專利名稱：高位循環補釉施釉裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型提供一種高位循環補釉施釉裝置，具體是用于給陶瓷表面施釉的裝置。
背景技術：
目前陶瓷的局部定尺寸施釉工藝主要有兩種一種是先在半成品的施釉位置做上標記，然后將半成品浸入釉內，通過目測控制釉面是否達到標記處，然后取出完成施釉工序。另一種工藝是采用四道工序完成1、在半成品的施釉位置做上標記；2、以標記為界限，將不需要施釉的部分遮蓋住，形成隔離帶；3、將其浸入釉內，通過目測控制釉面漫過標記；4、取出晾干后取下遮蓋物。第一種工藝由于受人的目測和平衡能力所限，各產品的施釉高度也參差不齊，造成陶瓷產品外觀質量差，影響了產品的質量。第二種工藝雖然能保證施釉陶瓷產品的施釉高度一致，但工藝復雜，生產效率低，成本高。
實用新型內容本實用新型的目的是提供一種能克服上述缺陷、保證產品施釉位置準確、操作簡單、生產效率高的高位循環補釉施釉裝置。其技術內容為一種高位循環補釉施釉裝置，其特征在于包括上端敞口的回釉箱、施釉箱、注釉箱和釉泵，其中施釉箱套裝固定在回釉箱的底面上，其側壁上設置有水平儀，施釉箱內設置有深度尺，其底部設置有高度可調的支座，注釉箱位于施釉箱一側的上方，其底部經單向閥與施釉箱連通，釉泵的輸入端探入回釉箱的底部，其輸出端探入注釉箱內，回釉箱的底部設置有水平調節器。
所述的高位循環補釉施釉裝置，施釉箱的上端側壁上設置有進釉孔，經單向閥與注釉箱的底部連通。
所述的高位循環補釉施釉裝置，套裝固定在回釉箱底面上的施釉箱有多個，箱體的底部均設置有高度可調的支座，注釉箱與多個施釉箱經單向閥連通。
其工作原理為調整水平調節器配合水平儀觀察，使施釉箱處于水平狀態，調整支座高度配合深度尺，控制支座到施釉箱上端面的高度，即施釉的高度。將需要施釉的半成品垂直浸入施釉箱內其底部觸及支座，多余的釉溢出到回釉箱，保證施釉箱內的釉液始終保持在所需高度，恰好漫到半成品需要施釉的位置，然后取出晾干即可，完成一次施釉，迎接下一次施釉。溢出到回釉箱內的釉液由釉泵泵入注釉箱內，經單向閥補充施釉箱內的釉液。
本實用新型與現有技術相比，具有以下優點1、預先設定好施釉箱內對半成品的施釉高度，減少了人為因素，保證施釉陶瓷產品的施釉高度一致，施釉精度高，提高了產品施釉的外觀質量；2、工藝簡單，由原先的多道工序一次完成，生產效率高；3、設備結構簡單，易操作，成本大大降低，經濟效益高。


圖1是本實用新型實施例的結構示意圖；具體實施方式
1、回釉箱 2、施釉箱 3、注釉箱 4、釉泵 5、水平儀 6、深度尺 7、支座 8、單向閥 9、水平調節器 10、進釉孔 11、支架在圖1所示的實施例中施釉箱2套裝固定在回釉箱1的底面上，回釉箱1的底部設置有水平調節器9，施釉箱2的側壁上設置有水平儀5，調整水平調節器9配合水平儀5觀察，保證施釉箱2處于水平狀態。沿施釉箱2的側壁垂直設置有深度尺6，深度尺6的上端與水平儀5活動連接，施釉箱2的底部設置有高度可調的支座7，深度尺6與支座7配合，控制半成品施釉的高度。注釉箱3經支架11固定在施釉箱2一側的上方，其底部經單向閥8與施釉箱2側壁上的進釉孔10連通，釉泵4的輸入端探入回釉箱1的底部，其輸出端探入注釉箱3內，以便于將施釉箱2溢出到回釉箱1內的釉液抽到位于高處的注釉箱3，再經單向閥8控制流回施釉箱2，補充施釉箱2內的釉液，保證液面維持在所需高度，進而控制產品的施釉高度一致，提高產品施釉的外觀質量。
在實際操作中，也可以在回釉箱1內設置有多個的施釉箱2，各施釉箱2內均設置有高度可調的支座7，這樣同時就可以給多個產品施釉，提高了生產效率。
權利要求1.一種高位循環補釉施釉裝置，其特征在于包括上端敞口的回釉箱(1)、施釉箱(2)、注釉箱(3)和釉泵(4)，其中施釉箱(2)套裝固定在回釉箱(1)的底面上，其側壁上設置有水平儀(5)，施釉箱(2)內設置有深度尺(6)，其底部設置有高度可調的支座(7)，注釉箱(3)位于施釉箱(2)一側的上方，其底部經單向閥(8)與施釉箱(2)連通，釉泵(4)的輸入端探入回釉箱(1)的底部，其輸出端探入注釉箱(3)內，回釉箱(1)的底部設置有水平調節器(9)。
2.如權利要求1所述的高位循環補釉施釉裝置，其特征在于施釉箱(2)的上端側壁上設置有進釉孔(10)，經單向閥(8)與注釉箱(3)的底部連通。
3.如權利要求1所述的高位循環補釉施釉裝置，其特征在于套裝固定在回釉箱(1)底面上的施釉箱(2)有多個，箱體內的底部均設置有高度可調的支座(7)，注釉箱(3)與多個施釉箱(2)經單向閥(8)連通。
專利摘要本實用新型提供一種高位循環補釉施釉裝置，其特征在于包括上端敞口的回釉箱、施釉箱、注釉箱和釉泵，其中施釉箱套裝固定在回釉箱的底面上，其側壁上設置有水平儀，施釉箱內設置有深度尺，其底部設置有高度可調的支座，注釉箱位于施釉箱一側的上方，其底部經單向閥與施釉箱連通，釉泵的輸入端探入回釉箱的底部，其輸出端探入注釉箱內。該裝置由調整水平調節器配合水平儀觀察，使施釉箱處于水平狀態，調整支座高度配合深度尺，控制施釉的高度，減少了人為因素，保證施釉陶瓷產品的施釉高度一致，提高了產品施釉的外觀質量，且工藝簡單，由原先的多道工序合為一次完成，設備結構簡單，易操作，降低了產品成本，減少了次品率，提高了生產效率。
文檔編號C04B41/86GK2776976SQ20052008128
公開日2006年5月3日 申請日期2005年3月19日 優先權日2005年3月19日
發明者紀桂花, 于先進 申請人:山東理工大學