以規定期間內每單位面積上的紫外線的照射量小于基準照射量的方式照射紫外線，在所述第二模式m2下，使所述照射部11以所述規定期間內每單位面積上的紫外線的照射量為所述基準照射量以上的方式照射紫外線。

6、在第一方面中，能夠抑制菌類繁殖。

7、第二方面在第一方面的基礎上，在所述第一模式m1下，由所述照射部11間歇且多次地進行紫外線的照射。

8、在第二方面中，通過減少照射部11的工作時間，由此能夠延長照射部11的壽命。

9、第三方面在第一方面的基礎上，在所述第一模式m1下，由所述照射部11連續地進行紫外線的照射。

10、在第三方面中，在處于第一模式m1時能夠穩定地抑制霉菌繁殖。

11、第四方面在第一到第三方面中任一方面的基礎上，在所述紫外線的峰值波長為260nm以上且270nm以下，并且所述規定期間為一天的情況下，所述基準照射量為320mj/cm2，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值為80mj/cm2。

12、在第四方面中，能夠與紫外線的峰值波長相匹配地決定可有效地防止霉菌繁殖的紫外線的照射量。

13、第五方面在第一到第三方面中任一方面的基礎上，在所述紫外線的峰值波長為249nm以上且259nm以下，并且所述規定期間為一天的情況下，所述基準照射量為298mj/cm2，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值為74mj/cm2。

14、在第五方面中，能夠與紫外線的峰值波長相匹配地決定可有效地防止霉菌繁殖的紫外線的照射量。

15、第六方面在第一到第三方面中任一方面的基礎上，在所述紫外線的峰值波長為275nm以上且285nm以下，并且所述規定期間為一天的情況下，所述基準照射量為496mj/cm2，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值為124mj/cm2。

16、在第六方面中，能夠與紫外線的峰值波長相匹配地決定可有效地防止霉菌繁殖的紫外線的照射量。

17、第七方面在第一到第六方面中任一方面的基礎上，從進行所述第二模式m2開始到進行下一次所述第二模式m2為止的期間y的上限是基于所述第一模式m1下的所述照射量而設定的。

18、在第七方面中，能夠考慮到由處于第一模式m1時的照射量下的紫外線帶來的殺菌能力(能夠在多長期間內抑制住霉菌繁殖)，來決定進行第二模式m2的時刻。

19、第八方面在第四方面的基礎上，從進行所述第二模式m2開始到進行下一次所述第二模式m2為止的期間y為y1小時以下，在將所述第一模式m1下的一天的所述照射量設為x時，所述y1小時由以下的數學式1表示，

20、(數學式1)

21、y1＝0.45x+33。

22、在第八方面中，能夠將從進行第二模式m2開始到進行下一次第二模式m2為止的期間y的上限設為y1小時。

23、第九方面在第五方面的基礎上，從進行所述第二模式m2開始到進行下一次所述第二模式m2為止的期間y為y2小時以下，在將所述第一模式m1下的一天的所述照射量設為x時，所述y2小時由以下的數學式2表示，

24、(數學式2)

25、y2＝0.49x+33。

26、在第九方面中，能夠將從進行第二模式m2開始到進行下一次第二模式m2為止的期間y的上限設為y2小時。

27、第十方面在第六方面的基礎上，從進行所述第二模式m2開始到進行下一次所述第二模式m2為止的期間y為y3小時以下，在將所述第一模式m1下的一天的所述照射量設為x時，所述y3小時由以下的數學式3表示，

28、(數學式3)

29、y3＝0.29x+33。

30、在第十方面中，能夠將從進行第二模式m2開始到進行下一次第二模式m2為止的期間y的上限設為y3小時。

31、第十一方面在第一到第三方面中任一方面的基礎上，所述基準照射量是基于將照射到作為除菌對象的菌類上的紫外線的照射量、所述紫外線的峰值波長、被照射了所述紫外線的菌類的死亡率或滅活率對應起來的對應信息而設定的。

32、在第十一方面中，能夠基于對應信息設定基準照射量。

33、第十二方面在第一到第三方面中任一方面的基礎上，在紫外線的峰值波長為260nm以上且270nm以下，對菌類照射了紫外線后使菌類的死亡率或滅活率為90％的所述規定期間內每單位面積上的紫外線的照射量為a，對菌類照射了紫外線后使菌類的死亡率或滅活率為99.99％的所述規定期間內每單位面積上的紫外線的照射量為b的情況下，所述基準照射量被設定為b，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值被設定為a。

