本實用新型涉及陶瓷電容器生產(chǎn)領(lǐng)域,特別是一種高壓陶瓷電容器瓷介質(zhì)芯片成型壓機。
背景技術(shù):
傳統(tǒng)的分立元件—陶瓷電容器以圓片形為主,這種結(jié)構(gòu)成型簡單、工藝成熟、操作簡便,便于批量化、規(guī)模化生產(chǎn)。但是對于高壓陶瓷電容器來說,主要考慮的是耐壓強度和標稱電容器盡可能高。而這兩者之間,恰恰是相互矛盾的。同等條件下:介質(zhì)越薄,電容量越大,耐壓強度越低,反之亦然。傳統(tǒng)的圓盤式陶瓷電容器體積相對大,不利于電力器件的組裝。
另外,陶瓷電容器成型時,容易產(chǎn)生毛刺或裂紋。后續(xù)絕緣涂覆時,當在相同涂覆下,由于毛刺或裂紋的存在,將使得陶瓷電容器的絕緣厚度差異大,也使得陶瓷電容器的耐壓強度降低。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本實用新型要解決的技術(shù)問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,而提供一種高壓陶瓷電容器瓷介質(zhì)芯片成型壓機,該高壓陶瓷電容器瓷介質(zhì)芯片成型壓機能自動沖壓高壓陶瓷電容器瓷介質(zhì)芯片,沖壓效率高,成型好,所沖壓出的瓷介質(zhì)芯片體積小,電容量大且不易產(chǎn)生裂紋或毛刺,耐壓強度高。
為解決上述技術(shù)問題,本實用新型采用的技術(shù)方案是:
一種高壓陶瓷電容器瓷介質(zhì)芯片成型壓機,瓷介質(zhì)芯片包括同軸設(shè)置的圓盤凹部和圓環(huán)凸部,圓盤凹部位于圓環(huán)凸部的內(nèi)部,圓環(huán)凸部的厚度為圓盤凹部厚度1.2~3倍,圓盤凹部的直徑為瓷介質(zhì)芯片的2/3~4/5;圓盤凹部的圓盤凹部和圓環(huán)凸部的交接處設(shè)置有圓弧,瓷介質(zhì)芯片為整體壓制成型。
成型壓機包括能夠轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)盤,旋轉(zhuǎn)盤沿周向均勻設(shè)置有若干個圓孔,每個圓孔內(nèi)放置有一個下模;下模包括圓環(huán)下凹部和向上凸起的圓盤下凸部。
旋轉(zhuǎn)盤沿旋轉(zhuǎn)方向依次設(shè)置有進料工位、沖壓工位和卸料工位。
進料工位上方設(shè)置有進料管。
沖壓工位的正上方設(shè)置有高度能夠升降的上模;上模包括圓環(huán)上凹部和向下凸起的圓盤上凸部。
圓盤上凸部和圓盤下凸部均與瓷介質(zhì)芯片的圓盤凹部相對應(yīng);圓環(huán)上凹部和圓環(huán)下凹部均與瓷介質(zhì)芯片的圓環(huán)凸部相對應(yīng)。
圓環(huán)下凹部與圓盤下凸部的交接處、以及圓環(huán)上凹部和圓盤上凸部的交接處設(shè)置有與圓弧相對應(yīng)的倒角。
圓盤上凸部上設(shè)置有豎向槽,豎向槽的底部設(shè)置有相貫通的橫向槽;豎向槽內(nèi)設(shè)置有彈簧,橫向槽內(nèi)設(shè)置有卸料板;彈簧的一端固定在豎向槽內(nèi),彈簧的另一端與卸料板固定連接;當彈簧壓縮時,卸料板的底部能與圓盤上凸部的底部相平齊。
圓盤下凸部內(nèi)設(shè)置有高度能夠升降的頂料桿。
卸料工位包括設(shè)置在旋轉(zhuǎn)盤一側(cè)的卸料推桿和卸料槽,卸料推桿能將卸料工位上的瓷介質(zhì)芯片推送至卸料槽上。
所述圓孔的數(shù)量為8個。
所述圓孔的數(shù)量為6個。
所述卸料槽傾斜設(shè)置在旋轉(zhuǎn)盤的一側(cè)。
所述卸料槽與水平面之間所呈的銳形夾角為30~60°。
本實用新型采用上述結(jié)構(gòu)后,能自動沖壓高壓陶瓷電容器瓷介質(zhì)芯片,沖壓效率高,成型好,所沖壓出的瓷介質(zhì)芯片體積小,電容量大且不易產(chǎn)生裂紋或毛刺,耐壓強度高。
附圖說明