34、在第十二方面中，能夠考慮到紫外線的峰值波長和由紫外線帶來的菌類的死亡率或滅活率，來設定基準照射量和第一模式m1下的照射量的最低值。

35、第十三方面在第十二方面的基礎上，在紫外線的峰值波長為260nm以上且270nm以下的情況下，設從進行所述第二模式m2開始到進行下一次所述第二模式m2為止的期間y為y4小時以下，在將所述第一模式m1下的所述照射量設為x時，所述y4小時由以下的數學式4表示，α及β是峰值波長為260nm以上且270nm以下的紫外線在規定期間內每單位面積上的照射量，所述β比所述α多，f(α)是以照射量α照射了紫外線后能夠抑制住菌類繁殖的時間，f(β)是以照射量β照射了紫外線后能夠抑制住菌類繁殖的時間。

36、(數學式4)

37、y4＝a·x+b

38、a＝{f(β)－f(α)/(β－α)}

39、b＝f(α)－a·α。

40、在第十三方面中，能夠通過運算求出從進行第二模式m2開始到進行下一次第二模式m2為止的期間y。

41、第十四方面在第十三方面的基礎上，在紫外線的峰值波長為249nm以上且259nm以下的情況下，所述基準照射量被設定為b/1.08，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值被設定為a/1.08。

42、在第十四方面中，能夠基于由峰值波長為265nm時的紫外線帶來菌類的死亡率或滅活率，設定紫外線的峰值波長為249nm以上且259nm以下時的基準照射量和第一模式m1下的照射量的最低值。

43、第十五方面在第十四方面的基礎上，在紫外線的峰值波長為249nm以上且259nm以下的情況下，在設從進行所述第二模式m2開始到進行下一次所述第二模式m2為止的期間y為y5小時以下時，所述y5小時由以下的數學式5表示，

44、(數學式5)

45、y5＝a1·x+b1

46、a1＝{f(β/1.08)－f(α/1.08)/(β/1.08－α/1.08)}

47、b1＝f(α/1.08)－a·α/1.08。

48、在第十五方面中，能夠通過運算求出從進行第二模式m2開始到進行下一次第二模式m2為止的期間y。

49、第十六方面在第十三到第十五方面中任一方面的基礎上，在紫外線的峰值波長為275nm以上且285nm以下的情況下，所述基準照射量被設定為b/0.65，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值被設定為a/0.65。

50、在第十六方面中，能夠基于由峰值波長為265nm時的紫外線帶來菌類的死亡率或滅活率，設定紫外線的峰值波長為275nm以上且285nm以下時的基準照射量和第一模式m1下的照射量的最低值。

51、第十七方面在第十六方面的基礎上，在紫外線的峰值波長為275nm以上且285nm以下的情況下，在設從進行所述第二模式m2開始到進行下一次所述第二模式m2為止的期間y為y6小時以下時，所述y6小時由以下的數學式6表示，

52、(數學式6)

53、y6＝a2·x+b2

54、a2＝{f(β/0.65)－f(α/0.65)/(β/0.65－α/0.65)}

55、b2＝f(α/0.65)－a·α/0.65。

56、在第十七方面中，能夠通過運算求出從進行第二模式m2開始到進行下一次第二模式m2為止的期間y。

57、第十八方面在第一到第三方面中任一方面的基礎上，作為除菌對象的菌類包含鐮刀菌或青霉菌，在所述紫外線的峰值波長為260nm以上且270nm以下，并且所述規定期間為一天的情況下，所述基準照射量為48mj/cm2，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值為12mj/cm2。

58、在第十八方面中，能夠與菌類的種類相匹配地設定基準照射量和第一模式m1下的照射量的最低值。

59、第十九方面在第一到第三方面中任一方面的基礎上，作為除菌對象的菌類包含枝孢菌或曲霉菌，在所述紫外線的峰值波長為260nm以上且270nm以下，并且所述規定期間為一天的情況下，所述基準照射量為327mj/cm2，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值為82mj/cm2。

60、在第十九方面中，能夠與菌類的種類相匹配地設定基準照射量和第一模式m1下的照射量的最低值。