圖1是本實用新型一種高壓陶瓷電容器瓷介質(zhì)芯片成型壓機的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2顯示了上模的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3顯示了下模的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4顯示了瓷介質(zhì)芯片的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖和具體較佳實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明。
如圖1至圖4所示,一種高壓陶瓷電容器瓷介質(zhì)芯片成型壓機,包括上模1、圓環(huán)上凹部11、圓盤上凸部12、豎向槽121、彈簧122、橫向槽123、卸料板124、下模2、圓環(huán)下凹部21、圓盤下凸部22、頂料桿221、旋轉(zhuǎn)盤3、圓孔31、沖壓工位32、進料工位33、進料管331、卸料工位34、卸料推桿341、卸料槽342、瓷介質(zhì)芯片4、圓環(huán)凸部41、圓盤凹部42和圓弧43等主要技術(shù)特征。
如圖4所示,瓷介質(zhì)芯片包括同軸設(shè)置的圓盤凹部和圓環(huán)凸部,圓盤凹部位于圓環(huán)凸部的內(nèi)部。
圓環(huán)凸部的厚度為圓盤凹部厚度1.2~3倍,優(yōu)選為1.2~2倍,進一步優(yōu)選為1.2~1.6倍。
圓盤凹部的直徑為瓷介質(zhì)芯片的2/3~4/5。
圓盤凹部和圓環(huán)凸部的交接處設(shè)置有圓弧,圓弧的角度優(yōu)選為15-60°,進一步優(yōu)選為45°。該圓弧的設(shè)置,能防止成型毛刺及裂紋的產(chǎn)生,壓制合格率高。
上述瓷介質(zhì)芯片為整體壓制成型。
圓盤凹部上能用于設(shè)置內(nèi)電極,圓環(huán)凸部上能用于設(shè)置外電極。
如圖1所示,成型壓機包括能夠轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)盤,旋轉(zhuǎn)盤沿周向均勻設(shè)置有若干個圓孔,每個圓孔內(nèi)放置有一個下模;如圖3所示,下模包括圓環(huán)下凹部和向上凸起的圓盤下凸部。
旋轉(zhuǎn)盤沿旋轉(zhuǎn)方向依次設(shè)置有進料工位、沖壓工位和卸料工位。
進料工位上方設(shè)置有進料管。
沖壓工位的正上方設(shè)置有高度能夠升降的上模。如圖2所示,上模包括圓環(huán)上凹部和向下凸起的圓盤上凸部。
圓盤上凸部和圓盤下凸部均與瓷介質(zhì)芯片的圓盤凹部相對應(yīng);圓環(huán)上凹部和圓環(huán)下凹部均與瓷介質(zhì)芯片的圓環(huán)凸部相對應(yīng)。
圓環(huán)下凹部與圓盤下凸部的交接處、以及圓環(huán)上凹部和圓盤上凸部的交接處設(shè)置有與圓弧相對應(yīng)的倒角。
圓盤上凸部上設(shè)置有豎向槽,豎向槽的底部設(shè)置有相貫通的橫向槽;豎向槽內(nèi)設(shè)置有彈簧,橫向槽內(nèi)設(shè)置有卸料板;彈簧的一端固定在豎向槽內(nèi),彈簧的另一端與卸料板固定連接;當彈簧壓縮時,卸料板的底部能與圓盤上凸部的底部相平齊。
圓盤下凸部內(nèi)設(shè)置有高度能夠升降的頂料桿。頂料桿優(yōu)選由設(shè)置在旋轉(zhuǎn)盤內(nèi)的電機所驅(qū)動。
卸料工位包括設(shè)置在旋轉(zhuǎn)盤一側(cè)的卸料推桿和卸料槽,卸料推桿能將卸料工位上的瓷介質(zhì)芯片推送至卸料槽上。
上述圓孔的數(shù)量優(yōu)選為8個或6個。
進一步,上述卸料槽傾斜設(shè)置在旋轉(zhuǎn)盤的一側(cè),卸料槽與水平面之間所呈的銳形夾角優(yōu)選為30~60°。
以上詳細描述了本實用新型的優(yōu)選實施方式,但是,本實用新型并不限于上述實施方式中的具體細節(jié),在本實用新型的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi),可以對本實用新型的技術(shù)方案進行多種等同變換,這些等同變換均屬于本實用新型的保護范圍。